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    [分享]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-25
    摘要 u $% D9Z^  
    Y0 X"Zw  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 jqX@&}3@  
    Nr]8P/[~  
    ,na=~.0R:  
    概述 x'M^4{4[  
    C'8!cPFVv  
    2i7i\?<.  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 i (%tHa37  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 F[7Kw"~J  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 ~ gfA](N  
    }dd k}wga  
    @Ge>i5q  
    \=w'HZH#+  
    衍射级次的效率和偏振
    ,XeyE;||  
    yWv<A^C &  
    ` Y{>2UFX  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 s,$Z ("B  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 &PRx,G5  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 mZbWRqP[|_  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 `\/toddUh[  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 P>{US1t  
    e'~-`Z9-)  
    ol$2sI=.s  
    光栅结构参数 3qAwBVWa  
    "+n4c'  
    @q> ktE_  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 SLJ&{`"7  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 pwFU2}I  
    •因此,选择以下光栅参数: X!7VyE+n  
    - 光栅周期:250 nm 2/v35| ?  
    - 填充系数:0.5 e~+(7_2  
    - 光栅高度:200 nm " K 8&{=  
    - 材料n1:熔融石英 *t#s$Ga  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) IU Y> ih  
    ocIt@#20 K  
    VX^o"9Ntl  
    Gh]_L+  
    偏振状态分析 9TVB<}0G  
    G}!7tU  
    4AY _#f5u  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 ]a$Wxvgq  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 =ze FK_S!  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 }O,U2=Hw`]  
    L bJtpwz>z  
    yaH Trh%  
    .7 (DxN  
    产生的极化状态 5l41Q  
    6X@mPj[/  
    DR k]{^C~  
    $?FS00p*|X  
    Q'Jv} 'eK_  
    其他例子 La"o)L +m_  
    V I6\   
    <u/a`E?  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 U/T4i#  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 t6'61*)|0  
    DE*MdfP0  
    ],;D2]<s  
    Dh2:2Rz=#7  
    光栅结构参数 gw_|C|!P  
    g3|BE2?  
    #*!+b  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 &EAk z  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 v"z (JF  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 _9D|u<D  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 H4M{_2DO  
    }qc#lz  
    zuUT S[  
    光栅#1 a @6^8B?w;  
    X'cf&>h  
    j((hqJr  
    _h0-  
    No:^hY:F8  
    •仅考虑此光栅。 )-=2w-ZX  
    •假设侧壁表现出线性斜率。  X ?tj$  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 ]EB6+x!G  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 {IJ-4>  
    BjM+0[HC  
    Vy]A,Rn7  
    假设光栅参数: ]#F q>E  
    •光栅周期:250 nm "Dyym<J  
    •光栅高度:660 nm $bk>kbl P  
    •填充系数:0.75(底部) q1H=/[a  
    •侧壁角度:±6° vFTXTbt'h  
    •n1:1.46 iJ}2"i7M  
    •n2:2.08 r)VLf#3B  
    H{ZLk,  
    光栅#1结果 #nKRTb+{  
    cL#-*_(  
    x_yF|]aI!  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 Ig<}dM.Z[  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 d!o.ASL{  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    sp|q((z{  
    &]w#z=5SXi  
    Bb~5& @M|N  
    M~-h-tG  
    光栅#2 Sa Cx)8ul0  
    d7E7f  
    hHpx?9O+!  
    B$ui:R/ t  
    ?4,@, ae&  
    •同样,只考虑此光栅。 dgXg kB'  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 2xDQ :=ec  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 rsWQHHkO  
    假设光栅参数: 7R: WX:  
    •光栅周期:250 nm Yt{ji  
    •光栅高度:490 nm h6g:(3t6m  
    •填充因子:0.5 6#E7!-u(-  
    •n1:1.46 ;d4 y{  
    •n2:2.08
    d<#p %$A4  
    *%X.ym'  
    光栅#2结果 TFO74^  
    3Y`>6A=  
    Q\|18wkW  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 SZ/(\kQ6  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 pw=F' Y@N  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 #pX8{Tf[  
    glx2I_y  
    ! tGiTzzp  
    文件信息 !3h{lE B  
    (-\]A|  
    8'KMxR  
    N+NK`  
    IP04l;p/  
    QQ:2987619807  //<:k8  
     
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