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    [技术]JCMSuite应用—衰减相移掩模 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-09-15
    在本示例中，模拟了衰减相移掩模。 该掩模将线/空间图案成像到光刻胶中。 掩模的单元格如下图所示： uT4|43< G  
    sqtz^K ROM  
     #$- E5R;x  
    Lr D@QBT  
    掩模的基板被具有两个开口的吸收材料所覆盖。在其中一个开口的下方，位于相移区域。 SXZ9+<\  
     *>KBDFI  
    由于这个例子是所谓的一维掩模(线/空间模式)，在xy平面中有一个2D仿真域。在源文件中设置3DTo2D = yes标签，以执行用户自定义传入方向的自动转换。启用此标记后，就可以描述传入区域，就好像光轴与Z轴重合一样。这允许统一设置2D和3D的掩模模拟项目。由于光线从基板下方进入，光线的传输方向为+Z方向。 r O$pj~!|Q  
      '2*OrY  
    相位分布如下图所示： "H).2{3(x  
    {]<c6*gQ  
     lQHF=Jex  
    :86:U 0^  
    相移区域的影响清晰可见，导致开口上方光束的180度相位差。同时光场的S和P分量也显示出相位差： 7>__ fQu  
    , :#bo]3  
     X!ruQem /  
    c\1X NPGG  
     |cf-S8pwY  
    QQ：2987619807  r!?ga  
     
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