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    [分享]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-06
    摘要 *rA!`e*  
    k%hif8y  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 }O_6wi  
    L-Z1Xs  
    ak<?Eu9rV  
    概述 7^S&g.A  
    K~[/n<ks  
    SMnbI .0  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 (!;4Y82#  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 I5  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 x *(pr5k  
    Dtn|$g,  
    4/HyO\?z5  
    7n %QP  
    衍射级次的效率和偏振
    $+$+;1[  
    G3KiU($V  
    YckexfL  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 %2V_%KA  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 >/Slk {  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 T?Gi;ld7  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 |rsu+0Mtz  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 pp/Cn4"w  
    ^8B#-9Ph b  
    w!%Bc]  
    光栅结构参数 F7a\Luae  
    ! G,Ru~j5:  
    %]d^B |  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 Lk`0z  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 GQT|T0>Ro  
    •因此,选择以下光栅参数: _bFX(~37z?  
    - 光栅周期:250 nm AuSL?kZ4|Y  
    - 填充系数:0.5 :*Sl\:_X)  
    - 光栅高度:200 nm !Il<'+ ^  
    - 材料n1:熔融石英 n&k1'KL&  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) 5q@o,d  
    i $#bg^  
    3]/w3|y  
    1NA>W   
    偏振状态分析 `2 Z  
    4WU 6CN  
    4,UvTw*2z  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 !=Cd1 $<  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 9tqX77UK  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 yn"8Ma*  
    Q;Xb-\\  
    -g_PJ.Hk  
    /id(atiF^  
    产生的极化状态 nQb{/ TqC'  
    3/P2&m  
    7hY~  
    %E,s*=j  
    k oZqoP  
    其他例子 8.F]&D0p8  
    m'@NF--#Oq  
    u0Irf"Ab  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 S"V|BU  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 l '<gkwX  
    Nq Ve{+1x  
    c2-NXSjsW  
    ){ArZjG>  
    光栅结构参数 pd/{yX M  
    U_B"B;ng+  
    fMP$o3;  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 [r<lAS{ .  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 ku&IVr%  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 =T|Z[/fto  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 5$`ihO?  
    grp1nWAs  
    wk' |gI[W  
    光栅#1 R^{Ow  
    t9;yyZh  
    ^dM,K p  
    ej4xW~_  
    9Qst5n\Z  
    •仅考虑此光栅。 2 <y!3OeN  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 ZEiW\ V  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 @Q 8E)k@  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 [f!sBJ!  
    Gn>#Mvq  
    g!,>.  
    假设光栅参数: y_;LTCj?  
    •光栅周期:250 nm hWP$U  
    •光栅高度:660 nm Wz`MEyj  
    •填充系数:0.75(底部) TGlIt<&  
    •侧壁角度:±6° i?.MD+f8  
    •n1:1.46 Xb@lKX5Re  
    •n2:2.08 |kB1>$  
    gf$5pp-  
    光栅#1结果 _e E(P1  
    FFQ=<(Ki  
    Yg3Vj=  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 ""|vhgP  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 K&0'@#bE\  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    8!(4;fN$j.  
    c*sK| U7)  
    Vcm9:,Xlw  
    S:"R/EE(  
    光栅#2 +l+8Z:i<  
    vN=e1\  
    .'.#bH9K  
    .KSPr  
    Oc8]A=M12  
    •同样,只考虑此光栅。 t2Q40' `  
    •假设光栅有一个矩形的形状。  ky0Fm W  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 Y]!8Ymuww@  
    假设光栅参数: I<PKwT/?  
    •光栅周期:250 nm V<A_c^unO  
    •光栅高度:490 nm !#wd~: H  
    •填充因子:0.5 cOkjeHs 5  
    •n1:1.46 )4q0(O)d  
    •n2:2.08
    k GR5!8$z  
    V4@ HIM  
    光栅#2结果 c'ExZ)RJ  
    )GhMM  
    |E/U(VS3l~  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 t6V@00M@  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 O4H %x  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 HIM>%   
    Lx6C fR  
    [ }-CXB  
    文件信息 P4@<`Eb  
    .hd<,\nW  
    RKB--$ibj  
    f-!t31?XK  
    j{PuZ^v1  
    QQ:2987619807 )xwWig.  
     
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