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    [分享]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-06-04
    摘要 jt5en;AA[  
    1,q&A RTS  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 K1]m:Y<  
    ea!_/Y  
    seO7/h_a  
    场景 \UZlFE  
    R]hilb'a  
    Kv3cKNvu~  
    vqDd][n  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 F"o K*s  
    ha_&U@w  
    系统构建块
    ZdQt!  
    %!Z9: +;B  
    TV#X@jQ  
    {T EF#iF  
    组件求解器 ^p3"_;p)h  
    }cUq1r-bW  
    RQ}0f5~t  
    _?Q0yVH;,  
    ? I7}4i7  
    >p"ytRu^  
    系统构建块 LDilrG)  
    tB-0wD=PR  
    i#c1 ZC  
    A#/O~-O^  
    总结 4H@:|  
    n1D,0+N=  
    "_!D b&AH  
    K1i@.`na/$  
    几何光学仿真 a B(_ZX'L  
    通过光线追迹 h+ixl#:  
    DbDi n  
    结果:光线追迹 z^;0{q,  
    UqJ}5{rt  
    $,Q0ay  
    PL*Mz(&bf  
    快速物理光学仿真 i|5.DhK}  
    通过场追迹 |ipL.<v7  
    4KH8dau.fF  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 \v|nRn,`-  
    V $'~2v{_  
    k'H+l]=  
    #m %ZW3  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 :2+,?#W  
    !h\>[O  
    wrtJ8O(  
    la37cG  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 Q)`3&b  
    ^t X}5i`P  
    ."HDUo2D7  
    dY|~"6d)  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 e+`LtEve0  
    w +pK=R  
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    ^r4@C2#vzJ  
    总结 H] i.\2z  
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    d2cslD d  
    DjzHEqiH  
    文件信息 AcRrk  
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    QQ:2987619807 )(^L *  
     
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