为了方便大家精确主攻学某一部分的光学杂散光的知识,武汉墨光为此开展不同时间段,不同内容课程,此次课程分为基础、散射、鬼像、衍射四场培训,感兴趣小伙伴可以根据自己的需求选择上课,以下是四场课程内容大纲: HA$7Q~{N-t
第一场:基础(9月27日) F_}y[Yn^
1. 杂散光术语; =L"I[
3. 杂散光成因; INCanE`+
4. 杂散光影响、杂散光控制; Mu" vj*F
5. 杂散光分析、评价方法、分析软件对比; Nb0T3\3W
6. ASAP 杂散光分析流程、步骤。 a*,V\l|6
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第二场:散射(10月13日) ;8]Hw a1!
1. 杂散光特性、散射模型; mCI5^%*0jQ
2. 消光漆/表面处理; s}^W2
3. 光学表面污染; W"~"R
4. 散射特性测量仪对比、重点区域采样; 4&L,QSJ V
5. 散射特征测试介绍、PST 测试介绍 tnXW7ej ^
6. 杂散光计算器、扩展面源杂散光分析; ARJtE@s6Y
7. 练习1-找关键和被照表面; DfOigLG*
8. 练习2-散射模型拟合。 N>j*{]OY+{
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第三场:鬼像(10月28日) FGo)]U
1.鬼像分析、光学设计中的杂散光控制; grd
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2. 练习1-鬼像分析; ;$r!eFY;
3. 练习2-重点区域位置和大小计算; !$-QWKD4
4. 练习3-杂散光路径分析; NUi&x