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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 -brn&1oJ  
    @zHTKi`  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 )|`# BC  
    w53+k\.  
    +$YluGEJ  
    场景 > $#v\8  
    9Fkzt=(E~  
     qrj:H4#VB  
    >**7ck  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 '{t&!M`  
    Y_}DF.>I P  
    系统构建块     Z\`i~  
    h!"| Q"18  
     PJCRvs|X  
    f[b x|6  
    组件求解器 7:h8b/9  
    ;DkX"X+  
    ftqi>^i  
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    "[*W=6m0  
    (RL5L=,u  
    系统构建块 ^@&RJa-kb  
    +])St3h  
     16p$>a<6  
    d4h, +OU  
    总结 {M5[gr%  
    whzV7RT  
    BAq@H8*B  
    FTihxC?.L  
    几何光学仿真 Vko1{$}t  
    通过光线追迹 )T=cd   
     fh1rmet&Ts  
    结果：光线追迹 f/r@9\x  
    \ >@'wl  
     k_2W*2'S  
    M=57 d7  
    快速物理光学仿真 xlqh,?'>W  
    通过场追迹 "v"w ER?  
     k-v@sb24_  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 9K>$  
    >l\?K8jL9  
     xJvM l`2;  
    !;YmLJk;hN  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 eQ}o;vJN  
    A&$oiLc  
     f2sv$#'  
    JVzU'd;1!  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 8H>: C (h  
    S z3@h"  
    fNVNx~E  
    >taC_f06  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 Ol,Tw=?  
    X0=#e54  
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    24TQl<H{  
    总结 (W<n<sl:-  
    F+Qp mVU  
    PD$g W`V  
    !,mv 7Yj  
    文件信息 `YDe<@6'  
    n$*'J9W~  
     k+au42:r  
    6#/Riu%  
     Ip/_uDi+!Z  
    QQ：2987619807 cG|ihG5)  
     
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