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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 5G}6;UY  
    ~KjJ\b)R  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 h4&;?T S  
    HCA{pR`  
    !Gs} tiMH  
    场景 cl[!`Z  
    <>SdVif]  
    L/}iy}  
    S{F-ttS"  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 /k\01hc`  
    = Je>`{J  
    系统构建块
    +,'T=Ic{  
    *ck}|RhR  
    t *6loS0+  
    `&7RMa4=  
    组件求解器 W-2i+g)  
    Zp`T  
    )yee2(S  
    'aJgLws*w  
    PY\PUMF>  
    -Q e~)7  
    系统构建块 ;uI~BV*3  
    HP2wtN{Zs  
    jdRq6U^  
    ,#u\l>&$  
    总结 O>r-]0DI[  
    a^nAZ  
    JXQPT  
    )-P!Ae_.v  
    几何光学仿真 Bl.u=I:Y4  
    通过光线追迹 dT@UK^\  
    vL_zvX A  
    结果:光线追迹 }F1s tDx  
    u4'z$>B  
    kN9yO5 h7  
    J}g~uW  
    快速物理光学仿真 :{g7lTM  
    通过场追迹 =WZ%H_oxi  
    I@7/jUO  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 HQVh+(  
    Y)HbxFF`/  
    $N+6h#  
    CDg AGy  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 q|#MB7e/  
    _+QwREP  
    E{^^^"z P  
    9Ld9N;rWm#  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 a% ,fXp>  
    DQ6jT@ZDH  
    Ub)I66  
    D5]{2z}k  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 [, f)9v)  
    /0==pLa4  
    I lG:X)V%  
    0Oxz3r%}r  
    总结 ~t/JCxa  
    ?X_V#8JK  
    ," R>}kPli  
    Lyoor1   
    文件信息  WR.x&m>  
    qc8Ta"  
    \2DE ==M)P  
    Q7Ij4  
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    QQ:2987619807 %`\]Y']R  
     
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