切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • ZEMAX光学系统设计实战 Zemax光学设计从基础到实践 成像衍射光学元件设计及应用 现代光学与光子学技术
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    • 917阅读
    • 0回复

    [技术]JCMSuite应用—衰减相移掩模 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    在线infotek
    科学家
     
    发帖
    5267
    光币
    20579
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-09-15
    在本示例中，模拟了衰减相移掩模。 该掩模将线/空间图案成像到光刻胶中。 掩模的单元格如下图所示： {nWtNyJpS  
    )%W2XvG  
     *8HxJ+[,[  
    w9}IM149  
    掩模的基板被具有两个开口的吸收材料所覆盖。在其中一个开口的下方，位于相移区域。 F}mwQ%M  
     x}24?mP  
    由于这个例子是所谓的一维掩模(线/空间模式)，在xy平面中有一个2D仿真域。在源文件中设置3DTo2D = yes标签，以执行用户自定义传入方向的自动转换。启用此标记后，就可以描述传入区域，就好像光轴与Z轴重合一样。这允许统一设置2D和3D的掩模模拟项目。由于光线从基板下方进入，光线的传输方向为+Z方向。 Cd*C^cJU&z  
     @k;3$  
    相位分布如下图所示： .Zm }  
    Xm+3`$<  
     Y'":OW#oN  
    c_=zd6 b$S  
    相移区域的影响清晰可见，导致开口上方光束的180度相位差。同时光场的S和P分量也显示出相位差： &cejy>K  
    0|k[Wha#  
     "TCbO`mg  
    jYx(  
     f;6d/?=~  
    QQ：2987619807 |W[rywxx  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表