-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-07-10
- 在线时间1977小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
摘要 {S5HH" w{5v*SHl}` 复杂光学光栅结构被广泛用于多种应用,如光谱仪、近眼显示系统等。利用傅里叶模态法(FMM,或称RCWA) VirtualLab Fusion 提供了一种用于任意光栅结构严格分析的简单方法。利用图形用户界面,用户可以设置堆栈的几何形状,从而产生复杂的光栅结构。本案例主要集中于具有二维周期光栅结构的配置。 M7g6m
"YePd*W 1. 本案例主要说明: )xj!7:n) 如何在光栅工具箱中配置二维光栅结构,通过: zKX|m-i|2 - 基于介质的定义类型 JUlCj#% - 基于表面的定义类型 5Cjh%rj(jl 计算前如何改变高级选型并检查定义的结构。 ~_Q1+ax} 注意:在VirtualLab中,具有二维周期性的光栅结构称作3D光栅。因此,层状光栅(一维光栅)被称为2D光栅。 G[M{TS3&Ds B~t[Gy 2. 光栅工具箱初始化 d\A!5/LG 初始化 x|`o7. - 开始→ EHqcQx`K_ 光栅→ 9L9+zs3k 一般光栅光路图(3D光栅) 78-D/WY/X ;ro%Wjg`}
A~MIFr /8 注意:对于特殊类型的光栅,如柱状光栅,可以直接选择特定的光路图。
X6<%SJC XpU%09K 3. 光栅结构配置 )7}f. 首先,必须先定义基底的厚度与材料 1^_V8dm) 在VirtualLab中,光栅结构有一个所谓的堆栈进行定义 =9y&j-F 堆栈可以附属在基底的一侧或两侧。 o/5loV3h 例如,堆栈选择附属在第一表面。 yEB1gYJB KR sY `[Y 基于介质的定义类型 P{gy/'PH, (例如:柱状光栅) IFfB3{J 1. 堆栈编辑器 8Jb N&C 在堆栈编辑器中,可以从库中增加和插入界面和介质。 3C7}V{? 为了以特殊材料定义光栅,必须添加两个平面界面作为边界。 0$A7"^] A4`3yy{0-
.1#G*A| .*W_;F o 两个平面界面间的介质可以使均匀的,也可以是调制的。 "D1u2>( 通过使用后者,可以非常有效地描述复杂的光栅结构,如柱状光栅。、 5
i;n:&Y @dx$&;w '|^<|S_+K 2. 柱状光栅介质 1]% ]"JbV 在库目录“LightTrans Defined”中,在柱状介质库中可以找到铬柱。 (D1$ & 这种类型的介质可以模拟柱状结构以及衬底上的销孔。 $++SF)G1]_
ipdGAG 在本例中,由铬组成的矩形柱位于熔融石英基底上 eUeOyC 在堆栈编辑器的视图中,不同的材料根据折射率(深色意味着更高)用其他颜色表示。 MWZH-aA(. 注意:堆栈编辑器总是提供x-z平面的横断面视图。 Q@w=Jt< 请注意:界面的顺序总是从基板的表面开始计算。 {]V+C=` 选中的界面以红色高亮显示。 D +Ui1h- 此外,这里不能定义光栅前面的介质(后一个界面后面)。它是自动从光栅元件前面的材料中取出的。 Z/~7N9?m(
FvVR \a 可以在光学设置编辑器中更改此材料。 Xah-*]ET }G53" LZF%bJv 堆栈周期允许控制整个配置的周期。 O|I)HpG; 对于具有二维周期性的光栅,周期必须在x和y方向上定义。 !aQQq[ 该周期也用于FMM算法的周期性边界条件。对于简单的光栅结构,建议从介质周期中选择“相关的”(Dependent)选项,并选择适当的周期介质指数。 v3]mZ}W$ lPO+dm 3. 柱状光栅介质参数 Wd<|DmSy 通过以下参数定义柱状光栅: Vnvfu!>(
V4>qR{5 基材(凹槽的介质) %=EN 3>, 柱状材料(脊的材料) 1Q>D^yPI[ 柱的形状(矩形或椭圆形) 3L1MMUACL x方向(水平方向)柱距 -jdhdh y方向(垂直方向)柱距 tX@G`Mr( 行移(允许行位移) `<x((@# 光栅周期在x和y方向 ilr'<5rq i}E&mv' 根据柱栅的尺寸和距离自动计算柱栅的周期。 b"7L
;J5| 因此,它不能单独设置,框显示为灰色。 cypb6Q_ Wt
1]9{$ z8-dntkf 4. 高级选项&信息 @r=v*hu 在传播菜单中有几个高级选项可用。 <2,NWn. propagation method选项卡允许编辑FMM算法的精度设置。 |Ta-D++]' 可以设置每个方向上考虑的总阶数或倏逝波阶数。 ,!7\?=G6}v 这可能是有用的,尤其是如果考虑金属光栅。 !)-)*T
"f |xIK`c 相反,对于电介质光栅,默认设置就足够了。 (YC{BM} Advanced Settings选项卡提供关于结构分解的信息。 -lqsFaW 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散性。默认设置适用于几乎所有光栅结构。 Wv7hY"
#WqpU. 此外,还提供了关于层数和转换点的信息。 $z48~nu@j 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述。折射率用色标表示。 =Owr
l'@|T 定义的柱栅分解预览(俯视图)。 ScCA8JgY •VirtualLab建议将其离散化为2层(1层表示基底)。 S\"#E:A J@l QzRqRb U *K6FWqiB 基于界面的定义类型 `% ulorS (例如:截锥光栅) U6x$R O! 1. 堆栈编辑器 KbTd`AIL MR3\7D+9y 2. 截锥光栅 tB)nQw7 在本例中,使用了“截锥光栅界面”。 ,d`6
{ll 这种类型的界面可以模拟圆形的高透射结构。 pr?k~Bn 在本例中,锥体是由位于同一材料基体上的熔融二氧化硅制成的。 z`esst\aV
e~P4>3 在堆栈编辑器的视图中,不同的材料根据折射率(深色意味着更高)用其他颜色表示。 UVlh7w jg 注意:堆栈编辑器总是提供x-z平面的横断面视图。 #ni:Bwtl{ 请注意:界面的顺序总是从基底的表面开始计算。 VqL#w<A% 选中的界面以红色高亮显示。 e<+$E%"7hS 此外,这里不能定义光栅前面的介质(后一个界面后面)。它是自动从光栅元件前面的材料中取出的。 U!O"f 这种材料可以在光学设置编辑器中更改。 l?<DY$H
0
;m#_Rj6 此外,锥体的材料会自动从界面之后的材料中取出。 wmB_)`QNP 在本例中,这意味着使用基底(基块)的材料。 zFwO( 如果光栅结构是由不同的材料制成的,则必须添加额外的平面界面,以便将光栅结构与底座分离。 lrMkp@f. 然后根据需要选择截锥与平面界面之间的材料。 O=1#KNS 堆栈周期允许控制整个配置的周期。 r9-)+R
J 对于具有二维周期性的光栅,周期必须在x和y方向上定义。 PCKxo;bD 该周期也用于FMM算法的周期性边界条件。 <%`z:G3 对于简单的光栅结构,建议从介质周期中选择“相关的”(Dependent)选项,并选择适当的周期介质指数。 b0/[+OY 3. 截锥光栅参数 .d4&s7n0 柱栅是一个可编程接口,由以下参数定义: t{ridA}
WMoRosL74 锥高度 2l8z/o 7v 高度因子(例如允许反转结构) .Ag)/Xm(? 顶部直径 YE@!`!`d: 底部(基底)直径 \'nE{ 光栅周期在x和y方向 [rhK2fr:i 材料自动设定 C2J@] & |