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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 (Ac ' }O  
    SZH,I&8  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 9)s=%dL  
    UceZW tYa  
    HgE^#qD?  
    30g-J(Zg  
    建模任务 hf>JW[>Xo  
    (4n8[  
    =dUeQ?>t=  
    概观 hT9fqH  
    L m"a3Nb  
    U,Nf&g  
    光线追迹仿真 OOs Y{8xM  
    ~oz8B^7i;  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 8$-(%  
    OT{wqNI  
    •点击Go！ "CBe$b4  
    •获得3D光线追迹结果。 {,|*99V  
    FkR9-X<  
     |i7|QLUT  
    XKLkJZN  
    光线追迹仿真 >}GtmnF  
    &V$_u#<  
    2Q,e1' =  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 T?:Vw laE  
    •单击Go！ ~\<Fq\.x  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     0Jz'9  
    #, W7N_mt  
    ZY+NKb_  
    $0V<wsVM  
    场追迹仿真 8v\BW^z3  
    1XU sr;Wz  
    Y~hBVz2g  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 G+[hE|L~y  
    •单击Go！     K/KZ}PI-O  
    _n@#Lufx  
    3iJ4VL7  
    L|EvI.f  
    场追迹结果（摄像机探测器） ]re1$ W#*  
     _dVzvk`_R  
    E$=!l{Ms  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 w4<1*u@${  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 fB|rW~!v  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 {<o_6 z`$  
    Co&#mVY4,  
    ^C^FxIA&  
     T?{"T/  
    场追迹结果（电磁场探测器） R}>xpU1  
    X zgJ@  
    k?3NF:Yy7  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     $3zs?Fd`  
    v#{Sx>lO  
    w,> ceu/  
    文件信息 Z0s}65BR  
    QI'ule  
     1[OCojo<  
    A}?n.MAX>  
     zBtlkBPu  
    QQ：2987619807 C;];4[XR  
     
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