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摘要 dh/:H/k kR wrG*1+r 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 89l_%To kt1f2cj ~E^EF{h
概述 p!'wOThO` se_zCS4Y +bm2vIh$ •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 RA[` Cp" •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 !W$3p'8Tu •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 ?p5RSt BHj]w*Ov
},a|WL3^ D .Cm& 衍射级次的效率和偏振 !xo@i XL cb%w,yXw #Mbt%m •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 &P3B •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 8Z3+S)6 •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 *MagicA •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 Wc3!aLNx •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 kq%`9,XE
(%0X\zvu/ qC\$>QU} 光栅结构参数 3"[ KXzn LO"HwN43h PLLlo~Bb •此处探讨的是矩形光栅结构。 /HzhgMV3 •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 YSrFHVq •因此,选择以下光栅参数: l}Xmm^@) - 光栅周期:250 nm q=?"0i&V - 填充系数:0.5 tW=0AtZl] - 光栅高度:200 nm
jMp{ - 材料n1:熔融石英 X_!mZ\H7 - 材料n2:TiO2(来自目录) Jy|Mfl%d ;
wHuL\ #-lk=> wFqz.HoB 偏振状态分析 *fd` .} Mx r# jilO% " •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 r kD4}jV •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 t*}<v@, •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 [2\`Wh:%P T@Q<oNU
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2)$e 产生的极化状态 O_iX1@SW -x_iqrB
uk'<9g^ $!vi:+ED '6WDs]\ 其他例子 fGe{7p6XV* +?@qux! wUV%NZB •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 lmc-ofEv •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 3o^V$N. ', &MYm\ {(MG:
B
Y-{spTI 光栅结构参数 blPC"3}3Vd ud#8`/!mq r=[}7N •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 Fh/C{cX9g •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 <1LuYEDq •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 :YI>AaYWDO •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 sO6t8)$b
~w*ojI '{u#:TTj 光栅#1 'K"*4B^3 |$w-}$jq5
Qp?+_<{ bG&qgbN> Uh8ieb •仅考虑此光栅。 $Yxy(7d7w •假设侧壁表现出线性斜率。 a|53E<5X •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 VsMN i#? •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 ZT8j9zs A3$b_i @P 1e+?O7/ 假设光栅参数: lKwcT!Q4 •光栅周期:250 nm b>(lF%M •光栅高度:660 nm ;7A,'y4f •填充系数:0.75(底部) P3|<K-dFAK •侧壁角度:±6° x}[` - •n1:1.46 +~v(*s C •n2:2.08 aRwBxf c8s/`esA 光栅#1结果 mNYz7N x M[#Ah) .0ZvCv:> •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 e+WVN5"ID> •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 <KA@A} •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 }.vy|^X ZM.g+-9 ZSSgc0u^? R}Y=!qjYE= 光栅#2 ;v'Y'!-J ~e8n yB
fpi6pcof a+i+#*8wm 7EXmmB~>, •同样,只考虑此光栅。 ]*h}sn= •假设光栅有一个矩形的形状。 bW|y -GM •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 c%!wKoD 假设光栅参数: d!:SoZ •光栅周期:250 nm 4{g|$@s( •光栅高度:490 nm OXB-.< •填充因子:0.5 w1b
<>A?87 •n1:1.46 dp70sA!JF •n2:2.08 T1&H! MO/N*4U2 光栅#2结果 9="sx 8? do,X{\ nSiNSLv •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 Hdx|k=-Q^ •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 <hbbFL}|% •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 6zWvd A'8K^,< |