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摘要 [0w@0?[ /9QI^6&SX 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 D<]z.33 M9[Fx=
qY ]]J2#mN:n 概述 _p<s! 8.ll]3)) ^?VYE26 •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 jqhd<w •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 ]4ya$%A •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 d:|X|0#\uH CD;C z*c
i"p)%q~ z LkD$\i 衍射级次的效率和偏振 `B}(Ln !'Q/9%g w(zlHj •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 g@BQ!}_#5 •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 h/j+b.| •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。
lU`]yL •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 !ZPaU11 •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 Fc%@
8%nb1CA -^`]tF`M 光栅结构参数 QWp,(Mv:r SQ9s . T6fPEb •此处探讨的是矩形光栅结构。 @kw#\%Uz •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 XbsEO>_Z'A •因此,选择以下光栅参数: N:[22`NP - 光栅周期:250 nm wuSp+?{5k - 填充系数:0.5 </3Shq - 光栅高度:200 nm VHGOVH, - 材料n1:熔融石英 %"Q{|} - 材料n2:TiO2(来自目录) n7>CK?25 })rJU/ /B73|KB+ uDJi2,|n 偏振状态分析 $@<qaR{t \ 6Lk<VpAa UT|FV
twO •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 -]\cUQ0 •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 Mn7nS: •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 UE^_SZ !*_5 B'
>bWx!M] # Y/.%ch. 产生的极化状态 P~$FgAV 0h nTHlk
`!rH0]vy _R-[*ucq u;rK.3o 其他例子 Ao~ZK[u ]@)T] + Bk"
khH •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 4)./d2/E •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 FjYih> I%.KFPV *)+1BYMo T|dQY~n~ 光栅结构参数 >tTNvb5 Q|/uL`_ni p_T>"v •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 bkk1_X •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 *<?or"P •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 4X,fb` •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 ckFnQhW
D.elE: (%*CfR:> 光栅#1 6z3 Yq{1 +NL^/y<;
Ba==Ri8$ 9i4!^DM_ IH|PdVNtg •仅考虑此光栅。 'ap<]mf2 •假设侧壁表现出线性斜率。 J!r,ktO^U? •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 v_-S#( •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 Z^? 1MJ:` h&Thq52R 9+<%74|, 假设光栅参数: g=w,*68vuy •光栅周期:250 nm gD&/k
•光栅高度:660 nm l!VPk"s •填充系数:0.75(底部) ZI"L\q=|0# •侧壁角度:±6° C? pi8Xg •n1:1.46 [^wEKRt& •n2:2.08 ke.{wh\0 A)9[.fhx 光栅#1结果 !:
e(- -dX{ R_* mmk]Doy?# •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 a& >(*PQ •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 zJ;K4)"j •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 En&bwLu:s qyXx`'e Wxjv=#3 /8!s
C D 光栅#2 !3~VoNh, >dH5n$Gb
@8zp(1. D>& ;K{! x+~IXi>Ig •同样,只考虑此光栅。 _n9+(X3 •假设光栅有一个矩形的形状。 ;K[ G]8 •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 5+U2@XV 假设光栅参数: wg6![Uh •光栅周期:250 nm BKoc;20; •光栅高度:490 nm qX'w}nJ}H} •填充因子:0.5 p%304oP6 •n1:1.46 `?{Hs+4P5 •n2:2.08 /'|'3J]HP j7;v'eA`;7 光栅#2结果 33d86H%; uM0!,~&9| DbSl}N ; •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 _] E ~ci} •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 Wpom {- •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 myH:bc>6 W>b(hVBE
,x5`5mT3 文件信息 Kq/W-VyGh bAeN>~WvY
TX{DZ# VVuL+i *BVkviqxz QQ:2987619807 uR"srn;^
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