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摘要 y*
rY~U#3 AW62~* 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 l)%mqW% GGp{b>E+
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Tw 概述 +yiU@K).0 CY5w$E $oc9
|Q 7 •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 BZ}`4W' •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 !2wETs? •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 4"z;CGE7 =}"R5
mUiOD$rO 2>ys2:z 衍射级次的效率和偏振 jB` 7T^bU ` -yhl3si ^b:Xo"q#H •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 V15q01bE# •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 QT7_x`#J~o •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 (%Ng'~J\| •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 e7h\(`J0lj •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 w}"!l G
|iAEDZn
fHLFeSfH 光栅结构参数 +&(Jn B U'Ki \ q$3HvZP •此处探讨的是矩形光栅结构。 sN;(/O •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 ;r%<2( •因此,选择以下光栅参数: x
Ridc^ - 光栅周期:250 nm }Z^FEd"y - 填充系数:0.5 l'W3=,G[? - 光栅高度:200 nm @h!U - 材料n1:熔融石英 |e~u!V\m - 材料n2:TiO2(来自目录) 2V
4`s' >'ie!VW@ <xXiJU+ ,zc"udpKF 偏振状态分析 |}:e+?{o 0PR4g}" $ #TID= •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 PQ6T|> •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 eB)UXOu1 •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 q$bHO :O5Tr03z
[5x+aW%ql rve7YS' 产生的极化状态 o]dK^[/* WW)_Wh
-Mr{+pf b (g_.1[ yjeqv-7 其他例子 B9%yd*SJ ]kyle3#-~ 9NJ=~Ub- •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 ~3LhcU- •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 Rc$=+K# Uyz;U34 oI ~vO'p Sn;/;^@(\ 光栅结构参数 Wh#os,U$ 9 |us<k b>GqNf! •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 dw|-=~ •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 x0}<n99qE •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 at_dmU2[7 •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 ,{#RrF e
d,Im&j_Z 9\\@I
=; 光栅#1 ZE5-i@1 CUAg{]
K8e4ax 6$xo# }8 EKeBTb •仅考虑此光栅。 S-H-tFy\\ •假设侧壁表现出线性斜率。 jM|YW*zNZ •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 n_e}>1_ •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。
@vVRF
Z 'fp<FeTg @g@fL % 假设光栅参数: %[+a[/ •光栅周期:250 nm "<g?x`iz •光栅高度:660 nm xCmI7$uQ# •填充系数:0.75(底部) vV$hGS(f~ •侧壁角度:±6° !W+p<F1i •n1:1.46 N]O{T_5-0 •n2:2.08 N|j;=y! %zIl_/s 光栅#1结果 //`cwnjp +=,4@I% %_%f#S •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 J?|K#<% •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 Tye$na&$} •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 'p|Iwtjn> V PLCic,T ,6%hu|Y* gKm@B{rC 光栅#2 YiY&;)w mTI\,x%<OC
YokZar2a0 ]ft~OqLg! <MWXew7b •同样,只考虑此光栅。 2f}K#i8 •假设光栅有一个矩形的形状。 *'AS^2' •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 yP1Y3Tga= 假设光栅参数: %O4}i@Fe •光栅周期:250 nm E<98ahZ?l •光栅高度:490 nm @?^LxqAWA •填充因子:0.5 N c&i) qh •n1:1.46 FJwZo}<6E •n2:2.08 9wDBC~. qD=m{O8%_ 光栅#2结果 Zh fD`@>& :+?W avbr7X( •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 9 z8<[> •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 +|}K5q \ •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 a|6x!p2X ]L%R[Z!3
zw%n!wc_\ 文件信息 4,*^QK 7gdU9c/q,
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