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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 !19T=p/:$  
    mq{Z Q'  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 9#H0|zL  
    4=MVn  
    Ov" wcJ  
    场景 }[%F  
    qX&+  
    6cg,L:j#  
    v~RxtTu  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 BTsvL>Wy  
    H28-;>'`  
    系统构建块
    yO-2.2h  
    \*PE#RB#6  
    /XG7M=A$o  
    j gV^{8qG  
    组件求解器 TaF*ZT2  
    *K>2B99TXu  
    .KYs5Qu  
    TrZ!E`~  
    ]Vf p,"op  
    2w8YtM3+"z  
    系统构建块 [YQtX_;w  
    )1 @v<I  
    {\?f|mm q  
    e?\Od}Hbw  
    总结 DvN_}h^nX  
    Y&VypZ"G>  
    AU*]D@H  
    d+Mogku2  
    几何光学仿真 [L7S`Z  
    通过光线追迹 / /G&=i$  
    I9TNUZq('  
    结果:光线追迹 ~+\A4BW  
    5m;pHgkb  
    9U9ghWH8  
    >$<Q:o}^  
    快速物理光学仿真 r?`nc6$0|  
    通过场追迹 E=v4|/['N  
    q q^[(n  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 M#o=.,  
    : Q,O:  
    @8YuMD;  
    P^ -x  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 :U1V 2f'l3  
    R]kH$0`  
    ?`*`A9@  
    4pDZ +}p  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 !/F-EJOH6C  
    \  }-v  
    G4F~V't  
    }WQ:Rmi  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ;r;>4+zn\  
    Cn9MboXX  
    6yaWxpW  
    c1]\.s  
    总结 >03JQe_#*L  
    n[-d~Ce2{  
    0O q5;5  
    *!EHs04  
    文件信息 +c'I7bBr  
    @[(%b{TE;  
    gn 9CZ  
    |?fc]dl1]  
    %D^j7`Z  
    QQ:2987619807 _*(:6,8  
     
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