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摘要 ; O ~%y ' )_}xK={ 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 Fy tGg[#]
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]l`V#Rd 建模任务 h-U]?De5\ E&)o.l<h|  PJ,G_+b! 概述 ^2i $AM1t m= %KaRI •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 B7sBO6Z$J •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 `/<f([ w 8t |?b
 Pfd%[C/vdm X]dN1/_ 光线追迹仿真 #}B v/`t 3N4kW[J2i •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 )k]{FM •单击go！ S'`RP2P •获得了3D光线追迹结果。 /l8w b~vl Tq?f5swsI
 'C @yJf O`Htdnu 光线追迹仿真 V0n8fez
b |W*2 L] & •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 ),$^h7[n •单击go！ t| B<F t^ •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 s~k62 "! [K Q
 w:](F^<s, ygd*zy9 场追迹仿真 X|L _}Q7 !uA'0U?ky •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 Ex6Kxd}8 •单击go！ e0IGx]5i `%~f5<  OaY]}4tI$
L!fI Ad ` 场追迹仿真（相机探测器） Ga`
8oY+~ X?] Mzcu •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 Z=l2Po n •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 C Y"i|s Hi U/fi `
 Z/;hbbG "&\(:#L 场追迹仿真（电磁场探测器） ~/Y8wxg •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 )&-n -m@E mS.!lkV  nO;ox*Bk+8
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= 场追迹仿真（电磁场探测器） `.wgRUhFH;
24f N3 •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 xscR Bx "V,dH%&j
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-Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer . :(gg
-Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination VotI5O $ 8:]5H}H i
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