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    [分享]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-25
    摘要 uy\+#:44d  
    ? NK} q\$  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 < l ^ Z;.  
    `3s-\>  
    y+x>{!pw  
    概述 >{=RQgGy  
    I<-" J^2  
    )yAPYC  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 R6.#gb8^oS  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 jM<Ihmh|  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 WX"M_=lc-@  
    2b` M(QL  
    Ot<!YM  
    $X]v;B)J|  
    衍射级次的效率和偏振
    X*) :N]  
    EmoU7iy  
    DYl{{L8@  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 +JVfnTd  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 `Pbn  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 Y)RikF >  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 +:Zi(SuS]  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 o`Brr:  
    yln.E vJjD  
    |{"7/~*[  
    光栅结构参数 rnaDo\5  
    4(ZV\}j1  
    Im#$iPIvT  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 "VCr^'  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 ,Ou)F;r  
    •因此,选择以下光栅参数: y>PbYjuIU  
    - 光栅周期:250 nm "G(/MT^C  
    - 填充系数:0.5 !d_A?q'hN  
    - 光栅高度:200 nm t$|6} BX  
    - 材料n1:熔融石英 aoX$,~oI5  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) @ U|u _S@  
    (#`o >G(  
    rP_)*)  
    ?K#$81;[  
    偏振状态分析 [%Xfl7;Wh  
    rJwJ5U  
    N*W.V,6yH  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 Dh<e9s:  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 WLb7]rCTp  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 j=4>In?x  
    iDJ2dM}v  
    ;wZ.p"T9^  
    Yd'ke,Je  
    产生的极化状态 M$9h)3(B  
    ^u{$$.&  
    &|eQLY #l  
    :8 :>CHa  
    \PJ89u0  
    其他例子 i=@*F$,  
    (""&$BJQ|  
    eH6cBX#P.  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 M`'2 a  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 pDQ,v"  
    f0+  
    M:E#}(  
    ipG+qj/=  
    光栅结构参数 l"CONzm!  
    O8%/Id  
    .CYkb8hF  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 ]vMft?  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 ,H8P mn?  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 Sb.;$Be5g  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 p P&~S<[  
    u QCS%|8C  
    PoZBiw@  
    光栅#1 "^`AS"z'  
    PH.v3 3K  
    Q>$v~v?9  
    PR0]:t)E  
    sXA=KD8  
    •仅考虑此光栅。 ?fG Y,<c  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 Zh*I0m   
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 rcCM x"L=  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 vHmn)d1pl  
    e!#:h4I  
    wB@A?&UY  
    假设光栅参数: u}$3.]-.?T  
    •光栅周期:250 nm %|Vq"MW,I  
    •光栅高度:660 nm XQ>m8K?\d  
    •填充系数:0.75(底部) *&s_u)b  
    •侧壁角度:±6° lOZZ-  
    •n1:1.46 Jh1fM`kB5K  
    •n2:2.08 .vg;K@{  
    Gwe9< y  
    光栅#1结果 ^<c?Ire  
    DwPl,@T_i\  
    JXrMtSp\  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 ?]S*=6  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 V0>,Kxk  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    4?`7XJ0a  
    wXe.zLQ  
    HzV3O-Qz]  
    'a}pWkLB  
    光栅#2 {>#Ya;E  
    -4.+&'  
    $P$OWp?b  
    zrcSPh  
    xpae0vw  
    •同样,只考虑此光栅。 UWz<~Vy  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 09r.0Ks  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 nL9m{$Zv  
    假设光栅参数: +u7mw<A 8  
    •光栅周期:250 nm R"jX9~3Ln  
    •光栅高度:490 nm d4/ZOj+%  
    •填充因子:0.5 z,vjY$t:/  
    •n1:1.46 ?(Nls.c  
    •n2:2.08
    ral0@\T  
    -70Ut 4B  
    光栅#2结果 :EZTJu  
    rc"yEI-``"  
    TWMD f  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 O3S_P]{*ny  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 ."${.BPn~  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 @l 1 piz8  
    Y%2<}3P  
    krgsmDi7  
    文件信息 YkTEAI|i  
    =KkHck33  
    rQU;?[y  
    ^j@,N&W:lG  
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    QQ:2987619807 "[76>\'H  
     
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