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    [分享]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-03-19
    摘要 [T'[7 Z  
    q|klsup  
    高数值孔径物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 qfAnMBM1@  
    ON{a'H  
    g;q.vHvsc"  
    PGZe'r1E9  
    建模任务 s9Tn|Pm+!\  
    "Ar|i8^G3  
    2u0B=0x  
    概述 U7fNA7#x"  
    ~Sf'bj;(  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 sAjUX.c  
    •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 8.%wnH  
    ME)='~E  
    @az<D7j2  
    3,!IV"_  
    光线追迹仿真 Y[VXx8"p  
    8Bc2?NI=   
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 V2;Nv\J\  
    •单击go! <%|u1cn~!v  
    •获得了3D光线追迹结果。 PktnjdFV  
    U0|bKU  
    2t0VbAO 1{  
    T1?9E{bC8A  
    光线追迹仿真 Jv%)UR.]  
    ]A\qI>,  
    •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 cJSwA&  
    •单击go! J?E!\V&U  
    •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 fS8Pi,!  
    4v(?]]X  
    1o_Zw.  
    /r&4< @  
    场追迹仿真 .'l3NV^{  
    ;Hp78!#,  
    •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 wT3D9N.  
    •单击go!  *ni0.  
    :YLYCVi|  
    1j}e2H  
     YO fYa  
    场追迹仿真(相机探测器) t82*rC IB{  
    u#V;  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 1?"Zrd  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 R +U*]5~R  
    WhFE{-!gX  
    OB+cE4$  
    .345%j  
    场追迹仿真(电磁场探测器) J!Rqm!)q  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 ^"uD:f)  
    Fy>g*3  
    Y_XRf8Sw  
    :2b*E`+  
    场追迹仿真(电磁场探测器) ) 5x$J01S  
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    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 PKGqu,J,  
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    文件信息 "HJQAy?W  
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    -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer  -l"8L;`  
    -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination
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    QQ:2987619807 x;4m@)Mu  
     
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