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摘要 CB)#;
|aDB /9Xf[< 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 <0}'#9>O nfB9M1Svn {eV_+@dT 概述 K.Z{4x=0 U5=J;[w}N a}\JA`5;)Z •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 =h{2!Ah7
X •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 >O=V1 •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 K2Zy6lGOZ s<]l[Y>
*^ BE1- Jsl,r+'H 衍射级次的效率和偏振 0g\&3EvD e#^by(1@} A:Z:&(NtE: •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 eKOTxv{ •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 ]=Q'1% •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 3WS %H17 •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 !5-[kG& •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 I'wAgf6W
\Qn8"I83AV tB.9Ov* 光栅结构参数 `x{gF8GV &$[{L)D gK'MUZ() •此处探讨的是矩形光栅结构。 {[+gM? •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 \ZB;K~BV& •因此,选择以下光栅参数: OoNAW< - 光栅周期:250 nm +FR"Gt$g - 填充系数:0.5 `Ii>wb - 光栅高度:200 nm '`u1,h - 材料n1:熔融石英 WjB[e> - 材料n2:TiO2(来自目录) bUNp>H>L j06DP _9M A
3l1$t#w _1~Sj* 偏振状态分析 -~g3?!+Hb Yu=^`I >J1o@0tk •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 =zKp(_[D •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 TH-^tw •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 {)M4h?.2 %j,Ny}a
;&!l2 UB% 2%I:s6r 产生的极化状态 Cnolka" HFazqQ[
j.K yPWO :Z)s'd. LuVj9+1 S 其他例子 |w5#a_adM `#V"@Go \r2w@F{C •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 ^iTA40K •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 +2?[=g4;} ocMf}" DEBgb {2nXItso 光栅结构参数 :1iw_GhJf
<j>@Fg#q Dj|S •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 khR3[ju {^ •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 d7&PbITN •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 i0P+,U •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 |lv4X}H
C9z{8 ; V6L_aee}CK 光栅#1 P+/L,u 5FMKJ7sC9
PIA&s6U 1ysA~2 O
Rfl v+ •仅考虑此光栅。 LCG< •假设侧壁表现出线性斜率。 #O~Y[''C5X •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 _FV.}%W<u •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 'D4NPG`z 0\mzGfd ..!yf e"5 假设光栅参数: `'93J
wYb •光栅周期:250 nm [H&m@*UO •光栅高度:660 nm OV[-m;h| •填充系数:0.75(底部) M;E&@[5 •侧壁角度:±6° bhI8b/ •n1:1.46 >eXNw}_j
•n2:2.08 9we=aX5 &`9lIVB,K 光栅#1结果 D"hiEz V*?,r< |