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    [分享]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-03-19
    摘要 |yQ3H)qB#  
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    高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 >Wy@J]Y#  
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    建模任务 LI(Wu6*Y  
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    概述 7?cZ9^z`w  
    j7O7P+DmS  
    •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 pspV~9,  
    •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 =|uX?  
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     G?8,&jP~T  
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    光线追迹仿真 |4 wVWJ7   
    +h[$\_y  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 JNk ]$ xz  
    •单击go！ TQbhK^]  
    •获得了3D光线追迹结果。 HiVF<tN  
    ~M43#E[oOF  
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    光线追迹仿真 l<^#@SH  
    f'R^MX2  
    •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 }U+gJkY2  
    •单击go！ QbpRSdxy`$  
    •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 1kTJMtZG~  
    7uxy<#Ar  
     P1H`NOC  
    $NJi]g|<3  
    场追迹仿真 %VSST?aUvX  
    UGr7,+N&w  
    •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 7c<2oTN'  
    •单击go！ J%D'Xlb  
    j3z&0sc2(0  
    >l 'QX(  
     m5f/vb4l  
    场追迹仿真（相机探测器） ugucq},[  
    pD.7ib^  
    •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 +B c/@.Q'  
    •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 E}\^GNT  
    Wu:vO2aw8  
     #). om*Xh  
    hGD7/qTN  
    场追迹仿真（电磁场探测器） }=7tGqfw  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 H6rWb6i  
    .U9NQwd  
    [-1Nn}  
     :uhvDYp(-  
    场追迹仿真（电磁场探测器） luLm:NWUM  
     #Rjm3#gc  
    •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 vF3>nN(]  
    >RE&>T^8  
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    文件信息 <hQ@]2w$  
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    -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer )^g}'V=vIr  
    -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination     BP*gnXj  
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