MEMS技术发展史

发布:探针台 2021-03-16 08:35 阅读:612
MEMS技术发展史 P:o<kRj1  
MEMS技术发展的时间轴,从从1947年制造的第一个点接触晶体管开始,到1999年的光网络交换机结束,50多年间,MEMS通过诸多创新,促进了当前MEMS技术和纳米技术的发展。 f.{0P-Np  
下面关于MEMS历史上主要的35项里程碑,看看你知道多少? iJK9-k~  
1948年,贝尔实验室发明锗晶体管(William Shockley) DX|kO  
1954年,锗和硅的压阻效应(C.S.Smith) ),_bDI L+  
1958年,第一块集成电路(IC)(J.S.Kilby 1958年/Robert Noyce 1959年) }% =P(%-  
1959年,"底部有很多空间"(R.Feynman) &nss[w$%C  
1959年,展示了第一个硅压力传感器(Kulite) 0qv)'[O  
1967年,各向异性深硅蚀刻(H.A.Waggener等) 5y)kQ<x"  
1968年,谐振门晶体管获得专利(表面微加工工艺)(H.Nathanson等) FWj~bn  
1970年,批量蚀刻硅片用作压力传感器(批量微加工工艺) =W6P>r_  
1971年,发明微处理器 YY9q'x,w  
1979年,惠普微加工喷墨喷嘴 w;:,W@K  
1982年,"作为结构材料的硅"(K.Petersen) T &1sfS,  
1982年,LIGA进程(德国KfK) )]}*oO  
1982年,一次性血压传感器(霍尼韦尔) Jg:'gF]jt  
1983年,一体化压力传感器(霍尼韦尔) t t=$:}A  
1983年,"Infinitesimal Machinery",R.Feynman。 LLMkv!%D  
1985年,传感器或碰撞传感器(安全气囊) mMR[(  
1985年,发现"Buckyball" !dGgLU_  
1986年,发明原子力显微镜 ` mi!"pmw  
1986年,硅片键合(M.Shimbo) la-+ `  
1988年,通过晶圆键合批量制造压力传感器(Nova传感器) x8H)m+AW  
1988年,旋转式静电侧驱动电机(Fan、Tai、Muller) (]JJ?aAF  
1991,年多晶硅铰链(Pister、Judy、Burgett、Fearing)。 er_aol e  
1991年,发现碳纳米管 psMagzr&)e  
1992年,光栅光调制器(Solgaard、Sandejas、Bloom) :p{iBDA  
1992年,批量微机械加工(SCREAM工艺,康奈尔) v-kH7H"z  
1993年,数字镜像显示器(德州仪器) 1Dbe0u  
1993年,MCNC创建MUMPS代工服务 /swTn1<Y  
1993年,首个大批量生产的表面微加工加速度计(Analog Devices) V3-LVgM%  
1994年,博世深层反应离子蚀刻工艺获得专利 I%ez_VG  
1996年,Richard Smalley开发了一种生产直径均匀的碳纳米管的技术 {Hb _o)S  
1999年,光网络交换机(朗讯) @U&|38  
2000年代,光学MEMS热潮 -{O2Nv-]]  
2000年代,BioMEMS激增 1F=x~FMvY  
2000年代,MEMS设备和应用的数量不断增加。 h'bxgIl'`  
2000年代,NEMS应用和技术发展#半导体# #芯片# #mems# aoBM _#  
f; 22viE  
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