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摘要 z{%G h\20 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 A!j&g(Z"Q 0<P
-` |X 7Y$p3]0e+ 概述 J@)6]d/, c5t?S@b 0&w.QoZY( •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 43(+3$V M7 •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 *.i`hfRc •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 :Tjo+vw7$H ikofJl]9
,Z52dggD |#MA?oz3T 衍射级次的效率和偏振 >Ks| yNJ W/&cnp\ 0_%u(? •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 3|@Ske1%Y •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 /r]IY. •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 paiF ah •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 g8B@M*JA •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 j[c|np4k\
cl{;%4$9 ya|7hz { 光栅结构参数 q,+d\-+ y&SueU= CRS/qso[Q' •此处探讨的是矩形光栅结构。 mF#{" •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 2AU_<Hr6 •因此,选择以下光栅参数: \f%jN1z - 光栅周期:250 nm J;G+6C$: - 填充系数:0.5 i"zWv@1z - 光栅高度:200 nm 4GaF:/ - 材料n1:熔融石英 /(XtNtO* - 材料n2:TiO2(来自目录) ^
b}_[B ;JDxl-~ e6]u5;B
r mO]>(^c 偏振状态分析 J6|5*|*^ &|55:Y87 Rsqb<+7 •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 Z9TG/C,eo •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 Xgc@cwd •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 ,LU/xI0O M2mte#h
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I,c/ %5a>@K] 产生的极化状态 HPm12&8, #(!>
1_*o(HR e=TB/W_ 3fM~R+p 其他例子 hcwKi
L)J0TSh Al6)$8]e •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 Bo_Ivhe[m •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 IIs'm!"Y> (*BQd1Z 05.^MU?^U wjQu3 ,Cj 光栅结构参数 )<t5' +d% Hj$JXo[U mKQ!@$* •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 (
{5LB4 •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 Z$~Wr3/ •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 JZ]4?_l •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 PW~+=,
O| ) [j@7 TE3A(N' 光栅#1 >@rsh-Z j"9bt GX
bBn4m: ehV`@ss ^#9
&Rk!t •仅考虑此光栅。 |Xlpgdiu •假设侧壁表现出线性斜率。 n0:'h}^ •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 NDWpV •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 OV_Y`u7YR JJPU! @~qlSU& 假设光栅参数: 4U*J{''L •光栅周期:250 nm mADq_`j •光栅高度:660 nm 4
>at#Zc •填充系数:0.75(底部) J 6D?$ •侧壁角度:±6° q~48lxDU •n1:1.46 =c"`>Vi@d •n2:2.08 yO;r]`j0 [kM)K'- 光栅#1结果 NiQ`,Q$B 6-c3v ]v{f!r=} •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 l\I#^N •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 /GD4GWv : •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 Y!N*J ^2rNty,nH w]J9Kv1)- ,]+P#eXgE 光栅#2 ~ODm?k *NHBwXg+
S='AA_jnw L0H;y6& =UE/GTbl •同样,只考虑此光栅。 ACxOC 2\n •假设光栅有一个矩形的形状。 $T.we+u •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 yV,ki^^ 假设光栅参数: TPH`{ •光栅周期:250 nm GVP"~I~/: •光栅高度:490 nm z-$ bce9* •填充因子:0.5 DN3#W w2[r •n1:1.46 RY3ANEu+ •n2:2.08 uLX5khQ SAMP,un7 光栅#2结果 \x P$m|Y3 [@fw9@_' Y_tLSOD#/ •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 C8 9c2 •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 {>PN}fk2QP •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。
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()a(PvEO 文件信息 |h$*z9bsf yV[9 (
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