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摘要 bUds E1f W$`#X 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 -@Urq>^v T u^#e7u d0& 概述 M*C1QQf\N p L^3*B.Nr N2Ysi$ •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 g#Ta03\ •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 Rha|Rk~ •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 l N0u1)'2 SXN]${
nR w f;K _ n1:v~ 衍射级次的效率和偏振 da_0{;wR CS5[E-%}T= OVc)PMp •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。
ls7P$qq •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 }' sW[?ik •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 N9y+Psh •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 n3qRt •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 wZW\r!Us
"dE[X`
}= DsD? &: 光栅结构参数 }TAG7U* tmM; Z(9t R@/"B?`(f •此处探讨的是矩形光栅结构。 5hDy62PRr •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 [1ClZ~f •因此,选择以下光栅参数: #6l(2d - 光栅周期:250 nm !IB}&m - 填充系数:0.5 q)KOI`A - 光栅高度:200 nm #};Zgixo$ - 材料n1:熔融石英 VZ y$0* - 材料n2:TiO2(来自目录) [Fv,`*/sm zA:q/i ^U96p0H"T a2kAZCQ 偏振状态分析 P=\Hi.]% b!`Ze~V Jf\`?g3# •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 wu &lG!# •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 i\gt
@ •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 [TFp2B~)# vts"
;Ru[^p.{ m/(/!MVy 产生的极化状态 ;ceg:-Zqo t)g%9 k^
T!HAE#xC V@TA~'$| o_[~{@ RoR 其他例子
2Vu?Y {fX~%%c" Sm?|,C3V •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 jp@X,HES •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 e"XolM0IM 1$6
u >!{8)ti Ggsts 光栅结构参数 bAuiMw7! 8Gy*BpmJn }d iE' •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 0Zo><= •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 'zT7$ .L •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 N'$P(
bx •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 ^Jdg%U?
[KbLEMrPba
E}a.qM' 光栅#1 yf`_?gJ6d )
LTV+?
1/qD5 *`Y jsr) mqUDve( •仅考虑此光栅。 Fm6]mz%~u# •假设侧壁表现出线性斜率。 9F6dKPN: •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 -f1}N|hy •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 Tyb'p9 QtWe,+WWV 99,=dzm 假设光栅参数: '&K' 0qG •光栅周期:250 nm ,!g/1m •光栅高度:660 nm 9f5~hBlo •填充系数:0.75(底部) .*>C[^ •侧壁角度:±6° u|u)8;'9( •n1:1.46 ~|ZAS] •n2:2.08 H1KXAy`& Gv
} 光栅#1结果 )hoVB 6"}F
KRR 7Q~W}`Qv' •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 hb/Z{T' •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 f;l}Z|dok6 •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 |E||e10wR *8yC6|wL? A=e1uBGA F{.g05^y 光栅#2 *-q&~ ^nOh8L;
O*,O]Q ZC<EPUV( f4NN?"W) •同样,只考虑此光栅。 D;+Y0B •假设光栅有一个矩形的形状。 ncOl}\Q9 •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 yT7{,Z7t 假设光栅参数: :J2^Y4l2 •光栅周期:250 nm h4Arg~Or •光栅高度:490 nm +u\w4byl •填充因子:0.5 REi"Aj= •n1:1.46 V2@(BliP •n2:2.08 T%Zfo7 oblw!) 光栅#2结果 jO*H8XO ?>vkY^/ wq1s#ag< •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 8. +f@wv •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 ymqn1ja1 •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 "@5{= <pS#wTsN4%
cSG(kFQ 文件信息 fLSDt(c', r(wtuD23q
pjSM7PhQ &f?JtpB P# 8lO%; QQ:2987619807 3!#FG0Z
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