[讨论]磁控溅射镀膜电子损伤 [复制链接]

各位大佬，磁控溅射镀膜过程中的电子损伤能用什么办法检测出来嘛，电子损伤有什么办法将其消除或者规避掉嘛？

是电子本身造成的损伤，还是二次电子造成的静电损伤？ /wPW2<|"X.  
有些问题属于小知识小窍门，网上问的到结果。 B4eV$~<  
有些问题属于别人花了很多钱开发出来的独有技术和工艺， V$g!#V  
属于保密范畴，网上是问不到结果的。 ^IqD^(Kb  

ouyuu:是电子本身造成的损伤，还是二次电子造成的静电损伤？ QPX3a8w*  
有些问题属于小知识小窍门，网上问的到结果。 m0N{%Mf-  
有些问题属于别人花了很多钱开发出来的独有技术和工艺， [bjP-p
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属于保密范畴，网上是问不到结果的。 l%#z  
 (2021-12-16 11:58)  DpIk$X  

+TN*6V{D  
好滴，谢谢。这个电子损伤主要是溅射沉积过程中产生的电子，包括二次电子，应该不包括静电。

这样…… xzBUm  
我这边只做过新柯隆，他们家是先溅射再氧化的。 ZdlQ}l#F  
氧化的时候多余的氧离子就可以把电子中和了，所以之前也没有关注过这种问题。 ddEV@2F  
你们能不能镀膜的时候加上一个氧化源？

ouyuu:这样…… r\$`e7d}!  
我这边只做过新柯隆，他们家是先溅射再氧化的。 h/..cVD,K  
氧化的时候多余的氧离子就可以把电子中和了，所以之前也没有关注过这种问题。 6)_h'v<|M  
你们能不能镀膜的时候加上一个氧化源？ (2021-12-24 11:13)  UP*5M  

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好滴，谢谢，这个加入氧化源是不是相当于反应溅射

hxn123:好滴，谢谢，这个加入氧化源是不是相当于反应溅射 (2021-12-28 23:10)  yZ,S$tSR  

*kt%.wPJ  
是的。