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摘要 H |^4e 2#R"#Q! 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 8c~H )-9/5Z0v
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( ~& 建模任务 wK3}K
4@5<B  xnLf R6B 概述 F,D & IJ0RHDod: •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 RHxd6G s" •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 dug RO[ G$Dg*<
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y4 光线追迹仿真 (*EN! -/ H$;\TG@, •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 /oI ''O%M •单击go！ CI,-q i •获得了3D光线追迹结果。 ua{eri[ C$5v:Fk
 ^'h~#7s %8ul}}d9 光线追迹仿真 [:o#d`^ C?|gf?1p •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 ^,X+
n5q;m •单击go！ qj|GAGrQ2 •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 +V) (,f1 $lv
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 WgIVhj YONg1.^!( 场追迹仿真 l`1ZS8 [. Cr&ua|%F •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 !b 7H •单击go！ "}!vYr b/ynCf8X  rUyT5Vf
iCH Z{<k 场追迹仿真（相机探测器） l"- D@]" ~(^[TuJC •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 /eE P^)h •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 V +hV&|= B< o i,S
 4jXyA/F9V IuTTMAt 场追迹仿真（电磁场探测器） =?}'\
>G " •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 WcdU fv(> rF5<x3  |k^X!C 0
A[b'MNsv 场追迹仿真（电磁场探测器） )JjfPb64
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer &
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-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination j\ )Qn 2r CfV z'
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