MEMS技术发展史

MEMS技术发展史 /^nIOAeE  
MEMS技术发展的时间轴，从从1947年制造的第一个点接触晶体管开始，到1999年的光网络交换机结束，50多年间，MEMS通过诸多创新，促进了当前MEMS技术和纳米技术的发展。 d8jH?P-"  
下面关于MEMS历史上主要的35项里程碑，看看你知道多少?
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1948年，贝尔实验室发明锗晶体管(William Shockley) 13#ff  
1954年，锗和硅的压阻效应(C.S.Smith) #vV]nI<MF.  
1958年，第一块集成电路(IC)(J.S.Kilby 1958年/Robert Noyce 1959年) t s
Uu  
1959年，"底部有很多空间"(R.Feynman) <YFDS;b|  
1959年，展示了第一个硅压力传感器(Kulite) 4mo/MK&M:  
1967年，各向异性深硅蚀刻(H.A.Waggener等) 2Wluc37  
1968年，谐振门晶体管获得专利(表面微加工工艺)(H.Nathanson等) bGeIb-|(  
1970年，批量蚀刻硅片用作压力传感器(批量微加工工艺) %C
iF;wJ  
1971年，发明微处理器 ?}s;,_GH  
1979年，惠普微加工喷墨喷嘴 ye$_=KARP  
1982年，"作为结构材料的硅"(K.Petersen) f- 9t  
1982年，LIGA进程(德国KfK) tjXg  
1982年，一次性血压传感器(霍尼韦尔) \~%+)a%%  
1983年，一体化压力传感器(霍尼韦尔) NLL"~  
1983年，"Infinitesimal Machinery"，R.Feynman。 *%KIq/V  
1985年，传感器或碰撞传感器(安全气囊) 63u%=-T%a  
1985年，发现"Buckyball" ]}rNxT4<  
1986年，发明原子力显微镜 v~
L\[&|_  
1986年，硅片键合(M.Shimbo) JnBc@qnP6  
1988年，通过晶圆键合批量制造压力传感器(Nova传感器) {HEWU<5  
1988年，旋转式静电侧驱动电机(Fan、Tai、Muller) `~u=[}w  
1991，年多晶硅铰链(Pister、Judy、Burgett、Fearing)。 }bS1M  
1991年，发现碳纳米管 l6HtZ(  
1992年，光栅光调制器(Solgaard、Sandejas、Bloom) Ex p?x  
1992年，批量微机械加工(SCREAM工艺，康奈尔) 08nh y[  
1993年，数字镜像显示器(德州仪器) &]n }fq  
1993年，MCNC创建MUMPS代工服务 Ie^Ed`  
1993年，首个大批量生产的表面微加工加速度计(Analog Devices) lUEbxN  
1994年，博世深层反应离子蚀刻工艺获得专利 IVSC7SBiT  
1996年，Richard Smalley开发了一种生产直径均匀的碳纳米管的技术 LQPQ !):;  
1999年，光网络交换机(朗讯) I8J>>H'#A  
2000年代，光学MEMS热潮 iiq `:G  
2000年代，BioMEMS激增 :V+rC]0  
2000年代，MEMS设备和应用的数量不断增加。 o[!o+M  
2000年代，NEMS应用和技术发展#半导体# #芯片# #mems# %@a;q?/?Nd  

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