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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 \Btv76*,  
    R1X9  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 by& #g  
    \A _g  
     8OZc:/  
    3t(nV4uDF  
    建模任务 a>Uk<#>2?a  
    JMw1qPJQ  
    6Ez}A|i  
    概观 |Z$heYP:w  
    y_38;8ex  
    qp_kILo~  
    光线追迹仿真 8\`]T%h  
    |~W!Y\l-  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 Nj qUUkc  
    91r#lDR  
    •点击Go！ L\5j"] }`  
    •获得3D光线追迹结果。 Tl%#N"  
    ZyT9y  
     $Dd IY}  
    "o`N6@[w^  
    光线追迹仿真 U/m6% )Yx(  
    ]0zXpMNI  
    %s%v|HDs  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 & p"ks8"  
    •单击Go！ 2r"-X  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     EMmNlj6  
    m]+g[L?-  
    ^{_`jE  
    7:I` ~ @m  
    场追迹仿真 B[!wo  
    v}IkY  
    $[6:KV  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 h2zuPgz,  
    •单击Go！     +T+f``RcK  
    lKrD.iYt8  
    j Aw&5,  
    amK?LDf]  
    场追迹结果（摄像机探测器） "Git@%80  
     cV_nYcLkz  
    xXE/pIXw  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 3lqR(Hh3  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 zJOjc/\  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 0iinr:=u  
    Di<KRg1W]}  
    E#`=xg  
     Xlpu_H|  
    场追迹结果（电磁场探测器） |rka/_  
    F"#bCnS  
    ><viJ$i  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     ;WC]Lf<Z^  
    j08}5Eo  
    iJk`{P_  
    文件信息 13I 7ah  
    {v}f/ cu  
     Ka&[ Oz<w  
    j8$*$|  
     DmM<Kkg.J  
    QQ：2987619807 DKAqQ?fS  
     
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