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    [分享]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-25
    摘要 Kv<f< >|L  
    85YUqVi9  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 gg >QXui  
    DQT'OZ :w  
    8Qo'[+4;  
    概述 d]poUN~x  
    h2 KI  
    Cb1w8l0  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 OvAhp&k  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 *,mI=1  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 ~: {05W  
    D"rbQXR7$  
    ki?h7  
    -8xf}v~u  
    衍射级次的效率和偏振
    u<Y#J,p`e  
    >!6|yk`GJ  
    lDTHK2f  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 s bj/d~$N  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 ;I&VpAPx  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 /TyGZ@S>m  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 tLBtE!J$[  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 _Z23lF 9  
    6$6QAW0+f  
    4);_f  
    光栅结构参数 6|zhqb|s  
    4b:|>Z-  
    )P$|9<_q7x  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 z$e6T&u5B  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 s{-gsSmE  
    •因此,选择以下光栅参数: fC[za,PXaE  
    - 光栅周期:250 nm 2%dL96  
    - 填充系数:0.5 DMM<,1  
    - 光栅高度:200 nm H_X^)\oJ  
    - 材料n1:熔融石英 <.Ws; HN}  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) ?@ F2Kv  
    Y3Fj3NwS  
    |5bLV^mv]i  
    _dJ(h6%3  
    偏振状态分析 ZEAUoC1E1  
    M2O_kO eZ  
    u.gg N=Z  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 xWxc1tT`  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 Mf1(4F  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 s_'&_>D  
    c2y,zq|H  
    Ax;=Zh<DAv  
    l~6K}g?  
    产生的极化状态 c-sjYJXKM*  
    U[@y 8yN6M  
    Y()" 2CCV  
    1^!SuAA@  
    T$I_nxh[)L  
    其他例子 0B}4$STOo[  
    /|IPBU 5  
    VPe0\?!d  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 xT%`"eM}  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 x4oWZEd  
    l3>S{  
    JZ:@iI5>+  
    >]\I:T  
    光栅结构参数 ieFl4hh[G  
    ]:P7}Kpb  
    _)M,p@!?=h  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 =dmr ,WE  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 c$O8Rhx  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 : ?>7Z6  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 [_,as  
    LQ jbEYp  
    M|WBJ'#x0  
    光栅#1 |A8@r&   
    D 2X_Yv  
    -U d^\Yy  
    CSO'``16  
    Q&} 0owe  
    •仅考虑此光栅。 Mo,&h?VOM?  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 ZJYn[\]  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 !@xO]Jwv  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 l":W@R  
    -(qRC0V  
    g7\ =  
    假设光栅参数: T@ c~ql  
    •光栅周期:250 nm f"Zl JVa  
    •光栅高度:660 nm Xz$4cI#n:  
    •填充系数:0.75(底部) apvcWF%  
    •侧壁角度:±6° <ql,@*Y  
    •n1:1.46 (l{vlFWd  
    •n2:2.08 TNX9Z)=>g  
    b)LT[>f  
    光栅#1结果 !"rPSGK*  
    #B `?}a=  
    ?'a8QJo  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。  : T*Q2  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 wA) Hot  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    x:Y9z_)O  
    (WM3(US|  
    d#k(>+%=Q  
    *{g3ia  
    光栅#2 YR%iZ"`*+O  
    +iVEA(0&$  
    p3Sh%=HE'  
    :E:e ^$p  
    I6>J.6luF9  
    •同样,只考虑此光栅。 p_FM 2K7!  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 JK k0f9)  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 7]ieBUf S  
    假设光栅参数: o[|[xuTm  
    •光栅周期:250 nm nbi7r cT  
    •光栅高度:490 nm /%wS5IZ^  
    •填充因子:0.5 Cf {F"o  
    •n1:1.46 +v Bi7#&  
    •n2:2.08
    v}B%:1P4  
    S;|:ci<[=  
    光栅#2结果 vQAFgG  
    ^h(wi`i  
    !l:GrT8J  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 e+ xQ\LH  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 $|K d<wv  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 l$42MRi/  
    9U8M|W|d  
    yI0bSu<j-  
    文件信息 d*(aue=  
    K,b M9>}  
    YeH!v, >  
    ?jx]%n fV  
    &Y@i:O  
    QQ:2987619807 8|u4xf<  
     
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