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摘要 F*-'8~T +>yspOEz 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 w{N8Y~O V}Oz!
O 3}C-Hg+gt 概述 %/ :&L+q {wO.nOB muKu@nshL •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 %4BQY>O)@ •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 +U?73cYN
•为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 ]I]G3 e /UaQ2h\
j)Z0K$z= /AYq^ 衍射级次的效率和偏振 .k#O[^~] dKL9}:oUa 6j|~oMYP •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 1&Ma`M(' •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 K7/&~;ZwT •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 q6x}\$mL •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 iTF%}( •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 <TSps!(#
)QmmI[,tq (&, E}{p9 光栅结构参数 g;:3I\ L TGjxy1A $XKUw"% •此处探讨的是矩形光栅结构。 S(rnVsW%Ki •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 ~4c,'k@ •因此,选择以下光栅参数: C;9P6^Oz - 光栅周期:250 nm >:0N)Pj - 填充系数:0.5 n*G!=lMji - 光栅高度:200 nm r]kks_!Z - 材料n1:熔融石英 f/Z-dM\e - 材料n2:TiO2(来自目录) *Tmqs@L }"q#"s >!c Ff$2' !A14\ 偏振状态分析 D hk$e
;#*.@Or@Ah
t*Z-]P •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 A}3E)Qo=G •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 +LF=oM< •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 x/0x&la 49Y:}<Yd
e"Z,!Q^-L w2U]RI\?2 产生的极化状态 a(h@4 x $0]5b{i]
8zwH^q[`r jASK!3pY e`5:46k| 其他例子 m5hu;>gt }Fu2%L> mmMiA@0 •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 Q1H.2JXr •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 5F:\U XD[9wd5w8 dp3TJZ+U [ .3Gb}B 光栅结构参数 #!rH}A>n+ U1kW1L}B i_I` •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 f_:>36{1^! •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 "`w*-O •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 A~LTi •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 *LvdrPxU=
9,}Z1 f\% ^q<EnsY 光栅#1 #EH\Q% aecvz0}@R
y! j>_m){w tV7{j'If W5&KmA •仅考虑此光栅。 V{rQ@7SE •假设侧壁表现出线性斜率。 5)w;0{X!P •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 ?X7nM) •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 ~"h V-3U m# ^).+ zK*i:(>B 假设光栅参数: FwQGxGZ •光栅周期:250 nm ;47 =x1ji •光栅高度:660 nm YIYuqtnSJ •填充系数:0.75(底部) 6p14BruV •侧壁角度:±6° wJ7Fnj>u% •n1:1.46 =e6!U5
f •n2:2.08 v/`#Gu^P G2J4N2hu 光栅#1结果 <H1e+l{8$ "fSK7%BP t1aKq)? •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 fqol-{F.V •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 }BCxAwD4 •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 hllb\Y)XL zG&yu0;D6 j9=)^? UD5f+,_; 光栅#2 QwI HEmdM 4ug4[
/j(<rz"j A{52T]9X QRER[8]r$ •同样,只考虑此光栅。 LM".]f!, •假设光栅有一个矩形的形状。 yLt>OA<X •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 PS??wlp7 假设光栅参数: )KY U[ •光栅周期:250 nm 77G4E ,] •光栅高度:490 nm mS]soYTQ •填充因子:0.5 {.UK{nA?sm •n1:1.46 FFf
~Vmw •n2:2.08 A@ w9_qo T{ /\q 5 光栅#2结果 Zg >!5{T pz/vvH5 FsfP^a •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 LeMo")dk\ •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 &s&Ha{(!w •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 "ScY'< W-vEh
et6@);F 文件信息 x4@IK|CE 0"`|f0}c
4[K6 ZDBU ;3sJ7%`v L$f:D2Ei QQ:2987619807 )`m/vYKWL
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