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    [分享]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-25
    摘要 )w_hbU_Pb&  
    M(|6YF7u  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 !>8/Xz~-  
    gj@>9  
    l:.q1UV  
    概述 3+4U?~^k*  
    r+W;}nyf  
    k^{}p8;3  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 qydRmi  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 cHAq[Ebp2!  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 INRP@Cp1  
    _g]h \3  
    1G}\IK1+  
    &-c{  
    衍射级次的效率和偏振
    (R|_6[zy  
    d1>L&3HKx  
    2)\g IMt%  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 NtDxwzj  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 |I2~@RfpO:  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 0-~F%:x  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 0PdX>h.t  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 Yma-$ytp  
    :m[HUh  
    9$WA<1PK+  
    光栅结构参数 9zD,z+  
    +'"NKZ.>TT  
    n.b_fkZNr  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 XE`u  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 9TU B3x^  
    •因此,选择以下光栅参数: m5%E1k$=  
    - 光栅周期:250 nm d9.I83SS  
    - 填充系数:0.5 ^fEer  
    - 光栅高度:200 nm \GdsQAF"  
    - 材料n1:熔融石英 ] A,Og_g  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) ) :st-I!o  
    Ro.br:'Bw  
    mum4Uj  
    >*1YL)DBT\  
    偏振状态分析 APv& ^\oUH  
    C5^9D  
    mNPz%B  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 }Sh3AH/  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 [<JY[o=  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 CTf39R|7_  
    4vMjVbr  
     , D}  
    D9r4oRkP*  
    产生的极化状态 2&0#'Tb  
    _}l7f  
    #^9a[ZLj0  
    0I}c|V'P  
    ~mvD|$1z  
    其他例子 C4|H 5H  
    ^TqR0a-*  
    6Zmzo,{  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 4p&YhV7j)o  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 bb!cZ >Z  
    *d}{7UMy#  
    blmY=/]  
    /MbWS(RT  
    光栅结构参数 5iZ;7 ?(  
    ;edt["Eu  
    "q7pkxEuJ  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 D%h_V>#z  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 S20E}bS:>  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 `e }6/~R`  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。  Wo,fHY  
    <]u]rZc$  
    g)=-%n'RoE  
    光栅#1 iz:O]kI  
    S<Uv/pn  
    tREC)+*\  
    r~;TId} #  
    9@8)ZHf  
    •仅考虑此光栅。 ?dQ#%06mn  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 |K'7BK_^J  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 s%@HchZ 1  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 !UX7R\qu|  
    +5ue) `  
    SAUG+{Uq  
    假设光栅参数: 'ExTnv ~  
    •光栅周期:250 nm  m8z414o  
    •光栅高度:660 nm FfibR\dhY  
    •填充系数:0.75(底部)  4FcY NJq  
    •侧壁角度:±6° W-ol*S  
    •n1:1.46 V w5@)l*f  
    •n2:2.08 .!Q?TSQ+{!  
    `E5vO1Pl  
    光栅#1结果 FSyeDC^@  
    e%v0EJ},  
    lKLb\F%  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 V6tUijz  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 #yR@.&P  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    )Zit6I  
    8@BN6  
    ~MZ.988:<  
    ^A;(#5A]7  
    光栅#2  4d )Q  
    RLUH[[  
    W=?s-*F[~  
    (0QYX[(r~o  
    1/ vcj~|)t  
    •同样,只考虑此光栅。 Z=y^9]  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 )! C|DSw  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 m| k:wuzqK  
    假设光栅参数: FW!1 0K?  
    •光栅周期:250 nm few=`%/  
    •光栅高度:490 nm #{Gojg`5O  
    •填充因子:0.5 ~e R6[;  
    •n1:1.46 bPo*L~xdk  
    •n2:2.08
    = ms o1  
    S0-/9h  
    光栅#2结果 UZ3oc[#D=]  
    te8lF{R  
    JnBg;D|)@  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 O^I%Xk  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 * 57y.](w  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 cT,5xp"a  
    pk2}]jx"  
    7d'gG[Z^^  
    文件信息 1 Ll<^P  
    2Uq4PCx!  
    parc\]M  
    ]WP[hF  
    zM mV Yx  
    QQ:2987619807 `Pe WV[?  
     
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