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    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 K;ocs?rk/  
    ++ZP X'|  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 EXsVZg"#  
    3BSZz%va  
    &2nICAN[  
    场景 ! u@JH`  
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     M8R/a[ -A  
    \]0#jI/:  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 y&V%xE/  
    mNlbiB  
    系统构建块     J"-/ok(<@  
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     9iV9q]($0  
    `! xI!Y\  
    组件求解器 6rM{r>  
    RivhEc1h%  
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    y;%\ w-.\  
    系统构建块 8JXS:J.|v  
    H43d[@h  
     -p"}K~lt:  
    yg6o#;  
    总结 J!}\v=Rn  
    x)pR^t7u8  
    FNs$k=* 8  
    "ZL_  
    几何光学仿真 Tb!FO"o  
    通过光线追迹 $b[Ha{9(v  
     ] &SmeTe  
    结果：光线追迹 Tz~a. h@  
    Q!r&vQ/g  
     [{>3"XJ'  
    KAi_+/]K_  
    快速物理光学仿真 Dw>)\\n{Kl  
    通过场追迹 :2V|(:^ '  
     ,4=mlte"  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 )%<,JD  
    x=-(p}0o;<  
     %{Obh j;c  
    }=B~n0  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 *\ B(-  
    '-mzt~zGOY  
     ,M:[GuXD<  
    JmeE}:5lpj  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 1!yd(p=cL  
    aPRMpY-YC3  
    S;u.Ds&  
    B)/c]"@89  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 J*_^~t  
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     +_25E.>ml  
    0~P]Fw^w  
    总结 mwMu1#  
    H?FiZy*[Y  
    ?2R!n" m-d  
    lANi$ :aE  
    文件信息 | O9b  
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     CpK:u! Dn  
    JpZ_cb`<E'  
     2bG92  
    QQ：2987619807 XfflD9M  
     
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