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摘要 F#_7m C 87EI<\mP VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 >]"5K<-1 %"
$.2O@ } oJ+2OepN TQK>w'L 介质目录中的斜光栅介质 ,
j,[4^ V_U$JKJ1= ) 0$7{3 r6]r+!63" 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 EA75
D&>I 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 mBc;^8I?23 Kv+E"2d 斜光栅介质的编辑对话框 %'`Dd {AIP\ ^`YSl*: /{7x|ay] 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 +n9&q#ah 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 $ sEe0 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 ({![ 斜光栅介质的编辑对话框 6luCi$bL P%pB]d.qpi ]G&?e9OA D8h?s 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 x:;8U i"&B 以下参数可用: Ym&_IOx - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) ;^}cZ - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) *v:+AE - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) FlVGi3 - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) S_c#{4n fLc<}DF 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 zfi{SO
l ]|Vm!Q 斜光栅介质的编辑对话框
Js^ADUy <6p{eGAQV 9jaYmY]~ z(1h ^.
为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 1P8$z:|~ 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 K*
[cJcY+ BT d$n!'$n 斜光栅介质的编辑对话框 x"AYt:ewuc ?\$77k s}|IRDpp Yz-b~D/=} nkN]z
^j 首先,必须选择涂层材料。 c~RElL 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 ?H*_:?=6 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 k qwS/s j?w7X?1( 斜光栅的编辑对话框 dP)8T 8l!S<RA dUjdQ ynP^|Ou \8Blq5n-O* 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 1f[!=p 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 kP8Ypw& X/gh>MJJ< 堆栈使用的评论 4,$x~m`N ZV;#ZXch S'3l<sY p[Q mGL%<4R, 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 $)7-wCl</ 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 /}M@
@W 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 "me Jn/ 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 Nu9mK OSkZW 斜光栅介质的采样配置 ZB ~D_S N{Is2Ia 斜光栅介质采样 xTAC&OCk^[ vRT1tOQ$ _Dk;U*2 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 $orhY D3gv 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 ?"sk"{ 在右边,显示了介质的预览。 >mt<`s 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 vhhsOga .}CPZ3y 0Y!Bb2m Y%wF;I1x 采样斜光栅#1 T+2?u.{I Z,u:g c+* /"/$1F%{ 6Ajiz_~U 采样斜光栅#2 J@yy2AZnO ]qv/+~Qs> ]Fjz+CGg 1~5={eI 采样斜光栅#3 # <&=ZLN L'['7 0n3O;=[aV B>~E6j7[Mp 采样斜光栅#4 5(DCq(\P* P7@qvg e#W@ep|n !})+WSs'"s 文档信息 O
gycP4z[ !5=3Y4bg1 5Z;Py"% a2YdkdjT :Eob"WH QQ:2987619807 -G*u2i_*
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