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摘要 i>i@r ;:| q:@$$}FjL 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 }Wjb0V cx M=#Go jdiFb~5R 概述 =FQ]eb* ;=>4
'$8 #` )zD"CO •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 $EHAHNL?Lx •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 5xL%HX[S •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 >u#c\s ;o }pRC
FI{9k( YpMQY-n 衍射级次的效率和偏振 Q.Uyl:^PxU
CS2AKa@` 3\WLm4 •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 pB;)Hii\ •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 X>l •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 w%;Z`Xn&u •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。
*&{M, •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 R4v)}`x
kb{h` hGyi@0
光栅结构参数 *.4;7# bSsX)wHm OJe#s;oH •此处探讨的是矩形光栅结构。 RGh`=D/yE •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 "&Ym(P •因此,选择以下光栅参数: "?a(JC - 光栅周期:250 nm f@&C
\
- 填充系数:0.5 \tE2@ - 光栅高度:200 nm ,9Y{x - 材料n1:熔融石英 )$V}tr! - 材料n2:TiO2(来自目录) 6U)Lhf\'o &o*/6X zbn0)JO !~PLW] Z4 偏振状态分析 i3g;B?54 ku q3QW< f@lRa>Z(Fm •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 |9.`qv •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 .6S]\dp7~ •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 }2 zJ8A9- `r;e\Cp
P[-2^1P" rf1Us2vp 产生的极化状态 Wo=Q7~ gn"_()8cT
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mstJ9 99 /fI fdP[{.$?( 其他例子 x"0*U9f Cc^`M9dP v&oE!s# •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 M?pu7wa •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 }TD$! NFTEp0eP /Y|oDfv CI$pPY<u1 光栅结构参数 R4=n">>Q vQCRs!A *l:5FTp •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 p|VoIQY •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 I4
dS,h •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 Z=`\U?, •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 Z7?C^m
fhlhlOg v
WKUV| 光栅#1 Qk?;n F !Tuc#yFw
@4dB$QF`& _
h\wH; * Zb-YA •仅考虑此光栅。 KrN#>do&< •假设侧壁表现出线性斜率。 H: q(T
>/w •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 l?E7'OEF: •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 Qe<DX" ka3Jqy4[ Fa78yY+6 假设光栅参数: 16=tHo8| •光栅周期:250 nm f6n'g:&.W •光栅高度:660 nm \9*wo9cV •填充系数:0.75(底部) Ht#5;c2/ •侧壁角度:±6° qD:3;85 •n1:1.46 vB >7W •n2:2.08 b}63?.M{ bm9@A]yP 光栅#1结果 <wV?B9j afY~Y?PJ< g2p/#\D\J •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 `[x`#irD •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 f%ude@E3 •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 }Jkz0 JY~ _hlLM,p GQ~wx1jj1 L2:v#c()#) 光栅#2 3n-~+2l tM3eB= .*
@MMk=/WDw Yg@k+ xu[6h?u(h8 •同样,只考虑此光栅。 4kZX$ct} •假设光栅有一个矩形的形状。 mk#xbvvG •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 u'}SaX]0 假设光栅参数: #`R`!4 •光栅周期:250 nm /*=1hF •光栅高度:490 nm o>lk+Q#L @ •填充因子:0.5 `0a=A#]1o •n1:1.46 Ng=XH"ce~ •n2:2.08 J
WaI[n} %7WQb]y 光栅#2结果 .: ~);9kj -m*IpDi @C7iflo6 •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 [>l2E •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 /y/O&`X( •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 63R?=u@ t.'| [pOV
=8BMCedH| 文件信息 &c<0g`x 'lwLe3.c
04{*iS95J tHgn-Dhzr y;W|) QQ:2987619807 ?CSc5b`eo
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