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摘要
BDT1qiC &8uq5uKg VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 Ce1^S[ ,XNz.+Ov 1-60gI1) ?Dk&5d^d 介质目录中的斜光栅介质 b7h0V4w elf2! o72G oUfs =h9&`iwiu 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 DkGC+Dw 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 n$}Cj}eju juQQ 斜光栅介质的编辑对话框 p$
%D 8(c,b *XZlnO #^fDKM 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 UFy"hJchO 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 oO8V0VE\ 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 L<**J\=7M 斜光栅介质的编辑对话框 X!%CYmIRb [vs5e3B) Wp<4F6C$@ UfnjhHu 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 2'zYrdem 以下参数可用: =N%;HfUD - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) !yQ# E2/A - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) E/</ - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) *u4h+P - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) =)GhrWeVi4 Z;bg;@r| 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 pIy+3&\e; Hki 斜光栅介质的编辑对话框 fH/J8< 9$pQ|e0tJ tz&oe |lOH
P A 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 #sK:q&/G` 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 [80L|?, * ,dM}B- 斜光栅介质的编辑对话框 .6m%/-whS yJJNr]oq pPNU0]/ ivKhzU+ `$*cW1 首先,必须选择涂层材料。 wua`e <" 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 CnT]uU 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 K(+ ~#$|-~ Ne)H*DT 斜光栅的编辑对话框 u"*@k^}( ep-~;? al9L+ruR $s*\yam?| 8R;)WlLu= 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 U&uop$/Cq 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 J1Ay^*qRU DRC2U%[ 堆栈使用的评论 ([y 2x.kd t<Iy`r71 u&HLdSHe HD1+0< +5|wd6 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 Ps@a@d"83 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 )zzK\I6/EQ 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 u dhj$:t 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 N<lO!x1[H* dy^Zlu`
f 斜光栅介质的采样配置 p,hDZea ,U\F<$O 斜光栅介质采样 ai!zb2j!E OaeGukhX& w^e5" og] 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 bT^6AtsJ 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 'rZYl Qm 在右边,显示了介质的预览。 [ &cCE 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 5.KhI <[ Z=P]UD 6 XZF8W Dp)5u@I 采样斜光栅#1 hx4X#_)v ^XsIQz[q ]m _<lRye >l & N 采样斜光栅#2 MlDWK_y_& ?pS,?>J f @+OX1-dd/w n&? --9r 采样斜光栅#3 \uT2)X( N ;<j[0~qp: >}& :y{z~ IQ$cLr-S 采样斜光栅#4 `Ap<xT0H YueYa#7z f@3?kM( 8|5ttdZ 文档信息 F}/tV7m WInfn f+' &!|' EW qhFWQ1W cZ6Zx] QQ:2987619807 R^DZ@[\iV
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