为了方便大家精确主攻学某一部分的光学杂散光的知识，武汉墨光为此开展不同时间段，不同内容课程，此次课程分为基础、散射、鬼像、衍射四场培训，感兴趣小伙伴可以根据自己的需求选择上课，以下是四场课程内容大纲： NqD]p{ >Y 第一场：基础（9月27日） 7e"}ojt$ 1. 杂散光术语；
-UhpPw 6 3. 杂散光成因； =D 1 4. 杂散光影响、杂散光控制； T[\1=h] 5. 杂散光分析、评价方法、分析软件对比； q`<vY' &1 6. ASAP 杂散光分析流程、步骤。 ~q`!928Gu D3o,2E(o
&4?&tGi 第二场：散射（10月13日） ~c)&9' 1. 杂散光特性、散射模型； TQ"XjbhU;X 2. 消光漆/表面处理； ` Ig5*X4| 3. 光学表面污染； h:4(Gm; 4. 散射特性测量仪对比、重点区域采样； \|HtE(uCM1 5. 散射特征测试介绍、PST 测试介绍 m+c-"arIpA 6. 杂散光计算器、扩展面源杂散光分析； +CSp L2@ 7. 练习1-找关键和被照表面； xi (@\A 8. 练习2-散射模型拟合。 <i~xJi%1# NUsxMhP
D3Q+K 第三场：鬼像（10月28日） z D{]3pg 1.鬼像分析、光学设计中的杂散光控制； KIF9 [/P 2. 练习1-鬼像分析； 0Ui.nz j 3. 练习2-重点区域位置和大小计算； 7#LIG r 4. 练习3-杂散光路径分析; Sdq}?- &Sa 5. 练习4-红外系统自身热辐射分析。 *Soi # NM)
Cut~k"lv 第四场：衍射（11月12日 u zZ|0 1. 衍射杂散光； Nv5^2^Sc= 2. 辐射度学基础； D \ rns+ 3. 练习1-孔径衍射; x{R440" 4. 练习2-大角度衍射分析； ]Uv,}W 5. 练习3-日冕仪杂散光分析。 i~ u4v3 r= w.m8SvS&b
0z=KnQx"4 培训说明 v-8>@s jy8 四场培训都为线上直播培训，不同场次，不同内容课程培训内容作业练习跟踪，老师答疑每场培训结束后支持1个月录播回放观看 _pdKcE\X 1. 培训方安装最新正版软件（仅限培训期间使用）。2. 报名两场及以上者可以获得包邮赠送配套教材一本《杂散光抑制设计与分析》一本。3. 为保证课程质量，课程均采用小班授课模式。
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<9@n / 举办单位：武汉墨光科技有限公司 SEgw!2H 培训日期： RC_Pj) 第一场：2021年9月27日 8Ths"zwn （下午 14:00-17:00） yY$^
R|t 第二场：2021年10月13日 LLx0X
O@ （下午 14:00-17:00） {i t.F4. 第三场：2021年10月28日 IyO 0~Vx> （下午 14:00-17:00） lelmX 第四场：2021年11月12日 <'\Nv._2a （下午 14:00-17:00） h"[B zX 复制链接查看报名详情：https://mp.weixin.qq.com/s/X6-l1SIk_YqOA4NRhq1llQ
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