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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 nS]Ih0( K  
    ~> S? m;  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 vGD D  
    y(Tb=:  
    x, #?  
    'v%v*Ujf[  
    建模任务 AP0z~e  
    (4C_Ft*~j  
    L+.-aB2!d  
    概观 :@^T^  
    nI,-ftMD-|  
    ||'A9  
    光线追迹仿真 _o{w<b&  
    Wn5xX5H C  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 .`/6[Zp  
    _ "lW  
    •点击Go！ :nxBM#:xu  
    •获得3D光线追迹结果。 )uy2,`z  
    4Vv$bbu+  
     $8fJDN  
    =[YjIWr#o  
    光线追迹仿真 ShJBOaE; -  
    . r \g]  
    }=s64O 9j  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 o| 9Mj71  
    •单击Go！ htOVt\+!34  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     Dj'+,{7,u  
    r^;1Sm  
    }/aqh;W  
    (gF{S* `  
    场追迹仿真 @^,9O92l  
    sEcg;LFp  
    )CG,Udu  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。  zj7?2  
    •单击Go！     #BhcW"@  
    *iXaQuT  
    #>O+!IH   
    nOq`Cwh9  
    场追迹结果（摄像机探测器） KWH:tFL.  
     b:W x[+  
    aThvq%;  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 AzFS6<_  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 @P6*4W  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 M Jtn)gXb  
    'b Kc;\  
    ,`ju(ac!  
     i`7:^v;  
    场追迹结果（电磁场探测器） Aw=GvCo<  
    6U%F mE@  
    lh*!f$2 ~  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     DQ%(X&k  
    ; nYR~~  
    h:{^&d a  
    文件信息 T!QAcO  
    TQ25"bWi  
     /e]R0NI  
    \>c1Z5H>  
     1|oE3  
    QQ：2987619807 -Rj3cx  
     
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