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摘要 wWYo\WH' m!Y4+KTwD` 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 H8!;
XB <@.!\ g9~QNA 概述 P>U7RX
e $I0&I[_LzK '@6O3z_{ •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 .n\j<Kq •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 Z\[6'R4.# •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 "J(T?|t O'rz
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NI ;$.^ 衍射级次的效率和偏振 m'n<.1;1{j 0{^ 0>H0 #i;y[dQ •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 f|+aa6hN
•该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 +b
sc3 •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 E"<-To •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 Mg~62u •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 |S6L[Uo
j^5VmG M
o?y4X 光栅结构参数 dBm!`;r4 0<[g7BbR \x=j •此处探讨的是矩形光栅结构。 pqF!1 •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 Vi=u}(* •因此,选择以下光栅参数: a7U`/* - 光栅周期:250 nm 'O^<i`8U] - 填充系数:0.5 S*l=FRFI - 光栅高度:200 nm #O1%k;BL - 材料n1:熔融石英 wbQs>pc - 材料n2:TiO2(来自目录) \=2<<
iv 0'Uo3jAB ruU &.mZ ,a34=, 偏振状态分析 +.J/7gD O77^.B 1|WrJ-Uf •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 g1{2E<b5 •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 nV/;yl4e{
•为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 8&wN9tPYZ je;|zfe]
!NO)|N> P,<pG[^K 产生的极化状态 :h8-y&; [:M Fx6
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?OS EkpM'j= PiJ>gDx 其他例子 r7+Ytr 9jI5bi) HhB&vi •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 ih=O#f| •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 3of0f{ZTj +W+o~BE Ksf f]##H 2*@@Bw.XA 光栅结构参数 wCt!.<, . .23Yqr'zT y_M,p?]^, •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 D+xPd< •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 u>*d^[zS •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 "R0(!3 •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 WelB"L
-Mzm~@_s] ~\OZEEI 光栅#1 1T
8|>2m 3 \ZtF,`Z
^wD@)Dz A5^tus/y cuQAXqXC@ •仅考虑此光栅。 r*g<A2g% •假设侧壁表现出线性斜率。 R6`,}<A]@ •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 &~"e["gF= •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 nEgYypwr ~\UAxB= {-l:F2i 假设光栅参数: $O9,Gvnxx •光栅周期:250 nm do DpTwvh •光栅高度:660 nm y eWB.M~X •填充系数:0.75(底部) fzr0dcNgM •侧壁角度:±6° P;K <P •n1:1.46 *n_7~ZX •n2:2.08 5OC{_- uF\ ;m. 光栅#1结果 }{F1Cr #;hYJ Y h@+(VQ •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 Gg3<
}( •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 wZb77 •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 "$ U!1 kqZ+e/o>O9 s!?T$@a= /{!?e<N>
光栅#2 u&r+ylbsI }TG=ZVi
'a=' (,% vJsx_i\i wY*tq{7 •同样,只考虑此光栅。 HG&rE3@ •假设光栅有一个矩形的形状。 +&.wc;mi •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 %<h+_(\h 假设光栅参数: c52S2f7 •光栅周期:250 nm :ywm 4) •光栅高度:490 nm dReJ;x4 •填充因子:0.5 1{?5/F \ + •n1:1.46 ~JTp8E9kw
•n2:2.08 ,rWej;CzN v|wO qS 光栅#2结果 cc:,,T/i lH"4"r c3C<P •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 =4804N7 •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 f~{4hVA •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 R_B`dP<"~Y /yFs$t>9
-P-&]F5 文件信息 c. 06Sw* \pVWYx
,L$,d CQ:38l\`gd b>f{o_ QQ:2987619807 x?RYt4 S
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