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摘要 vo2GFo 4I|pkdF_ 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 |WfL'_?$ 6s
~!B{Q nV`W0r(f' 概述 Lw1[)Vk}E (Jk[%_b>_ |x>5 T} •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 wfcR[ •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 wbh=v; •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 |2rOV&@l9 LnsYtkbr
obPG]*3 (hIo0. 衍射级次的效率和偏振 6BM$u v4 Z+[W@5q $H]NC-\+> •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 |`V=hqe{ •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 %Y5F@=>& •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 S2W@;XvV •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 r6:e
423 •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 ]<r.{EJ
-w5sXnS In+2~Jw/2! 光栅结构参数 3TS:H1n Gi2Fjq/Y sB^ejH •此处探讨的是矩形光栅结构。 'iDkAmvD •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 oL<5hN*D •因此,选择以下光栅参数: v\?l+-A?y - 光栅周期:250 nm {LCKt/Z>P - 填充系数:0.5 DZEq(>mn - 光栅高度:200 nm -z
se+]O` - 材料n1:熔融石英 >g@@ yR, - 材料n2:TiO2(来自目录) sBqOcy peOoZdJd 0($On`# *&R|0I{> 偏振状态分析 j#Lj<jX!xR TqOH(={ #TH(:I=[ •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 wx!2/I> •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 !T8sWMY •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 JeA_mtSQ| lLglF4
&fU48n1Uh jR@>~t[}o 产生的极化状态 &n0Ag]$P c"t&,OU:
T1x67 b
u eIN0T;1T ^),t=!;p 其他例子 -9o7a_Z h|lH`m^ L 7LUy$M-< •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 W ,v0~ •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 r)Ml-r= Pj{I}4P` UQ@szE hb)C"q= 光栅结构参数 W{j(=<|< KDA2
H> G-sQL'L[U •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 }"v#_vJfz7 •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 VRSBf;? •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 Bqb`WX[<` •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 T\:*+W37
|_ U!i Q]VG6x 光栅#1 x(~V7L>"i Z,M2vRj"qT
av:%wJUl,$ Ol|fdQ C#3&,G W •仅考虑此光栅。 s%6L94\t •假设侧壁表现出线性斜率。 2t>>08T •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 78?cCj{e •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 Wc;N;K52 :lmimAMt =5YbK1Q^ 假设光栅参数: uX&h~qE/ •光栅周期:250 nm %|j`;gYV •光栅高度:660 nm aOsc_5XDR; •填充系数:0.75(底部) r@wE?hK •侧壁角度:±6° CoWT •n1:1.46 :&2%x •n2:2.08 M8y|Lm}o wgq=9\+& 光栅#1结果 I'N!j>5oX ?MFXZ/3(ba bBGg4{ •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 SbsdunW+? •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 J{Ld)Q,^ •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 mmCGIX #c'}_s2F[ #BZ5Mxzj yD8Qy+6L 光栅#2 ]"j%:fr HL:w*8a
`R lWhdE N4{g[[ T C]ax}P>BQ •同样,只考虑此光栅。 ]@ Vp:RGMr •假设光栅有一个矩形的形状。 &?}h)U#: •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 ]5MT-qU 假设光栅参数: + EKp*Vje •光栅周期:250 nm vVsaGW •光栅高度:490 nm r]wy-GT •填充因子:0.5 o_[I#PT •n1:1.46 N%u4uLP5k •n2:2.08 2|`Mb~E; BrZ17 光栅#2结果 l}#d^S/ 6Yqqq[#V/ '[HU!8F •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 w[EEA_\ •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 PMvm4< •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 F`+S(APT8 A v;NQt8ut
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