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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 &,bJ]J)8O  
     8*lVO2  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 3>-^/  
    qL] !/}  
    A5z5e# ,u  
    0<fN<iR`  
    建模任务 C?X^h{T p  
    t}]=5)9<  
    =%p0r z|b  
    概观 \y{C>! WX4  
    LKTIwb>  
    :6%wVy5  
    光线追迹仿真 oS, %L  
    4y:yFTp  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 6> X7JMRY  
    e![n$/E3R  
    •点击Go！ 8L^5bJ  
    •获得3D光线追迹结果。 l jQru ^(u  
    h# B%'9r  
     8-+Ce;h  
    0M>+.}e+  
    光线追迹仿真 x}{/) ?vC  
    Jzo|$W  
    X6kCYTJYF  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 VMZ\9IwI  
    •单击Go！ ( hp 52Vse  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     JN,4#,  
    FxW~Co  
    z;J"3kM  
    tDJtsOL  
    场追迹仿真 !g'kWE[  
    'H0uvvhOp  
    C|*U)#3:F  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 tZB" (\  
    •单击Go！     -XRn%4EX?  
    j]Kpwf<NS  
    qs 6r9?KP  
    Cjc>0)f&.  
    场追迹结果（摄像机探测器） *c3(,Bmw  
     NO+.n)etGb  
    aA7}>  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 db -h=L|  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 hSr2<?yk  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 8iA[w-Pv  
    G)t_;iNL|  
    r$T\@oTL  
     L 7VDZCV  
    场追迹结果（电磁场探测器） *t=8^q(K[  
    :#7"SEud}  
    W|'7)ph  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     4z%::?  
    _UI*W&*  
    <N KmLAfX  
    文件信息 Td(eNe_4T  
    Vq-W|<7C=  
     VokIc&!Uz  
    +Np[m$Z *  
     /Z^"[Ke  
    QQ：2987619807 ut j7"{'k|  
     
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