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    [分享]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-06
    摘要 ,Mwyk1:xix  
    %SV"iXxY  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 "Fv6u]Rv  
    kqYvd]ss  
    8.e k_ r  
    概述 1k@k2rE  
    %]9 <a  
    h3^ &,U  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 zdA:K25"  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 0 `X%&  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 Ov{fO  
    b@ J&jE~d  
    l'~]8Wo1  
    ) Qve[O  
    衍射级次的效率和偏振
    UXB[3SP  
    qlUYu"`i  
    Qi^MfHW  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 w;$@</  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 +4emkDTdR  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 DI=Nqa)r  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 t;+6>sTu  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 NEQcEUd?  
    K[LTw_oE  
    5*1wQlL  
    光栅结构参数 ?V_Qa0k  
    x q93>Hs  
    /p') u3  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 &/ lJ7=Nq  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 +j5u[X  
    •因此,选择以下光栅参数: ?r@euZ&  
    - 光栅周期:250 nm r;w_B%9  
    - 填充系数:0.5 8|[\Tp:;  
    - 光栅高度:200 nm F2y M2Ldx  
    - 材料n1:熔融石英 YgaJ*%\  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) N$ZThZqqv  
    8eP2B281  
    -"5x? \.{m  
    zTY|Z@:  
    偏振状态分析 ( 5 d ~0  
    XKp%7;  
    2]NP7Ee8 Z  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 EU,4qO  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 ovCk :Vz  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 a<Pi J?  
    7|6tH@4Ub  
    uqZLlP#&#  
    < W,k$|w  
    产生的极化状态 PKC``+K i  
    ?{qw /&  
    k=Ef)'  
    G;Y,C<)0k  
    14\%2nE  
    其他例子 X.s? =6}g  
    P<kTjG  
    &tZ?%sr  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 nvD"_.KrJ  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 ;JFE7\-mC  
    ,@!8jar@w}  
    XrC{{K  
    oKt<s+r  
    光栅结构参数 #`a-b<uz  
    Hi|2z5=V  
    u7j-uVG  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 zx(j6  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 [ H>MeeR  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 vFb{(gIJ  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 YH<F~F _  
    vyV n5s  
    g)$Pvfc  
    光栅#1 mkBQX  
    EhB9M!Y`@  
    bS/`G0!  
    5?;'26iC  
    QVn0!R{  
    •仅考虑此光栅。 -f9M*7O<gf  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 n{BC m %  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 (53dl(L?  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 ,_rarU)[J  
    Z55,S=i  
    Z(K[oUJx  
    假设光栅参数: RMC|(Q<  
    •光栅周期:250 nm r %0  
    •光栅高度:660 nm 'VJMi5Y(-  
    •填充系数:0.75(底部) CI{]o&Tf  
    •侧壁角度:±6° bwVv#Z\r  
    •n1:1.46 GJO/']k  
    •n2:2.08 6j"(/X|Ex5  
    V"$t>pAG  
    光栅#1结果 +{hxEDz  
    +"3eh1q[  
    -&)^|Atm  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 MruWt*  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 K+v 250J$-  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    {+xUAmd  
    \)M 5o  
    l7s=b4}c  
    !-.-!hBN  
    光栅#2 ePs<jrB<  
    CPVKz   
    sx]?^KR:  
    ^<E+7  
    ]`. d%Vx  
    •同样,只考虑此光栅。 ^OBaVb  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 &]LwK5SR  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 .qK=lHxT  
    假设光栅参数: xZ@Y`2A':  
    •光栅周期:250 nm IN%>46e`  
    •光栅高度:490 nm Y~vTFOI  
    •填充因子:0.5 $--PA$H27  
    •n1:1.46 ^F"*;8$  
    •n2:2.08
    }qKeX4\-  
    Xx'>5d>  
    光栅#2结果 L//sJe  
    Ap!UX=HBb  
    w4x8 Sre  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 chd${ j  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 pM46I"  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 VBH[aIW  
    3Aj_,&X.@(  
    .oK7E(QJ  
    文件信息 dX$])b_Uw  
    xJ"Zg]d{  
    25ayYO%PTc  
    -:~`g*3#  
     ]Ea7b  
    QQ:2987619807 M`>W'<  
     
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