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摘要 @};
vl mR,w~wP 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 'h}(> % .`p,pt; x{DTVa
6y2 概述 s.|OdC>U = 'Em3;`/C*+ n?Zt\Kto •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 %_Q+@9 •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 nA*Udrcn •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 H4B|c42 j]HzI{7y
`D/<*e,# hY5GNYDh 衍射级次的效率和偏振 "m#17J_ n(uzqd )J^5?A •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 >}T}^F •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 e5AZU7%. •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 G&Fe2&5!w •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 QM('bbN •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 RGgePeaw
!;3hN$5 'm=TBNQTS 光栅结构参数 knn9s0'Q h+rW%`B 7Pe<0K)s( •此处探讨的是矩形光栅结构。 5GK> ~2c( •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 vh"wXu •因此,选择以下光栅参数: a yYl3 - 光栅周期:250 nm |LV}kG(2 - 填充系数:0.5 9dVHh?E - 光栅高度:200 nm _-|/$ jZ - 材料n1:熔融石英 n'To: - 材料n2:TiO2(来自目录) ARUzEo
gcf ,(i`gH{D Tw,|ZA4XH uc{s\_ 偏振状态分析 15z(hzU?# S
awf]/ lY&Sx{- •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 L35]'Jua •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 =AcK9?%5 •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 M3U?\g 9!_JV;2
0"}=A,o(w ){LU>MW{& 产生的极化状态 gy1R.SN Or#KF6+ut
mEmgr(W kQF3DR$,B =pZ$oTR 其他例子 qeDXG tmd{Gx}c Up1n0 •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 b@S~
= •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 SoWMP2/ :qc?FQ
; ov<vSc<u <(t{C8>g% 光栅结构参数 H:nO\] H|S hi / !K-qoBqKM •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。
2g~W})e •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 g"~`\xhx •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 AJ>$`= •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 O5MV&Zb(
)<%CI#s# ef7 BG( 光栅#1 Q4Nut
jM-7
foUBMl O1@3V/.Wu 4k9$'
k •仅考虑此光栅。 HVdB*QEH •假设侧壁表现出线性斜率。 4B9D •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 i[4!% FxB •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 Py?e+[cN /2''EF'; VnqcpJ 假设光栅参数: Y(] W+k< •光栅周期:250 nm @Gw.U>"!C •光栅高度:660 nm R, #szTu •填充系数:0.75(底部) e7y,zcbv •侧壁角度:±6° >;]S+^dXY •n1:1.46 Y[|9
+T •n2:2.08 Aj]/A k0&FUO 光栅#1结果 od$$g( 6-~ZOMlV <00nu'Ex1v •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 :]4s;q:m •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 r:PYAb=g •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 Em4'b1mDX% ?VCp_Ji ~1XC5.*-
#F6<N]i 光栅#2 xi=0kO (/^?$~m"
?^J%S, RD0*]4>] M;W&#Fz% •同样,只考虑此光栅。 M1]w0~G •假设光栅有一个矩形的形状。 i03=Af3 •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 ~;-2eKw 假设光栅参数: O3?^P"C •光栅周期:250 nm \Unawv~ •光栅高度:490 nm TD-B\ @_ •填充因子:0.5 _>)@6srC •n1:1.46 -]-0]*oAp •n2:2.08 qJJ
5o?' fT{jD_Q+3 光栅#2结果 [VLq/lg* ;1s;" 4`'Rm/) •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 N?8nlrDQ •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 3sRI7g •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 eoFG$X/PO ]T(qk
ZFh[xg'0 文件信息 mI\[L2x ADM!4L(s4}
Uu@qS C?MKbD=K J7`;l6+Gb QQ:2987619807 NGRXNh+
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