切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 Zemax光学设计从基础到实践 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) ZEMAX光学系统设计实战
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    • 2772阅读
    • 1回复

    [分享]光学薄膜分析与设计软件Essential Macleod [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线summer20200907
    实习生
     
    发帖
    78
    光币
    142
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-02-23
    Essential Macleod是一套完整的光学薄膜分析与设计的软件包，它能在任一32位、64位微软窗口环境操作系统下运行（除了Windows RT）， 并且具有真正的多文档操作界面；它能满足光学镀膜设计中的各种要求；既可以从头开始设计，也可以优化已有的设计；可以模拟设计生产中的误差，也可以导出薄膜的光学常数，是当今市场上最完善的薄膜设计及分析软件。 p(!d,YSE  
    B}+li1k  
    模块：Core模块+5个附加模块 {I8C&GS  
    \l1==,wk  
    Core模块 Zo< j"FG  
     &embAqW:  
    Macleod核心模块是软件的最低配置，包含设计编辑器，数据、目标编辑器，输入/输出，材料管理，性能计算，优化和综合，和其它软件或硬件的数据交换，导纳轨迹，电场，辅助设计等，是整个软件包的基本构架。 a4&Aw7"X  
    6aKfcvf &  
    Core模块功能 ^Lv )){t  
     TPVB{ 107  
    效能计算 HCw,bRxm  
     NwyNl  
    Essential Macleod 提供了整组完整的效能计算。除了一般反射和透射计算外，也包括沉积密度、吸收，椭圆参数，超快参数 (群组延迟、群组延迟色散、三阶色散)和多光色散，也可以进行色彩计算。公差的计算是分辨设计对微小厚度变化的灵敏度。 k~*%Z!V}C  
    *Wf Qi8  
    颜色计算 rXR!jZ.hi  
     .: k6Kg  
    颜色计算包括色度坐标、显色指数、色纯度、主导波长、相对色温。图形包括色度坐标图、色调、用户自定义图。包括CIE 1931 和 1964 配色函数在内的许多标准光源选择是预先定义好的，而用户可以定制你所需要的参数的其它参数。可以根据导入的透射及反射数据计算作为波长函数的颜色参数，也可以作为目标进行优化。 Y94S!TbB  
     s_}`TejK  
    设计和分析工具 &grqRt  
     @{"?fqo  
    包括导纳图，电场分布，等效折射率，吸收分布，应力，光的散射、特性包络、消偏振边带滤波器设计和诱导透过率。 #$ 4g&8  
     SuXeUiK.[  
    提取工具 8Si3 aq3  
     ;0lY_ii  
    n & k 提取工具提供了由量测测试薄膜的反射、透射频谱数据以决定薄膜或基底n 与k 的方法。 20# V?hX3  
     !/e*v>3u&  
    反演工程 sC A  
     ,KCxNdg^#-  
    主要采用Simplex 局部优化方法，根据已镀膜的设计结构和光谱测试数据（至少一种），来确定其真实膜系结构及其与设计的差别。 i5aY{3!  
     Tje(hnN  
    公差 <eZ*LK?  
     ~owodc  
    Essential Macleod 的公差能力允许你探查设计相对于制造误差的灵敏度，可以比较不同的设计以挑选出最优者。 O-huC:zZh  
     )-X/"d  
    细化与合成 J0Gjo9L  
     ~+C)0Yn  
    Essential Macleod提供了6个优化和2个合成工具，膜层可以锁定或关联（膜层关联是更先进的分组形式可以把不连续的膜层关联在一起优化），堆积密度包含在细化工具下的简单下降法里面（可对折射率优化）。优化过程可以加入如选择的膜层的总厚度等不同的限制条件。Optimac和needle Synthesis方法可以优化多层膜，可加入多种材料合成优化。Context允许使用替代材料优化。 "W~vSbn7  
     ( k,?)  
    图表 )<lQJ#L86a  
     ]T6pH7~  
    Essential Macleod包括标准图片、动态图（参数的变化效应可立即看到）、三维图。 }3_ >  
     3m| C8:  
    导入与导出 Y?3f Fg  
     n(`|:h"  
    剪贴板支持与其它应用程序的导入与导出数据，还可以导出数据到光学系统软件中如FRED、VirtualLab、Zemax、Code V。 ,q;?zcC7  
    CXi[$nF3  
    Runsheet模块 !hFhw1  
     SsPZva  
    这个工具可设计镀膜制程，包含机器配置编辑器以及跑单生成器。 *%Fu/  
    ac\([F-  
    机器配置编辑器  O4Q"2  
     kD0bdE|  
    机器配置中贮存了特定镀膜机的详细设置，监控系统，入射角，材料，监控芯片，加工因子（包含随光源损耗变化的动态加工因子）。 "8"aYD_  
    {PR "}x  
    Runsheet F0~<p[9Nx  
     Mo5b @ [  
    使用者可使用跑单生成器对既定的机器配置，进行镀膜设计的监控规划。该工具除了可同时具备光学与晶体监控功能外，还具备诸如动态加工因子和系统带宽等高级特性。 d&\3}uH  
    2$ &B@\WY  
    •对反射、背向反射和透射监控计算光学信号 : _tt9J  
    •当膜层沉积时，动态加工因子（Dynamic Tooling Factors）可以不同 S@g(kIo]  
    •使用偏移和放大控制可以使信号数据缩小或放大到用户自定义范围 ~GcWG4  
    •对每一膜层，监控波长、带宽、监控光谱、晶控或光控都可以用户自定义 I _gE`N  
    •在镀膜的任何阶段，监控芯片可以更换 T2 S fBs  
    •多种配套的格式输出 |B^Mj57DO  
    •提供图片和表格的监测数据可以输出到用户自定义报告格式 uuxVVgWp{  
    U E$Ix  
    Simulator模块 NJ]3qH  
     6oKdw|(Q#  
    对于公差问题， Simulator 通过蒙特卡罗（Monte Carlo）法在实际模型控制过程的扩展来进行解决。通过一个由 Runsheet 创建的控制计划， Simulator 可模拟薄膜淀积控制，引入随机和系统效应，例如信号噪声，加工因子的变动，封装密度误差等等，以及显示这些参数对于镀膜制程的最终模拟结果的效应。 Rw|'LaW  
    l*6Zh "o:  
    Monitorlink模块 #f< v%  
     Inn{mmz 1  
    Monitorlink提供将Runsheet连结到一个淀积控制器的额外软件。一个独立的程序与控制器直接连接，而且一个 Runsheet 的扩展也赋予其产出和编辑淀积程序的功能。 %~y>9K  
    VStack 模块 u88wSe<\X  
     Io|D u  
    VStack 是一种计算与优化的工具﹐它也能计算这些系统中斜射光的效应。当光束斜入射时，初始为p- 偏振态的光线最终会以p - 偏振态从系统出射。同理，原本是s - 偏振态光也会以p - 偏振态出射，我们称此为偏振泄漏 (polarization leakage) 现象。VStack 能计算泄漏的大小而且提供泄漏元件的 Delta 值。 9?8PMh.  
    o+B)  
    Function模块 +<j7^AEG  
     mBE&>}G<  
    函数扩展功能无macleod计算中的限制，Function有两个主要工具：第一是简单的宏语言可在软件表格中运行，另一个是强大的Basic脚本语言。 0{g*\W*+~  
     Bp3E)l  
    宏语言可以保存和调用。Operation可以使阵列数据作为变量并可进行所有必要的插值。Operations可以创建黑体辐射光源，对于柯西材料模型可提取n和K数据，很容易的计算如平均或峰值特性等庞大计算量。其简单宏指令中的操作 ( 具有内建的编辑器和语法检查器 ) 能允许一再重复相同的计算。 &!OEd ]  
     DzQ  
    DY9]$h*y  
    'E+"N'M|  
    脚本是比Operations功能强大但更复杂的的脚本编辑。脚本可以调用Macleod作为物的实体，并运行它的命令可以插入到工具栏中，存在两个强大的编辑器，一个是可以使用BASIC脚本编辑器，另一个允许是允许用户与程序包内置的对话框交互的脚本编辑器。 ~MBPN 4r  
    g;v;xlY`N  
    Pc_aEBq  
    脚本也兼容OLE 的外部程序如Microsoft Word软件。软件提供了许多预先编辑好的脚本，如创建新的光源，如对不同的模型创建纳米复合材料，如OLED特性计算，膜层表面3维数据收集，非均匀表面效应的计算。 tAF?. \x"g  
     nYFrp)DLK  
    5nUJ9sqA  
    DWDM Assistant模块 -^546 7  
     <S041KF.{6  
    在多腔滤波器设计中，特别是针对密集波分复用，用DWDM 助手可以避免单调的重复过程。DWDA Assistant 可自主设计一组多腔滤波片，以满足用户的不同规格，设计结果可以根据一些诸如总厚度、预计淀积时间、扰动特性等等规范排序。 ]%)<9 ]}  
     #{vC =m73  
    T!8^R|!a6  
    通过扰动优化算法，增加只是由1/4 波长厚度的膜层组成的结构，减少通带中的脉动，使DWDM助手中使用的对称周期技术功能增强。一般来说，对给定要求的滤波器，有许多的设计都满足要求，但DWDM 助手可以按评价标准对设计结果进行排列。  UXs)$  
     BMy3tyO  
    \ l#eW x  
    o87kF!x  
    试用索取QQ：939912426
     
    回复
    举报
    分享到
    离线f4213705
    技术员
    发帖
    95
    光币
    66
    光券
    0
    只看该作者 1楼 发表于: 2021-04-08
      好东西哦..发个软件啦
    回复
    举报
    发帖 回复
    返回列表