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摘要 yC7lR#N8j0 B1TWOl?d{ 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 R]0tG
M=4`^.Ocm Esf\Bo" 概述 akzKX} f1
`E- nZ[`Yrq)0 •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 AE=E"l1] •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 =lL)g"xX •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 ohi0_mBz WQsu}_g5y
F!P,%JmI< r-,u)zf" 衍射级次的效率和偏振 \pXo~;E\ 0F 6~S @4$la'XSx •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 .:=5|0m •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 )B"E+Q'h{7 •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 XRi37|p •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 ,3Nna:~f •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 o_&Qb^W
}brBhe8a L&&AK`Ur3l 光栅结构参数 1V-si bE s3=slWY= }j{Z
&(K •此处探讨的是矩形光栅结构。 '`j MNKn\ •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 zZP&`#TAy •因此,选择以下光栅参数: XW:%YTv - 光栅周期:250 nm BzTzIo5 - 填充系数:0.5 `o21f{1]X& - 光栅高度:200 nm p ^Y2A - 材料n1:熔融石英 *A0*.>@N - 材料n2:TiO2(来自目录) l0eh}d rLA^ &P: zEDN^K ' 9[h8Dy 偏振状态分析 3|D .r-Q 1z_1Hl U5[r&Y
D •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 @>+`1C •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 d3NER} f4V •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 AJ
z 1 >J{e_C2ZS
9Dd`x7$a *!yA'z< 产生的极化状态 ,m M7g a\KM^jrCD
#wJ^:r-c` S$/SFB$)~W [X kWPx` 其他例子 \_7'f ;A0ZcgF BwVq:)P/R •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 B5[As8Sa •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 cbW=kQc_ 7A{Z1[7 _)6r@fZ.p JY%l1:}G3 光栅结构参数 o;>qsn8 G<Urj+3/Xo H%ScrJ#V •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 c_Iq!MH •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 G6qFAepwi •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 q[x|tO •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 _p<wATv?7t
5kCXy$"% Rb0{W]opt+ 光栅#1 (]-RL
A> ]'Gz~Z%>F
=-avzuy# NKRm# RY\0dv> •仅考虑此光栅。 K14v6d •假设侧壁表现出线性斜率。 W+Ou%uv}S •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 10tTV3`IM •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 #-l+cu{ l0E]#ra" ()Qq7/ 假设光栅参数: Q)5V3Q]@^ •光栅周期:250 nm &Y3ZGRT •光栅高度:660 nm %0vWyU:K9 •填充系数:0.75(底部) 6 kD. •侧壁角度:±6° \
*A!@T •n1:1.46 oVd7ucnK •n2:2.08 M2nUY`%#v -X-sykDm 光栅#1结果 '@1C$0tx )GOio+{H W)L*zVj~ •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 xrkR)~ E •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 xEufbFAN? •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 k|$?b7)"@ QE721y .&n!4F' yoM^6o^,D 光栅#2 UDPn4q v=DC3oh-
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Y4[oa?G S$46YQ •同样,只考虑此光栅。 - *qoF(/U •假设光栅有一个矩形的形状。 (~fv;}}v •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 wGWv<<Qw" 假设光栅参数: z Ece>=C •光栅周期:250 nm sAnb
•光栅高度:490 nm t(}g;O- •填充因子:0.5 ~VV $wU!A •n1:1.46 |Z8Eu0RSb •n2:2.08 c7nbHJi vSo1WS 光栅#2结果 2"WP>>b80 ,x?Jrcx~'C Kd*=- •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 r(rT.D& •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 D58RHgY[ •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 Y/
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