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摘要 <P ?gP1_zi I $x<B7U 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 ?u;m
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s-(c-E09
 PhV/WjCZ
S.`hl/ 建模任务 /ueOc<[8" z_ '!?K{  [{ R>'~ 概述 5} <OB-9 \,n
X/f •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 nUVk;0at •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 n%RaEL &OE-+z
 _ G t;= ~`^kP. () 光线追迹仿真 e-UWbn'~ f x4#R(N •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 RJd*(!y •单击go！ R.l !KIq •获得了3D光线追迹结果。 q4Bw5 ~n {q+gm1iC
 yS:w>xU @< 8.^`~ta 光线追迹仿真 @jjxgd'%& `#85r{c$: •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 $I/ !vV •单击go！ ^_ V0irv •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 ;;rx)|\<R {~R?f$}""j
 C`3 XOth &'i>d& 场追迹仿真 \fSruhD $!!y v'K •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 ]\>MDH •单击go！ <0hVDk~ 23K#9!3  xC= $ym]
zVe,HKF/ 场追迹仿真（相机探测器） Oml3=TV nGK =Nf.5 •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 x*tCm8`{ •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 oRcP4k;d= +XX5;;IC
 K.&6c,P] 'Z,7{U1 P 场追迹仿真（电磁场探测器） `*yOc6i] •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 yLnTIE 3) X|g5tnsj`  J8@+)hn
Dp#2 7Yzc 场追迹仿真（电磁场探测器） %iYro8g!,
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•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 CN-4FI)1D9 ~R=p[h)
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3 文件信息 \>w 2D ?;(!(<{
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer A q(,
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination }0 95U(@ 9n\v{ k=
i* 09m^r QQ：2987619807 u8<Fk
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