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摘要 ?a]mDx>xh $*m-R*kt 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 qH_Dc=~la \i&<s;
Tlr v={ 1o>xEWt:0K 建模任务 6Kz,{F@ ~gt@P u ^RxD^=L 概述 9lE_nc %;!.n{X •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 TA~{1_l •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 FpU>^'2] DtnEi4h,
xgtR6E^k /Z4et'Lo 光线追迹仿真 3Zh)]^ ;dhQN}7 •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 L}NSR •单击go! cB&:z)i4 •获得了3D光线追迹结果。 1h5 Akq ybUaTD@?}b
u]@['7 &cTU
sK 光线追迹仿真 kG*~|ma A+{VGP^ •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 2J;g{95z •单击go! =vhm} •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 bZV/l4TU Kc(FX%3LU
>LuYHr Tm?# M&' 场追迹仿真 TS5Q1+hWHV u#SWj,X •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 T[A69O]v •单击go! Rlirs-WQ rVsJ`+L jZ;
=so "zy7C*)>r 场追迹仿真(相机探测器) gZ1?G-Q @=kSo
-SX •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 BsJC0I( •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 1-QS~)+ nFs(?Rv*
g=o4Q<
#^y pD+k* 场追迹仿真(电磁场探测器) Q NVa?'0"Y •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 Sa5G.^XI @\I#^X5lv ^Zp>G{QL{ 5/z/>D; 场追迹仿真(电磁场探测器) TuqH*{NNy9 #R
RRu2 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ?G&ikxl 8HdAFRw
5*D/%]YsD sn>~O4" 文件信息 6S\8$ tklH@'q
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CqSd yR.Ong -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer RzusNS -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination 2dgd~
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