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    [分享]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-25
    摘要 B &e'n<  
    >Xi/ p$$7u  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 `+!F#.  
    G=PX'dS  
    ~EM(*k._  
    概述 ]cM,m2^2  
    X16vvsjw5  
    u]Z;Q_=  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 ^&KpvQNW_  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 t!\B6!Fo  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 (bAw>  
    t"?)x&dS  
    6 IRa$h>H  
    R$bDj >8  
    衍射级次的效率和偏振
    e2kW,JV/<$  
    r3 dGXiu  
    4 q\&Mb3  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 (qzBy \\p  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 L&0aS:  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 NqM=Nu\  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 oSLm?Lu  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 -z">ov-)  
    ;tC$O~X  
    0ax ;Q[z2  
    光栅结构参数 %Ix2NdC  
    |t~*!0>3  
    x(A8FtG  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 0 YAH[YF  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 !oYNJE Y7  
    •因此,选择以下光栅参数: wz>[CXpi_  
    - 光栅周期:250 nm U|Uc|6  
    - 填充系数:0.5 w+$~ ds  
    - 光栅高度:200 nm c7D{^$L9 v  
    - 材料n1:熔融石英 h@dy}Id  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) JCci*F#r  
    zKT4j1 h  
    Qna*K7kv  
    /[!<rhY  
    偏振状态分析 ~ R eX$9  
    $b)t`r+  
    .DM-&P  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 S6Y:Z0  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 5+UNLvsZ  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 e,MgR\F}  
    -us:!p1T  
    W#2} EX  
    10xza=a  
    产生的极化状态 u4$R ZTC  
    b! r%4Ah  
    @`ii3&W4  
    ^^F 8M0k3  
    frc9   
    其他例子 /vC!__K9:  
    V9jxmu F,  
    a#l ytp  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 hkdF  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 n6G&c4g<"  
    eAStpG"*  
    Tv6y +l  
    N6`U)=2o>h  
    光栅结构参数 ) O&zb_{n  
    q]Kv.x]$R  
    C DoD9Hq,  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 'Va<GHr>+  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 #lc6-K#  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 u%lUi2P2E  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 C_JO:$\rE  
    R x(yn  
    !a25cm5ys  
    光栅#1 {rK]Q! yj  
    OZC yg/K  
    p5% %k-  
    ||ugb6q[6B  
    d]:G#<.  
    •仅考虑此光栅。 ,Xr`tQ<@  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 9dm<(I}  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 H_Xk;fM  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 78r0K 5=  
    }h1eB~6M  
    9Ofls9]U  
    假设光栅参数: kKjcW` [  
    •光栅周期:250 nm 8_ o~0lb  
    •光栅高度:660 nm Q*M(d\Vs  
    •填充系数:0.75(底部) /Kq'3[d8  
    •侧壁角度:±6° Ke=+D'=  
    •n1:1.46 9gglyoZ%  
    •n2:2.08 wX_~H*m?  
    9|[uie  
    光栅#1结果 <1B+@  
    ~mwIr  
    Go^TTL   
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 OhMJt&s9P=  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 DycXJ3eQ  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    ~I9o *cq  
    S4?WR+:h  
    wOCAGEg  
    ,I ][  
    光栅#2 +95v=[t#Ut  
    BvH?d]%  
    Iqn (NOq^[  
    ``I[1cC  
    SH#*Lc   
    •同样,只考虑此光栅。 H5&._  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 /HS"{@Z"h  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 -|f0;Fl  
    假设光栅参数: mQR9Pn}H  
    •光栅周期:250 nm A_WaRYG  
    •光栅高度:490 nm 3"< 0_3?W  
    •填充因子:0.5 + d3  
    •n1:1.46 <VQ)}HW;k  
    •n2:2.08
    gujP{Z  
    (>f`>6 V  
    光栅#2结果 mF|KjX~s  
    iRlpNsN  
    HyOrAv <  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 `C C=?E  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 DW78SoyedZ  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 >T c\~l  
    j;7E+Yp  
    !lo /L  
    文件信息 R dwt4A+  
    y22DBB8  
    x#N_h0[i  
    Crg'AB?  
    3 u4Q!U%(D  
    QQ:2987619807 {j;` wN  
     
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