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摘要 H*3f8A&@s -vI?b# 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 lph3"a^ v@;:aN p2PD';" 建模任务 Z!C\n[R/ x{u_kepv[k !o*BRR* 结果 ]DdD
FLM k+44ud.j qFW-
~T 结果 M|FwYF^ YL&$cT]1 :7IL|bA< 结果 A\ze3fmV a=gTGG"9 ?]f+)tCMs 文件信息 C ^Tc9 *#Hi W) SY["(vP%#
QQ:2987619807
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