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摘要 k]<E1 c/ foOwJ }JU 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 V#Px #cRw0bn: AUk,sCxd 建模任务 L
=kc^dU TL?(0]Hfe mx'!I7b(L/ 结果 ~fDMzOd 'K9{xI@N 0gEtEH+ 结果 n4YedjHSN BV8-\R@ l-Q.@hG 结果 Y<vsMf_U RKY~[IQ, ,bQbj7 文件信息 SREe,
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