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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 _T*AC.  
    !O)qYmK]|  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 Ade }g'  
    ?L|yaC~  
    8^ #mvHah  
    $0qMQ%P  
    建模任务 <avQR9'&  
    _gV8aH ZyM  
    4v.d-^  
    概观 4#BRx#\O  
    CqoG.1jJS  
    u"+}I,'L  
    光线追迹仿真 5*G%IR@@LK  
    \:/Lc{*}MD  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 2{oThef[O  
    @Icq1zb] y  
    •点击Go！ 3S"] u}  
    •获得3D光线追迹结果。 d3^7ag%  
    IeTdN_8  
     Ly #_?\bn  
    yrr) y  
    光线追迹仿真 g22gIj]  
    9&  
    I%;Jpe  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 ZYMw}]#((E  
    •单击Go！ qL 5>o>J  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     Oh; Jw  
    p>kq+mP2bc  
    G+WM`:v8%  
    HEY4$Lf(I  
    场追迹仿真 x;#zs64f  
    ~`cwG` 'N  
    .<&s%{EW  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 wAF,H8 -DK  
    •单击Go！     -5Utl os  
    0Y?H0  
    QLo(i  
    &ab|2*3?X  
    场追迹结果（摄像机探测器） P:{<*`q  
     c:\shAM&  
    !G?gsW0\h  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 bB 6[Xj{  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 SbT5u3,'  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 63&^BW  
    Lp&k3?W  
    <bUe/m  
     Xs$Ufi  
    场追迹结果（电磁场探测器） ejePDgi_[  
    &m'kI  
    |g&ym Fc  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     X?Pl<l&  
    $g\&5sstE  
    \8v91g91f  
    文件信息 E^V |  
    Xu}U{x>  
     Op}ZB:  
    !xK=#pa  
     PuCc2'#  
    QQ：2987619807 Ciihsm  
     
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