切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • ZEMAX光学系统设计实战 Zemax光学设计从基础到实践 成像衍射光学元件设计及应用 现代光学与光子学技术
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    • 753阅读
    • 0回复

    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    在线infotek
    科学家
     
    发帖
    5431
    光币
    21335
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 nB :iG  
    VE/m|3%t  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 L">jSZW[[  
    z.)*/HGJm  
    ! ,H6.IH;S  
    HL$7Ou  
    建模任务 ~X<$ l+5  
    wfu`(4  
    dikX_ Q>D  
    概观 K+L9cv4 |*  
    n[i:$! ,  
    7iv g3*  
    光线追迹仿真 w&es N$2  
    k+i0@G'C(  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 A4d3hF~l`  
    Dh#5-Kf%  
    •点击Go！ ei1;@k/  
    •获得3D光线追迹结果。 4~oRcO8!Y  
    %Rr_fSoV  
     TL$w~dY  
    /&@q*L  
    光线追迹仿真 {H9g&pfv  
    <pG 4 g  
    (+zU!9}I1  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 "5N$u(: b  
    •单击Go！ bh\2&]Di/  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     Iv9U4  
     =mcQe^M  
    `GY]JVW  
    `W1TqA  
    场追迹仿真 Sc}Rs  
    /=#~8  
    ,}>b\(Lk  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 z([HGq5  
    •单击Go！     !VudZ]Sg  
    O\]{6+$fm!  
    QJx<1#  
    ehe#"exCB  
    场追迹结果（摄像机探测器） ,ag* /  
     M[iWWCX  
    T|(w-)mv  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 D=5%lL  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Y|/,*,u+  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 j#p3<V S4  
    DI-CC[  
    p>T  
     g*4^HbVxt  
    场追迹结果（电磁场探测器） 81I9xqvSd~  
    \l5G   
    X6r<#n|l  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     G-vkkNj%e  
    g~=- ,j|  
    j/ARTaO1]"  
    文件信息 n7n-uc  
    fP( n3Q  
     6HVX4Z#VH  
    H:z<]Rc  
     Z{F^qwne  
    QQ：2987619807 ~Hx>yn94e  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表