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摘要 <#4h}_xA% BiBOr}ZQ 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 YS_;OFsd e*1_ 8I#2 Vxt+]5X 概述 U6s[`H3I{ "0TZTa1e BMf@M •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 K*d Cc}:` •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 G3v5KmT •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 alb.g>LNPP [2cD:JL
V=3b&TkE a8Wwq?@ 衍射级次的效率和偏振 pfI&E#:5 %&bY]w 3G4-^hY< •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 *Pg2c(Vg •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 =2x^nW •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 ,2ar7
5Va •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 \l3h0R •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 apxph2yvS
9N3eN #X"@<l4F 光栅结构参数 Xn
;AZu^'R kU`r)=1" 8dhUBJ0_ •此处探讨的是矩形光栅结构。 xkAK!uVy •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 $ME)#( •因此,选择以下光栅参数: a'IdYW0 - 光栅周期:250 nm vvOV2n.WD - 填充系数:0.5 #e5\j\#. - 光栅高度:200 nm 4KrL{Z+} - 材料n1:熔融石英 9_s`{(0? - 材料n2:TiO2(来自目录) rrv%~giU t#"Grk8Mz& HpnWoDM Xha..r 偏振状态分析 vr^qWn 8\gjST* cN9t{.m •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 %~S&AE- •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 ReeH@.74 •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 ~PNub E ;A!BVq
@s^-.z L8 @1THY 产生的极化状态 wlmRe`R pb=h/8R
POR\e|hRT] X[TR3[1} FC"8#*x 其他例子 ?0xgRe< 29q _BR *: {[ >Kob1 •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 ;jTN| i' •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 4xJQ!>6 WMP,\=6k0 !0E&@X:- RCLeA=/N@0 光栅结构参数 Xb,3Dvf pY$Q }4S6Xe •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 76` .Y •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 >)Tqt!? •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 '[O;zJN; •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 C2)2)
T9q-,w/j; KCDE{za 光栅#1 W+1^4::+ *4_Bd=5(U
/|#fejPh D7qOZlX16 :p6M= •仅考虑此光栅。 G 9vpt M •假设侧壁表现出线性斜率。 IdxzE_@ •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 pFz`}?c0 •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 <_KIK RY*U"G0#w 7})[lL`\s 假设光栅参数: eQvg7aO; •光栅周期:250 nm 5 + MS^H •光栅高度:660 nm dcWD(- •填充系数:0.75(底部) _oDz- •侧壁角度:±6° HiJE}V;Vq •n1:1.46 *G9V'9 •n2:2.08 @gXx1hEg BJo*'US-Q 光栅#1结果 n@[O|?S ]:/Q]n^ ib791 •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 ps DetP
•相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 ges J/I •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 u08mqEa 1 I",L&S1 *EwR!L* %BB%pC 光栅#2 1hNq8*| 57'4ljvYi
sds"%]rg IRqy%@) PRE|+=w$ •同样,只考虑此光栅。 &~U ] ~;@ •假设光栅有一个矩形的形状。 G'aDb/ •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 1D!<'`)AY 假设光栅参数: R0 •光栅周期:250 nm hqkz^!rp •光栅高度:490 nm Fh9h,'
V" •填充因子:0.5 l0i^uMS •n1:1.46 k2UVm$}u •n2:2.08 t}tEvh xWQ`tWA:J 光栅#2结果 ZO$%[ftb h;NYdX5 >!)DM]Ri •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 KL Xq\{X •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 S#}
KIy •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 2WYPO"q }txX;"/
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