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    [分享]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    在线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-19
    摘要 RlRkw+%m  
    2V6=F[T  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 ^[K3]*!@  
    =oZHN,  
    rToZN!q\S  
    G ZxM44fP  
    建模任务 OE{{,HFa`G  
    z/IA @  
    XLEEd?Vct9  
    概观 ~r<@`[-L  
    cL31g_u  
    wul$lJ?tE  
    光线追迹仿真 k[TVu5R  
    VMry$  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 tUS)1*{_  
    (G:A^z  
    •点击Go！ qPh @Bl3  
    •获得3D光线追迹结果。 ^*CvKCS  
    y v6V1gK  
     Yt]tRqrh;T  
    3V)ef$Y0  
    光线追迹仿真 ~SI`%^L  
    r57&F`{  
    l(c2 B  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 i!H)@4jX  
    •单击Go！ K U 2LJ_~Y  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     {WBe(dc_%  
    nz{ ;]U1  
    ;yfKYN[  
    bW"bkA80  
    场追迹仿真 bsfYz  
    8Ld`$_E  
    jZjWz1+  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 [i[*xf-B  
    •单击Go！     {1 VHz])I  
    $8/=@E{51  
    nWfzwXP>_  
    ]!7 %)  
    场追迹结果（摄像机探测器） n$2Ia E;v  
     /_WA F90R?  
    U0%T<6*H  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 #?x!:i$-  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 {e'P* j  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 ew13qpt)<L  
    '}4z=f`}  
    l ga%U~  
     j6!C/UgQ  
    场追迹结果（电磁场探测器） :;Lt~:0b~  
    d=` a-R0  
    ;rggO0Y  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     R07]{  
    (p19"p  
    Cz1Q@<)  
    文件信息 :B^YK].  
    mu#I F'|b  
     1X8P v*,  
    ZmLA4<  
     u+5&^"72,  
    QQ：2987619807 +9^V9]{Vo  
     
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