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    [分享]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-06
    摘要 <[(xGrEZV  
    yVSJn>l!  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 Hh,\>= ':  
    /6g*WX2P1  
    p=p,sJ/@  
    概述 u)%J5TR.Y  
    Dzb@H$BQ7  
    6ZX{K1_q  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 I6\ l 6o  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 " @.hz@>  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 uV{cvq$jy  
    znD0&CS9q  
    od$Cm5  
    RxcX\:  
    衍射级次的效率和偏振
    l{6fR(d ?  
    PE-Vx RN)  
    sOv:/'  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 fAXF_wj  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 Ymx/N+Jl  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 [Qr#JJ  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 rcAx3AK.  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 GkVV%0;&J1  
    h ~v8Q_6  
    5@+4>[tw  
    光栅结构参数 p%8y!^g  
    [WuN?H  
    _A1r6  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 bDRl}^aO6  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 5Q =o.wf  
    •因此,选择以下光栅参数: 624l5}@:  
    - 光栅周期:250 nm IOomBy:  
    - 填充系数:0.5 iU5M_M$G  
    - 光栅高度:200 nm (6!W8x7  
    - 材料n1:熔融石英 B/AS|i] sM  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) }mz@oEB#vF  
    m>DBO|`  
    lh{U@,/  
    yO.q{|kX  
    偏振状态分析 ?31#:Mg6g+  
    ch!/k  
    qYF150  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 w a2?%y_G  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 c7Jfo x V  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 SN' j?-  
    `B-jwVrN(  
    rUmaKh?v|X  
    \W4|.[  
    产生的极化状态 }}G`yfs}r  
    dv1Y2[  
    lp+Uox  
    N"L@  
    =*>ri  
    其他例子 e#BxlC  
    [3o^06V8j  
    m -]E|  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 %OE (?~dq  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 Y?IvG&])  
    lsq\CavbM  
    Ku$:.  
    +`=rzL"0I7  
    光栅结构参数 21_sg f?  
    V(wm?Cc]  
    oR[-F+__  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 @? e+;Sx  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。  OXDEU.  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 ;#)sV2F\&  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 5d|hP4fEc  
    `8M{13fv  
    l^!raoH]q  
    光栅#1 DXyRNE<G[C  
    D6N 32q@  
    e>J.r("f  
    ZW>iq M^9  
    Qv1<)&Ft<  
    •仅考虑此光栅。 ?vh1 >1D  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 ;2N: =Rv  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 Dqu?mg;L  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 a1#",%{I  
    6 9+Pf*  
    nOTe 3?i>  
    假设光栅参数: -RI&uFqOI  
    •光栅周期:250 nm 0fE?(0pBj  
    •光栅高度:660 nm Be;l!]i  
    •填充系数:0.75(底部) yo^M>^P\N  
    •侧壁角度:±6° Ky[s& >02  
    •n1:1.46 tY@+d*u  
    •n2:2.08  hik.c3  
    zoibinm}Eg  
    光栅#1结果 Fa0Fl}L  
    '/2)I8  
    @PzRHnT*  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 T|k_$LH  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 Mh "iyDGA  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    P1_6:USBM  
    H"NBjVRU%  
    7x=-1wbi  
    VW\xuP  
    光栅#2 SDu%rr7sQ  
    z?<Xx?Kk  
    <IBWA0A=8a  
    A=96N@m6  
    Qa#Em1co  
    •同样,只考虑此光栅。 ^^z_[Ih  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 blx"WVqo  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 ?Gx-q+H  
    假设光栅参数: ovk^  
    •光栅周期:250 nm cC pNF `DN  
    •光栅高度:490 nm "M}3T?0 O  
    •填充因子:0.5 Yij_'0vZ  
    •n1:1.46 ;iA$yw:  
    •n2:2.08
    ~P fk   
    d1}cXSQ1T  
    光栅#2结果 T s9go  
    ?>Bt|[p:s)  
    /lLG|aAe  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 6 m%/3>q  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 1VA%xOURh  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 L-`?=- 9`  
    m$`4.>J  
    $C t(M)  
    文件信息 Um!LF"Z  
    6m0- he~  
    eIcIl2  
    =AP0{  
    byHXRA)39  
    QQ:2987619807 >p29|TFbV  
     
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