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摘要 <[(xGrEZV yVSJn>l! 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 Hh,\>= ': /6g*WX2P1 p=p,sJ/@ 概述 u)%J5TR .Y Dzb@H$BQ7 6ZX{K1_q •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 I6\l6 o •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 "@.hz@> •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 uV{cvq$jy znD0&CS9q od$Cm5 RxcX\: 衍射级次的效率和偏振 l{6fR(d ? PE-VxRN) sOv:/' •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 fAXF_wj •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 Ymx/N+Jl •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 [Qr#JJ •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 rcAx3AK. •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 GkVV%0;&J1 h
~v8Q_6
5@+4>[tw 光栅结构参数 p%8y!^g [WuN?H _A1r6 •此处探讨的是矩形光栅结构。 bDRl}^aO6 •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 5Q
=o.wf •因此,选择以下光栅参数: 624l5}@: - 光栅周期:250 nm IOomBy: - 填充系数:0.5 iU5M_M$G - 光栅高度:200 nm (6!W8x7 - 材料n1:熔融石英 B/AS|i] sM - 材料n2:TiO2(来自目录) }mz@oEB#vF m>DBO|` lh{U@,/ yO.q{|kX 偏振状态分析 ?31#:Mg6g+ ch!/k qYF150 •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 wa2?%y_G •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 c7Jfo
x
V •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 SN'j?- `B-jwVrN( rUmaKh?v|X \W4|.[ 产生的极化状态 }}G`yfs}r dv1Y2[ lp+Uox N"L@ =*>ri 其他例子 e#BxlC [3o^06V8j m - ]E| •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 %OE
(?~dq •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 Y?IvG&]) lsq\CavbM Ku$:. +`=rzL"0I7 光栅结构参数 21_sg f? V(wm?Cc] oR[-F+__ •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 @?e+;Sx •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 OXDEU. •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 ;#)sV2F\& •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 5d|hP4fEc `8M{13fv l^!raoH]q 光栅#1 DXyRNE<G[C D6N32q@ e>J.r("f ZW>iq M^9 Qv1<)&Ft< •仅考虑此光栅。 ?vh1 >1D •假设侧壁表现出线性斜率。 ;2N:
=Rv •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 D qu?mg;L •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 a1#",%{I 6
9+Pf* nOTe 3?i> 假设光栅参数: -RI&uFqOI •光栅周期:250 nm 0fE?(0pBj •光栅高度:660 nm Be;l!]i •填充系数:0.75(底部) yo^M>^P\N •侧壁角度:±6° Ky[s&>02 •n1:1.46 tY@+d*u •n2:2.08 hik.c3 zoibinm}Eg 光栅#1结果 Fa0Fl}L '/2)I8 @PzRHnT* •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 T|k_$LH •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 Mh"iyDGA •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 P1_6:USBM H"NBjVRU% 7x=-1wbi VW\xuP 光栅#2 SDu%rr7sQ z?<Xx?Kk <IBWA0A=8a A= 96N@m6 Qa#Em1co •同样,只考虑此光栅。 ^^z_[Ih •假设光栅有一个矩形的形状。 blx"WVqo •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 ?Gx-q+H 假设光栅参数: ovk^ •光栅周期:250 nm cC pNF `DN •光栅高度:490 nm "M}3T?0 O •填充因子:0.5 Yij_'0vZ •n1:1.46 ;iA$yw: •n2:2.08 ~P fk
d1}cXSQ1T 光栅#2结果 T
s9go ?>Bt|[p:s) /lLG|aAe •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 6
m%/3>q •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 1VA%xOURh •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 L-`?=- 9` m$`4.>J $C
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