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摘要 VZ$=6CavH oBr.S_Qe 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 _5mc(' eqq`TT#Z 'l~6ErBSg 概述 r!7 Y'| cB#nsu> qz 9tr •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 ?>af'o: •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 Br}h/!NU/ •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 s2FngAM;f 6R`Oh uN.>
I]h-\;96 h4/X
0@l` 衍射级次的效率和偏振 mL woi!]m Wqra8u# 9Y/L?km_( •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 in<}fAro6 •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 cq*=|m0}Z •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 IS BV%^la| •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 ~]BMrgn •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 d t_e
$<|ocUC7 9GgA 6# 光栅结构参数 JQ@fuo % !Vheq3"q/ YD\]{,F| •此处探讨的是矩形光栅结构。 ,m^;&& •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 w(j^ccPD •因此,选择以下光栅参数: jij<yM8$g - 光栅周期:250 nm ,Ol ( piR - 填充系数:0.5 HRB[GP+ - 光栅高度:200 nm !g>.i` - 材料n1:熔融石英 aQ#qRkI - 材料n2:TiO2(来自目录) ?7[alV ~ WA$JI@g &3Z?UhH -kp swP 偏振状态分析 1zftrX~v!X cu&,J#r% +Llo81j& •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 C5W>W4EM •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 JN'cXZJPn •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 ; |L<:x/ WKmbNvN^
f[sF:f(zI rR,2UZR 产生的极化状态 ifK%6o6 Bfr'Zdw
j>Ag\@2ME w,1Ii }d9 06*rWu9P3 其他例子 K93p"nHN zf [`~g BVw Wj-, •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 bU54-3Ox* •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 wGsRS[ DJ@|QQ ;heHefbvvd =Z G:x<Hg 光栅结构参数 p?X02
>yA fNu'((J-
9\;|x •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 ILwn&[A0 •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 v$wBxCY •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 ?=;qK{)37 •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 ^pnG0(9
!xIm2+:( Xz 4 x 光栅#1 qTQ!jN _7T@5\b:;
xI*#(!x"G LjB;;&VCn &PWB,BXv •仅考虑此光栅。 8}e,%{q •假设侧壁表现出线性斜率。 kcie}Be •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 ,m=4@ofX •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 C1EtoOv K HO)/dZNU Rli:x 假设光栅参数: qU6nJi+-I •光栅周期:250 nm _c$9eAe •光栅高度:660 nm ]iNEw9 •填充系数:0.75(底部) #-% A[7Cdp •侧壁角度:±6° sOCs13A" •n1:1.46 l`-bFmpA •n2:2.08 t*<#<a wd(Hv 光栅#1结果 COzyG.R. fFvF\ '_k+WH& •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 `1OgYs •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 4_ v]O •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 xM[Vc
P +"Y b1XRC`Gy 7!y5
SX8C 光栅#2 jOpcV|2 qn1255fB
2Qp Hvsl_ %?^6).aEK z@Q@^
&0Mr •同样,只考虑此光栅。 [%Bf<
J< •假设光栅有一个矩形的形状。 Uo12gIX •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 h7*W*Bd 假设光栅参数: @yXfBML?] •光栅周期:250 nm p
Dx-2:} •光栅高度:490 nm 1i:|3PA~ •填充因子:0.5 4'4\,o •n1:1.46 3kcTE&1^ •n2:2.08 hQ6a~?f N,2s?Y_! 光栅#2结果 :l7U>~ o =[\s8XH, ;,i]w"* •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 K{b(J
Nd •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 :ISMPe3' •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 \I"Z2N>^z *_E|@y
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