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摘要 P+<4w reI4!,x 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 0i4XS*vPv '4e,
e|r H{U(Rt]K 概述 -I'Jm=q3] <sw fYT!N h\lyt(.s •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 ./@C •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 ,*m{Q •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 `;HZO8 a?1lj,"~R opfg %* PTP0 _|K 衍射级次的效率和偏振 2e^6Od!Y? 9(pF!}1%\ 0u?VnN< •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 ,"U|gJn|^ •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 Dj9ecV` •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 <pIel •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 9][A1+" •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 zXaA5rZO ~@d4p|K %G/(7l[W 光栅结构参数
W4&Itj .kc{)d*0K 4WXr~?Vq9 •此处探讨的是矩形光栅结构。 o7kQ&w •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 OfPv'rW{x •因此,选择以下光栅参数: yF@72tK - 光栅周期:250 nm @B9O*x+n: - 填充系数:0.5 b NR@d'U - 光栅高度:200 nm G]RFGwGt - 材料n1:熔融石英 d$B+xW - 材料n2:TiO2(来自目录) &xE+PfX #3}!Q0 ~tZy-1 v9MliD' 偏振状态分析 YJB/*SV^ "sJ@_lp %@^9(xTE •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 ![ @i+hl •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 %TYe]^/'y •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 lS |:4U. iD)P6" qk=OodEMK iJSyi;l| 产生的极化状态 nJR(lXWO ZsN3 MbY ?o`fX
wE ZO&F15$P $D;-;5[-/r 其他例子 (".WJXB\ `P jS T)mh •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 pGP$2 •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 3\j3vcuy 5"z~BE7 xcX^L84\ \OVw 光栅结构参数 o?><(A| b5?k)s2 ,U=7#Cf! •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 J~lKN
<w •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 x }i'2 •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 %B(E;t63W •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 ]~7xq)28 #K\;)z(? /_i]bM7W 光栅#1 zv~b-Tp <ELqj2`c T#ehJq 5 23'Ac,{ Y|L]# •仅考虑此光栅。 oB%j3aAH •假设侧壁表现出线性斜率。 qhOV>j,d •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 =' &TqiIv" •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 Z[9f8/6<b S<>u W{nDmG`yp 假设光栅参数: YQaL)t$0 •光栅周期:250 nm zfK3$| •光栅高度:660 nm 79Q>t%rD[ •填充系数:0.75(底部) NLZUAtx( •侧壁角度:±6° Z(hRwIOF •n1:1.46 m-'+)lB •n2:2.08 {oRR]> M3YC@(N% k 光栅#1结果 \<x{U3q5 O>>%lr| J"
U!j •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 `W{y •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 GtkZ%<KF9 •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 0]2@T=*kTY A#CG D0T =:Lc-y > \g:Bg%43h 光栅#2 y])z,#%ED kx07Ium E7j9A` no8FSqLUS~ hA387? •同样,只考虑此光栅。 bf$4Z: Y •假设光栅有一个矩形的形状。 jT:kk •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 v Yw$m#@ 假设光栅参数: 8~v E •光栅周期:250 nm ux1SQ8C * •光栅高度:490 nm rM)-$dZ •填充因子:0.5 ItwJL` •n1:1.46 ePe/@g1K* •n2:2.08 LAv!s/ O$= 7hl,dtn7 光栅#2结果 6q@VkzF #<gD@Jyb u TbR!u:J •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 qm|T<zsDY# •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 ZvkBF9d •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 a'YK1QX {KM5pK?,BJ H05U{vR 文件信息 mW_ N-z o|c%uw Lb%:u5X\D@ Dt]*M_ U-lN-/=l6 QQ:2987619807 "[wP1n!G
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