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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 6B!j(R  
    priT 7!  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 /I`bh  
    !?us[f=g%  
    o\=i0HR9  
    场景 .5#tB*H  
    `lV  
    f2SU5e2  
    +UpMMh q  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 c],frhmyd  
    AD!<%h:  
    系统构建块
    J6^Ct  
    08d_DCR  
    SCt=OdP=  
    iz%A0Z+`bg  
    组件求解器 35N/v G0  
    %M0mwty]  
    x(/@Pt2B  
    $ <>EwW  
    yBD2  
    H2FFw-xW  
    系统构建块 #pm-nU%|_j  
    "o5gQTwb  
    l:5CM[mZ  
    057G;u/  
    总结 nTlv'_Y(  
    z kX-"}$8  
    'Kso@St`o  
    &Lt$a_y>  
    几何光学仿真 afP&+ 5t@O  
    通过光线追迹 wMPw/a;  
    ==jw3_W  
    结果:光线追迹 ~b6<uRnM.  
    7)(`  
    :?:j$ =nWN  
    v<J;S9u=  
    快速物理光学仿真 U)I `:J+A  
    通过场追迹 N;`[R>Z~  
    g0:4zeL  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ";S*[d.2tA  
    ch,Zk )y:_  
    : ! iPn%  
    }fZ =T4r  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 PqJ*   
    c%LB|(@j{  
    :@@A  
    Pdm6u73  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 q V UUuyF  
    `F+x]<m!  
    9M7(_E;)B  
    rX>y>{w~  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 72`/xryY  
    3P^gP32  
    >pH775I=  
    Z/05 wB  
    总结 (8-lDoW  
    =@jMx^A"  
    ~~:8Yv[(  
    ;Y|~!%2~  
    文件信息 |Q)w3\S$  
    %M,d/4=P  
    7" STS7_  
    FvNSu"O~K1  
    R5;eR(24G  
    QQ:2987619807 JTh =JHJ  
     
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