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摘要 Q$8K-5U% _!E)a 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此,在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析,可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场,也可以深入研究矢量效应。 s> JWNP # GOL%2X
IRIYj(J UpS7>c7s 建模任务 r"&VG2c0K Q8^g WBc Wph@LRB] 概述 N~+ e\K6 }$Z0v` •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 -;j
'=? •接下来,我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 @=dwvl' W 'oS= d
wAF<_NG# ]h?p3T$h 光线追迹仿真 Zk>#T:{h kn&>4/') •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 4}Dfi5:
•单击go! 2JL\1=k; •获得了3D光线追迹结果。 oe,yCdPs +MyXIWmD
IM=3n%6 ]4eIhj? 光线追迹仿真 ]? %*3I =H;F{J" •然后,选择“光线追迹”作为模拟引擎。 % 9} ?*U •单击go! >o )v •结果得到点图(二维光线追迹结果)。 [(*? tO+Lf2Ni+
36UUt!}p \^x`GsVy 场追迹仿真 raJv$P 9y?)Ga •切换到场追迹,然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 ,f}u|D 3@ •单击go! #D-Ttla pB'{_{8aA |OBh:d_B] ;S+]Z!5LT 场追迹仿真(相机探测器) ,vB~9^~ hj,y l& •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 1"f)\FPGe •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度:由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大,因此可见明显的不对称性。 {'z( q!AcMd\
+d=w%r) 2Z+:^5 场追迹仿真(电磁场探测器) jJyS^*.X •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 d8.A8<wUr 0+Z?9$a1 M`p[ Zq _B7+n"t\r 场追迹仿真(电磁场探测器) 2:G/Oj h&] qaG8: •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 p(.z#o# dfT
L\xR<m<, Yht |^ =a 文件信息 nrKir Ynl Zyw!
AmB*4p5b cYz|Ux 更多阅读 t6Nkv;)>@ N#GMvU#R -Optical System for Inspection of Micro Structured Wafer ',]^Qu`a -Imaging of Sub Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination [r^WS;9n ={\9-JJhE 5xhYOwQBo QQ:2987619807 Q!{,^Qb
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