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摘要 q2rUbU_A( ]aryV?!6 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 TBrGA
E hsKmnH@# .lgPFr6X %wptZ"2M 建模任务 4Kwh?8. ^! 8P<y US [dkbKo 概述 '1^B+m LPYbHo3fq •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 )~6zYJ2 •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。
Ez~'^s@ X[gn+6WB% 6x)$Dl J[~5U~F 光线追迹仿真 R9rj/Co 2F#q
I1 •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 %M|,b!eF •单击go! E m
6Qe •获得了3D光线追迹结果。 KOz(TZ?u !HeSOzN "1`Oh<={b >gwz,{ 光线追迹仿真 dC\ZjZZ 9+s.w25R •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 73#x|lY •单击go! E{^ XlY •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 )}vNOE?X~ Vm}%ttTC :j')E`#
<GHYt#GIZ+ 场追迹仿真 `Q3s4VEC -<v~snq' •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 =0;}K@(J •单击go! 7@lS.w\#- G0u LmW70 $N:Vo(* :1XtvH 场追迹仿真(相机探测器) ")O`mXg- Y HSYu •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 7QKr_ •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 8d*/HF)h 5zFR7/p{ "H-" wn_b[tdxq 场追迹仿真(电磁场探测器) #P]#9Ty: •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 >9RD_QG7 Q+b
D}emd ae:zWk'! .<tquswg 场追迹仿真(电磁场探测器) OO?]qZa1 M?&h~V1OI~ •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 2C{H$
A,pW B+^(ktZp@ 1+-_s l]~n3IK" 文件信息 /%_OW@ ? qd"_Wu6aF= dq[Mj5eC =@k%&* Y? 更多阅读 AU-n&uX b'6-dU% -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer 8-y{a.,u. -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination kJWN. x.8TRMk^ E0`Lg
c QQ:2987619807 "#( T
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