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摘要 [T'[7Z q|klsup 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 qfAnMBM1@ ON{a'H g;q.vHvsc" PGZe'r1E9 建模任务 s9Tn|Pm+!\ "Ar|i8^G3 2u0B=0x 概述 U7fNA7#x" ~Sf'bj;( •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 sAjUX.c •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 8.%wnH ME)='~E @az<D7j2 3,!IV"_ 光线追迹仿真 Y[VXx8"p 8Bc2?NI= •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 V2;Nv\J\ •单击go! <%|u1cn~!v •获得了3D光线追迹结果。 PktnjdFV U0|bKU 2t0VbAO1{ T1?9E{bC8A 光线追迹仿真 Jv%)UR.] ]A\qI>, •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 cJSwA&
•单击go! J?E!\V&U •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 fS8Pi,! 4v(?]]X 1o_Zw. /r&4< @ 场追迹仿真 .'l3NV^{ ;Hp78!#, •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 wT3D9N. •单击go! *ni0. :YLYCVi| 1j}e2H YOfYa 场追迹仿真(相机探测器) t82*rCIB{ u#V; •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 1?"Zrd •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 R+U*]5~R WhFE{-!gX OB+ cE4$ .345%j 场追迹仿真(电磁场探测器) J!Rqm!)q •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ^"uD:f) Fy>g*3 Y_XRf8Sw :2b*E`+ 场追迹仿真(电磁场探测器) )5x$J01S !QqVJ a{j •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 PKGqu,J, Xz/aytp~A W3X;c*j HR 文件信息 "HJQAy?W
:4\_upRE Tjj27+y*\ l{kacfk# 更多阅读 a94nB ^R+CkF4l l -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer -l"8L;` -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination @}%kSn5y: i1HO>X:ea ~PN[ #e] QQ:2987619807 x;4m@)Mu
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