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内容简介： )sIzB C
8}oe))b 1.在VirtualLab中如何进行结构设计； }}Q h_(
@pvQci 2.在VirtualLab中如何导入和导出加工数据。 mtFC H
agoMsxI9 结构设计 Wf:X) S7 1) 点击 ，打开示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2 sn[<Lq
s Fk{Tv@Yz <!W9E M 2) 该示例文件包含处处振幅为1的纯粹的相位分布，默认为振幅视图. 点击 ，将默认的振幅视图转换为相位视图，点击“结构设计(Structure Design)”开始设计可产生该相位分布的对应结构 ! x-9A
P5XUzLV
L V:D?i#%,z 3) 进入(基于薄元近似)的纯相位透射结构设计系统窗口 N^`S'FVA
yYJ +vs 目标(Target)标签，可以选择将设计好的结构设计元件放在新的LPD中还是已有的LPD中 R,!a X"]| "5,Cy3 光学设置(Optical Setup)标签，在此标签中选择模式为透明板的高度轮廓(Height Profile of Transparent Plate)，并可选择基板介质(Substrate Medium)和元件周围的介质(Surrounding Medium)，同时可以确定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波长（Wavelength）。 Ki :98a$
iF##3H$c z5^Se!`5 光学界面参数(Interface Parameters)标签，在相位展开模式(Unwrapping Mode)中选择不展开(None)，以及不进行强制分层(Enforce Quantization),即不产生离散界面，并选择像素化的高度轮廓（最临近点插值）[Pixelated Height Profile (Nearest Neighbor Interpolation)]对取样光学界面进行插值 v>h c\H1P o9D#d \G  l
Hu8ADva
.Pe^u%J6F eZpi+BRS6 X =Y>9 导出加工数据 EffU-=?%!
noW wX 1) 在LPD中双击生成的元件，可见设计好的结构是以双界面元件(Double Interface Component，简称DIC)的形式保存的，而高度轮廓以取样光学界面（Sampled interface）的形式保存，点击编辑(Edit) & ~)1mnv.
S`spUq1o KH$o X\v 2) 进入取样光学界面的编辑(Edit Sampled Interface)窗口，在结构(Structure)标签上，选择临近点插值(Nearest Neighbor Interpolation)方法进行高度轮廓插值，并进行3D预览 QUdF `_U7
r)w]~)8 Ag] Hk % 3) 在取样光学界面预览(Preview of Sampled Interface)中，点击鼠标右键，选择精度(Accuracy)，将界面取样精度设置为5，提高取样光学界面的显示精度
TY#pj P^/e!%Ug C  h_t <Jl
:e4[isI 在一般(General)标签进行如下图所示的设置 `{@?O%UB !B*d ,_9 c 在输出参数(Export Parameters)标签上选择默认参数设置 ZnB|vf L?
7w|4BRL 在GDSII/CIF标签上选择默认设置，并点击Export导出加工数据 1'J|yq [~r Bnzb L5>.ku=T
导出加工数据列表 P-lE,X
JM YM}G d,). O }~ o>H a; 导入加工数据 x42m+5/
<j89HtCz 1) 点击 ，新建一个LPD，在LPD中选取单光学界面(Single Optical Interface)元件，以下简称SOI ,W<mz7Z(@
\Mod4 tQ YR/rN, 2) 双击SOI，进入其编辑窗口，点击加载(Load) U7cGr\eU u
c_bIadE { >/F,Z%! &q 3) 导入取样光学界面(Sampled Interface) 4#@zn 2l {-Y% wM8<i 4) 点击编辑(Edit)，进入取样光学界面编辑窗口，导入加工数据 ijWn,bj
jJCd2O] DJhCe==$v  gnSb)!i>z wrW7 68WR  as6YjE.Yy 6) 导入完成，观察3D视图 k
GzosUt
w;Na9tR  [Y]\sF;J A#j'JA>_
QQ：2987619807
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