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    [技术]JCMSuite应用—衰减相移掩模 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-09-15
    在本示例中，模拟了衰减相移掩模。 该掩模将线/空间图案成像到光刻胶中。 掩模的单元格如下图所示： n)/z0n!\  
    ]OhiYU4  
     7O2/z:$f  
    &;6`)M{*}  
    掩模的基板被具有两个开口的吸收材料所覆盖。在其中一个开口的下方，位于相移区域。 0|qAxR-  
     u]wZQl#-  
    由于这个例子是所谓的一维掩模(线/空间模式)，在xy平面中有一个2D仿真域。在源文件中设置3DTo2D = yes标签，以执行用户自定义传入方向的自动转换。启用此标记后，就可以描述传入区域，就好像光轴与Z轴重合一样。这允许统一设置2D和3D的掩模模拟项目。由于光线从基板下方进入，光线的传输方向为+Z方向。 R+:yVi[F]U  
     y8Ir@qp5  
    相位分布如下图所示： CZe ]kXNv  
    ;]puq  
     J( TkXNm  
    wo}H'Q}Hj  
    相移区域的影响清晰可见，导致开口上方光束的180度相位差。同时光场的S和P分量也显示出相位差： hW' )Sp  
    h f)?1z4  
     UXz<)RvB  
    yu {d! {6  
     X #dmo/L8  
    QQ：2987619807 OKZV{Gja  
     
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