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    [分享]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-25
    摘要 \ (y6o}aW  
    it=4cHT  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 |aH;@V  
    Yg 8AMi  
    ~vD7BO`  
    概述 !PN;XZ~{  
    8no_xFA  
    (kpn"]^'  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 A;e[-5@  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 >KjyxJ7  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 gTz66a@i  
    _pu G?p  
    1}#(4tw)  
    %@IZ41<C  
    衍射级次的效率和偏振
    ~z)diF<  
    d*%-r2K  
    3 y!yz3E  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 auOYi<<>W  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 iz'#K?PF_  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 9/$D&tRN  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 ()=u#y  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 pg3B^  
    xNG 'UbU  
    8Z;wF  
    光栅结构参数 r>+Hwj0>  
    'jp nQcwxx  
    &*TwEN^h  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 'T54k  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 owA3>E5t&  
    •因此,选择以下光栅参数: -a`EL]NX  
    - 光栅周期:250 nm ^FSUK  
    - 填充系数:0.5 [3`T/Wm  
    - 光栅高度:200 nm 7+aTrE{  
    - 材料n1:熔融石英 #84pRU~  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) n50XGv  
    oD,f5Ci-  
    Ou IoO  
    jyF0asb  
    偏振状态分析 j3QpY9A  
    >b;fhdd:4  
    wC@5[e$  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 ;i`X&[y;  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 gkUG*Zw  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 q#B^yk|Y  
    | ]`gps  
    d,au&WZ;_  
    #ej^K |Qx  
    产生的极化状态 Xr~6_N{J  
    "HFS5Bj'  
    ~uRG~,{rH  
    XtfO;`   
    e47JLW&b  
    其他例子 rAD5n, M]  
    ?iG}Qj@5  
    -CW&!oW  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 pmXx2T#=  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 =9n$ at$l@  
    J=>?D@K  
    9@C3jZ+9`H  
    #"d.D7nA  
    光栅结构参数 xbrxh-gV  
    &|P@$O>  
    sd\>|N?'  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 %*P59%  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 YKLh$  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 0m,A`*o  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 OlhfBu)~  
    K|];fd U  
    @lAOi1m,,  
    光栅#1 8):I< }s#  
    'P}"ZHW  
    -h*Yd)  
    l?(nkg["nY  
    (?xGl V`n  
    •仅考虑此光栅。 aGNVqS%y  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 C<fWDLwYqV  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。  m3 ;  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 $ZYEH  
    MLY19;e  
    u#%Ig3  
    假设光栅参数: a*CP1@O  
    •光栅周期:250 nm 1O45M/5\o  
    •光栅高度:660 nm C!XI0d  
    •填充系数:0.75(底部) vX)6N#D!  
    •侧壁角度:±6° COFs?L.`  
    •n1:1.46 YS?P A#  
    •n2:2.08 Ol9U^  
    xj{X#[q):  
    光栅#1结果 Y+iC/pd  
    '15j$q  
    84 b;G4K  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 ,.]e~O4R  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 Jl Q%+$  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    b-]E -$Uz  
    @<CJbFgJp  
    I.R3?+tZ  
    #lltXqvD?  
    光栅#2 y;0.P?Il"  
    cLr? B;FS  
    E}k#-+u<S4  
    X]cB `?vR  
    "c!s\iuBU  
    •同样,只考虑此光栅。 68FxM#xR  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 T 6QnCmB4  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 PC\Xm,,  
    假设光栅参数: hp-< 8Mf  
    •光栅周期:250 nm c::x.B"w  
    •光栅高度:490 nm =#BeAsFfO  
    •填充因子:0.5 82$By]Y9  
    •n1:1.46 b8b-M]P-=  
    •n2:2.08
    +V2a|uvEc  
    W3<O+S&  
    光栅#2结果 d.2b7q09  
    07(E/A]  
    {)b`fq  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 Jk{>*jYk`  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 ~%#?;hJ  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 |o!<@/iH=  
    "b1_vA]03  
    N"r ;d+LTL  
    文件信息  \W=  
    1'aS2vB9  
    _Fz )2h,3  
    5&}icS  
    *r-Bt1  
    QQ:2987619807 ]G1j\wnF  
     
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