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分析高数值孔径物镜的聚焦
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楼主
发表于: 2021-06-28
摘要
Y^DS~CrM
1Q1NircJ
高数值孔径
物镜
广泛用于
光学
光刻、
显微镜
等。因此,在聚焦
模拟
中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头
的
光线
和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机
探测器
和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
(#x<qi,T
)N h67P3X"
) *Mr{`
"]h4L
建模任务
*ub]M3O
m?cC 0(6
fa7Z=:aG
3\_ae2GW
入射平面波
5u +U^D
波长
2.08 nm
feM%-
光斑直径: 3mm
T\7z87Q
沿x方向线偏振
6UK{0\0
_K"|}bM
如何进行整个
系统
的光线追迹分析?
`kb]tf
如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
\HX'^t`
qW*JB4`?a
概览
lnuf_;0
•样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
$D{KXkrd
•接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
H]&a}WQ_
G"w ?{W@
zUX%$N+w}>
光线追迹模拟
9gP-//L@
•首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
r}kQ<SRx
•点击Go!
EC(,-sz\Z
•获得3D光线追迹结果。
PwP;+R};|
K;,zE6WD$$
uYjE)"
DM {r<?V
光线追迹模拟
~uy{6U{&I
•然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
<vxj*M;
•单击Go!
Co[fq3iX#
•结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
*Ju$A
O.61-rp
]D(!ua5|x`
M-inlZNR
光场追迹模拟
t^eWFX
•切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
hBb&-/
•单击Go!
N-XOPwx'
5(BB`)
g<C_3ap/
=eG?O7z&
光场追迹结果(照相机探测器)
/{Ff)<Q.Z
ZlaU+Y(_[
•上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
*12,MO>go
•下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
UjCQ W:[
&5JTcMC^
lmmB =F
Gk~QgD/Pix
光场追迹结果(电磁场探测器)
mocR_3=Q?
Axb,{X[6g
•通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
zxN,ys
:cDhqBMNr`
,w>WuRN"
hf5yTs
b{T". @b
PL+r*M%ll
[C1.*Q+l
b6KO_s:'g
-+1_ 1!
5/U|oZM"
文件信息
Hn~=O8/2
]/byz_7]
iWCR5c=
;F>$\"aG
"J51\8G@@
-1\*}m%1e
QQ:2987619807
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