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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    光币
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    光券
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 dUF&."pW e  
    3`B6w$z>(  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 #z2rzM@/:  
    p Wt) A  
    a(9L,v#?  
    _`_%Y(Xat  
    建模任务 ALNc'MW!  
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    M5*{  
    概观 5K<5kHpvJ{  
    q|v(Edt|_[  
    3'c0#h@VD  
    光线追迹仿真 .Y3pS/VI  
    KA){''>8  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 P~G1EK|4  
    HKqwE=NZ  
    •点击Go！ 839IRM@'5  
    •获得3D光线追迹结果。 @ W^| ?  
    eXK o.JL  
     h|h>u ^@  
    4 &_NJ\  
    光线追迹仿真 S6+y?,^  
    LwK+:4$  
    gOr%!QaF  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 nD)K}4  
    •单击Go！ /qx0TDB  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     AjT%]9 V?  
    xZQg'IT  
    9uer(}WKT  
    h~p>re  
    场追迹仿真 m^H21P"z  
    C":o/;,1  
    ;Ww7"-=sw  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 l"!Ko G7  
    •单击Go！     )@L'wW  
    <IC~ GqXv  
    A%^w^f  
    59!Fkd3  
    场追迹结果（摄像机探测器） :k3Nt5t!  
     ;Wl+ zw  
    Ty<L8+B|  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 ,WG<hgg-U)  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 ~-dV^SO  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 B"v.* %"&/  
    UY<e&Npo  
    V0%V5>  
     un=2}@ '  
    场追迹结果（电磁场探测器） g*F'[Z."  
    }j^\(2  
    ?APe R,"V  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     Vg>(  Y,  
    #Ap;_XcKw  
    2 OwV^-OG  
    文件信息 gCN$}  
    Vm df8[5  
     G <uyin>  
    hTEx]# (  
     jU3Z*Z)zN  
    QQ：2987619807 GHHav12][  
     
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