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    [分享]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-05-06
    摘要 B;k3YOg  
    '{e9Vh<x  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 ape \zZCV  
    :K-05$K  
    y,D@[*~Xb  
    概述 rGNYu\\  
    %3"xn!'vf  
    wNNInS6  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 YU*u!  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 QJeL&mf  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 )9oF?l^q  
    ?p&CR[  
    HUP~  
    yJyovfJz.  
    衍射级次的效率和偏振
    [ ;/4'  
    !c 3c%=W  
    {Kbb4%P+h  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 T/m4jf2  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 3I}(as{Rp  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 mNc?`G_R  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 F!N D  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 TnuNoMD.  
    +-s$Htx  
    .dbZ;`s  
    光栅结构参数 fu=GgD*  
    R]LRgfi9  
    b8QQS#q)V  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 ()Tl\  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 6}(; ~/L  
    •因此,选择以下光栅参数: x6h';W_ 8  
    - 光栅周期:250 nm SC Qr/Q  
    - 填充系数:0.5 !Dc|g~km\  
    - 光栅高度:200 nm ZmXO3,sf)  
    - 材料n1:熔融石英 t\GoUeH]  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) RWX?B  
    \sSt _|+  
    x/<eY<Vgm?  
    [Yi;k,F:  
    偏振状态分析 7I#<w[l>k  
    t9QnEP'  
    ;?q>F3 n  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 4 ~s{zob  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 .=kXO{>  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 M/d6I$~7z  
    Ro2Ab^rQ|  
    3 |se]~  
    SV?^i`  
    产生的极化状态 , z-#B]  
    ep,"@,,  
    e >6NO  
    )R+26wZ|n*  
    GR%h3HO2&  
    其他例子 *v}3So  
    ],W/IDv  
    0gIJ&h6*f  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 -ff@W m  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 K6z)&<  
    ;YfKG8(0  
    u/ Gk>F  
    #Wf9`  
    光栅结构参数 X2 PyFe  
    K/;*.u`:  
    .Fl5b}C(  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 Vm"{m/K0  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 B-.QGf8K.  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 *7JsmN?  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 ^*$lCUv8p  
    [_X.Equ  
    ([#4H3uO-  
    光栅#1 \F;  S  
     {F'~1qf  
    ,zP.ch0K  
    O:J;zv\  
    GV"X) tGo  
    •仅考虑此光栅。 te*|>NRS  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 + lNAog  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 (p1}i::Y8  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 !l7D1i~  
    d%(4s~y  
    P.t0o~hoK;  
    假设光栅参数: vNn$dc  
    •光栅周期:250 nm 0] u=GD%  
    •光栅高度:660 nm U#mrbW  
    •填充系数:0.75(底部) .B?J@,  
    •侧壁角度:±6° *?`<Ea  
    •n1:1.46 <uf,@N5m  
    •n2:2.08 R)Y*<Na  
    F8* zG 4/&  
    光栅#1结果 kKHGcm^r  
    |%tI!RN):  
    x9qoS)@CM  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 bkSI1m3  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 FG{45/0We  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    U8]BhJr$Q  
    }|-Yd"$  
    (RM;T@`  
    7.!`c-8 u  
    光栅#2 Gc0/*8u/  
    ln&9WF\I  
    0XLoGQ=  
    )2Dm{T  
    bmd3fJb`r  
    •同样,只考虑此光栅。 WvVf+| Km  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 >=VtL4K^  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 6d#:v"^,  
    假设光栅参数: nu!tk$Q  
    •光栅周期:250 nm qCUn. mI  
    •光栅高度:490 nm vq_v;$9}  
    •填充因子:0.5 mcm8|@Y{  
    •n1:1.46 [Fo" MeH?R  
    •n2:2.08
    zjlo3=FQX[  
    =.9uuF:  
    光栅#2结果 ><r\ 5`  
     dl;  
    q s 0'}>  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 /t;Kn m  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 3A)Ec/;~  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 JQde I+  
    863PVce",}  
    lr-:o@q{  
    文件信息 A{(<#yRfg  
    W9A [Z  
    TQiDbgFo  
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    QQ:2987619807 A DW>  
     
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