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摘要 M R'o{?{e` ] c}91 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 uXQ >WI@eF ]M,06P>? W9J1= 概述 +`bC%\T8? b
X)|MiWI 0O2n/`' •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 znZ7*S >6\ •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 y/_wx(2 •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 S{p}ux[}= noNm^hFL
`_ (~ Ud ivrXwZ7jT 衍射级次的效率和偏振 :WXf.+IA dEp/dd~(& (:\LWJX0= •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。
FfM nul •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 We`'>'W0 •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 8SnS~._9 •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 [cU,!={ •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 b>cafu
LxJ6M/". &K:' #[3V 光栅结构参数 kI*Uk M- IlLn4Iw *,#q'!Hq •此处探讨的是矩形光栅结构。 D\]&8w6& •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 Q!CO0w •因此,选择以下光栅参数: PDw{R]V+ - 光栅周期:250 nm (;6s)z - 填充系数:0.5 ZL%VOxYqi - 光栅高度:200 nm ValS8V*N1 - 材料n1:熔融石英 oL
*n>dH - 材料n2:TiO2(来自目录) 3n(*E_n K&pM o. ER|!KtCSM Q5E:|)G 偏振状态分析 p$!@I %"7WXOv&z {y );vHf$ •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 `
%' z •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 /)1v9<vM" •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 yMIT( Hc!!tbBQ
b!~TAT&8 B1w0cS%%: 产生的极化状态 fykI,! 8[\79|
aR(E7mXQ S|2VP8xY9 1=TSJ2{9 其他例子 +G!v!(Ob+ :Kay$r0+ Z>{*ISvpq •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 Pe,;MP\2 •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 PHkDb/HIx| <kc]L x 3bH5C3(u >6K4b/.5w 光栅结构参数 M]0^ind RV]a%mVlM n2na9dX)w •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 FuMq|S •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 M'|)dM| •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 S_T •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 `V~LV<v5
R"Y?iZed3 JFJIls 光栅#1 -RCv7U` (6#M9XL
n` #+L~X El1:?4; z[FI2jl •仅考虑此光栅。 fB[\("+ •假设侧壁表现出线性斜率。 +QupM •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 6BPAux.] •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 P7Z<0Dt\} yr{5Rp05= *?b@>_1K 假设光栅参数: toN •光栅周期:250 nm s9:%s*$u •光栅高度:660 nm 67ZYtA|t •填充系数:0.75(底部) 6#?NL]A •侧壁角度:±6° <dJIq"){ •n1:1.46 ]g7HEB.Y •n2:2.08 )1BiEK`v oEPNN'~3 光栅#1结果 xK=J.>h3 FB.!`%{ xtu]F •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 (-#rFO5~l •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 B{N=0 cSi •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 wC(XRqlE cC'^T6 be_C>v p( HyRCH 光栅#2 s.bT[0Vl `L+~&M
v s w7| GW:\l~ d ]zy~@,\ •同样,只考虑此光栅。 /H.(d 4C •假设光栅有一个矩形的形状。 gRw.AXRa •蚀刻不足的部分基板被忽略了。
~t$mw, 假设光栅参数: <XY;fhnB •光栅周期:250 nm L;nZ0)@@l •光栅高度:490 nm S]5VEn;pV •填充因子:0.5 vx PDC~3; •n1:1.46 oMz/sL'u •n2:2.08 nP5d? ;7wwY$PBH 光栅#2结果 $8EV,9^U Gmqs`{tc v hR twi •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 [U%.Gi •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 .Kg|f~InO •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 P} +2>EU W{L
b1eK(F 文件信息 'E@2I9Kj >~.Zr3P6kC
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