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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 nNSq6 Cj  
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    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 =EA*h_"q9  
    UpF,e>s  
     Cdin"  
    场景 J'G 6Z7  
    RLu y;z  
     \25Rq/&w  
     W>.KV7  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 /bjyV]N  
    w4\b^iJz  
    系统构建块     5A g 4o  
    NuRxkeEO  
     ,edX;`#  
    Uf}s6#   
    组件求解器 xX.fN7[  
    |JC/A;ZH  
    D1}Bn2BM$  
    xc7Wk&{=  
    Q=}p P*  
    =;#+8w=^  
    系统构建块 h:\WW;s[B  
    a/A$ MXZ_  
     5V;BimI  
    2Dgulx5kGZ  
    总结 `md)|PSU  
    u(iEuF;7  
    KAVe~j"  
    8h  
    几何光学仿真 Y3KKskhLx  
    通过光线追迹 N/IDj2C4  
     DC4O@"  
    结果：光线追迹 Y7g^ ?6  
    Jn!-Wa,  
     =m]|C1x  
    ye !}hm=w  
    快速物理光学仿真 Z Z|a`U  
    通过场追迹 nQm7At  
     *S,5  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 pm`BMy<5PU  
    YL*yiZ9  
     Jm0o[4  
    I.#V/{J  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 CEbZj z|  
    ^~\cx75D  
     Ldqn<wNnI  
    m?wPZ^u  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 _gDEIoBp  
    |Rk9W  
    v w(X9xa  
    )*6 ]m1  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 kC:GEY<N:Q  
    hdW}._  
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    -36pkC 6 \  
    总结 k/'>,WE  
    &USKudXmb  
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    vxN,oa{hf  
    文件信息 +q*Cw>t /  
    _p <]jt  
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    Lmp_8q-Ej  
     (tY0/s  
    QQ：2987619807 _d<xxF^q  
     
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