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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 .E(Ucnz/  
    2cL<`  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 #"l=Lv  
    t"Rn#V\c."  
    3c)xNXq m  
    场景 CAfG3;  
    p6p_B   
    7-)KTBFL  
    * -)aGL  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 udMq>s;  
    }/|1"D  
    系统构建块
    <#sK~G  
    I~,*Rgv/Z  
    (Q&Z/Fe  
    V0>,Kxk  
    组件求解器 occ}|u  
    q-'zZ#  
    tP3Upw"U  
    kN )P-![  
    :v#3;('7  
    -4.+&'  
    系统构建块 $P$OWp?b  
    t5S S]  
    6v-h!1p{u  
    [1Rs~T"  
    总结 tG'c79D\  
    sNWj+T  
    iVE+c"c!2&  
    +NQw ^!0qy  
    几何光学仿真 1:?Wv DN=  
    通过光线追迹 D?$f[+  
    RaR$lcG+iY  
    结果:光线追迹 ral0@\T  
    k7?(I U  
    xGjEEBL  
    rc"yEI-``"  
    快速物理光学仿真 TWMD f  
    通过场追迹 O3S_P]{*ny  
    ."${.BPn~  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 @l 1 piz8  
    Y%2<}3P  
    uv,t(a.^  
    vb# d%1b5  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 l&zd7BM9(  
    Jf 2  
    !I@"+oY<  
    7P=j2;7 v  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 pl5!Ih6  
    vNP,c]:%  
    IYd)Vv3'j  
    )!'SSVaRs  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 OX!9T.j  
    e(sQgtM6  
    t ;(kSg.  
    N]gdS]pP2{  
    总结 dAR):ZKq?  
    +PjH2  
    mjf U[2  
    bEbnZ<kz*  
    文件信息 `zF=h#i  
    0]&~ddL  
    Ie4}F|#=  
    B+ +:7!  
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    QQ:2987619807 ,u/GA<'#M  
     
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