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    [分享]光学薄膜分析与设计软件Essential Macleod [复制链接]

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    离线summer20200907
    实习生
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2021-02-23
    Essential Macleod是一套完整的光学薄膜分析与设计的软件包，它能在任一32位、64位微软窗口环境操作系统下运行（除了Windows RT）， 并且具有真正的多文档操作界面；它能满足光学镀膜设计中的各种要求；既可以从头开始设计，也可以优化已有的设计；可以模拟设计生产中的误差，也可以导出薄膜的光学常数，是当今市场上最完善的薄膜设计及分析软件。 UmP\;  
    o[k,{`M0  
    模块：Core模块+5个附加模块 _lZWy$rm%  
    "IzM:  
    Core模块 GOY!()F  
     )VkH':yCM  
    Macleod核心模块是软件的最低配置，包含设计编辑器，数据、目标编辑器，输入/输出，材料管理，性能计算，优化和综合，和其它软件或硬件的数据交换，导纳轨迹，电场，辅助设计等，是整个软件包的基本构架。 pq*4yaTT'  
    LE+#%>z>  
    Core模块功能 }\.Z{h:t ?  
     'dd[= vzK  
    效能计算 a_Z[@W  
     NU%W9jQYS  
    Essential Macleod 提供了整组完整的效能计算。除了一般反射和透射计算外，也包括沉积密度、吸收，椭圆参数，超快参数 (群组延迟、群组延迟色散、三阶色散)和多光色散，也可以进行色彩计算。公差的计算是分辨设计对微小厚度变化的灵敏度。 e8hwXz  
    6;}W)S  
    颜色计算 g$9s} \6B  
     }b]z+4U a(  
    颜色计算包括色度坐标、显色指数、色纯度、主导波长、相对色温。图形包括色度坐标图、色调、用户自定义图。包括CIE 1931 和 1964 配色函数在内的许多标准光源选择是预先定义好的，而用户可以定制你所需要的参数的其它参数。可以根据导入的透射及反射数据计算作为波长函数的颜色参数，也可以作为目标进行优化。 'zx1kq1  
     Si=u=FI1e  
    设计和分析工具 a>)|SfsE  
     b^&nr[DC  
    包括导纳图，电场分布，等效折射率，吸收分布，应力，光的散射、特性包络、消偏振边带滤波器设计和诱导透过率。 @HP7$U"  
     uVLKR PY  
    提取工具 2PEA<{u  
     .Za)S5U  
    n & k 提取工具提供了由量测测试薄膜的反射、透射频谱数据以决定薄膜或基底n 与k 的方法。 +r 8/\'u-  
     <):= mr7  
    反演工程 cy( WD#^  
     0)9'x)l:  
    主要采用Simplex 局部优化方法，根据已镀膜的设计结构和光谱测试数据（至少一种），来确定其真实膜系结构及其与设计的差别。 fqD1Ej  
     f/%Q MhM:  
    公差 u*<knZ~ty  
     eW;0{P  
    Essential Macleod 的公差能力允许你探查设计相对于制造误差的灵敏度，可以比较不同的设计以挑选出最优者。 {h}e 9  
     7Ezy-x2h  
    细化与合成 Hge0$6l  
     +{H0$4y  
    Essential Macleod提供了6个优化和2个合成工具，膜层可以锁定或关联（膜层关联是更先进的分组形式可以把不连续的膜层关联在一起优化），堆积密度包含在细化工具下的简单下降法里面（可对折射率优化）。优化过程可以加入如选择的膜层的总厚度等不同的限制条件。Optimac和needle Synthesis方法可以优化多层膜，可加入多种材料合成优化。Context允许使用替代材料优化。 :eW`El  
     Wt9'-"c  
    图表 //- ;uEO  
     OVU+V 0w1a  
    Essential Macleod包括标准图片、动态图（参数的变化效应可立即看到）、三维图。 7eQc14  
     "1>48Z-UC  
    导入与导出 >Ef{e6  
     lb<D,&+  
    剪贴板支持与其它应用程序的导入与导出数据，还可以导出数据到光学系统软件中如FRED、VirtualLab、Zemax、Code V。 TCetd#;R  
    Eh|v>Yew  
    Runsheet模块 _Rm1-,3  
     ^z}$ '<D9  
    这个工具可设计镀膜制程，包含机器配置编辑器以及跑单生成器。 ]Qh0+!SdG  
    z3Q#Wmv2  
    机器配置编辑器 K}9c$C4  
     NaYr$`  
    机器配置中贮存了特定镀膜机的详细设置，监控系统，入射角，材料，监控芯片，加工因子（包含随光源损耗变化的动态加工因子）。 }ujl2uhM  
    ,p[9EW*8  
    Runsheet Ig"Qw vR  
     +:#UU;W  
    使用者可使用跑单生成器对既定的机器配置，进行镀膜设计的监控规划。该工具除了可同时具备光学与晶体监控功能外，还具备诸如动态加工因子和系统带宽等高级特性。 ctu`FQ  
    y:ad%,. C  
    •对反射、背向反射和透射监控计算光学信号 ;]sbz4?  
    •当膜层沉积时，动态加工因子（Dynamic Tooling Factors）可以不同 SH/^qDT'  
    •使用偏移和放大控制可以使信号数据缩小或放大到用户自定义范围 fFJu]  
    •对每一膜层，监控波长、带宽、监控光谱、晶控或光控都可以用户自定义 oS Apa  
    •在镀膜的任何阶段，监控芯片可以更换 l"1at eM3  
    •多种配套的格式输出 zJX _EO  
    •提供图片和表格的监测数据可以输出到用户自定义报告格式 8AuOe7D9A  
    ZBl!7_[_  
    Simulator模块 j55;E E!  
     o=y0=,:a?9  
    对于公差问题， Simulator 通过蒙特卡罗（Monte Carlo）法在实际模型控制过程的扩展来进行解决。通过一个由 Runsheet 创建的控制计划， Simulator 可模拟薄膜淀积控制，引入随机和系统效应，例如信号噪声，加工因子的变动，封装密度误差等等，以及显示这些参数对于镀膜制程的最终模拟结果的效应。 E e 15Y$1  
    Rr6}$]1  
    Monitorlink模块 ylwh_&>2  
     k;xIo(:  
    Monitorlink提供将Runsheet连结到一个淀积控制器的额外软件。一个独立的程序与控制器直接连接，而且一个 Runsheet 的扩展也赋予其产出和编辑淀积程序的功能。 K *xca(6  
    VStack 模块 s8iB>-dk  
     _ 2E*  
    VStack 是一种计算与优化的工具﹐它也能计算这些系统中斜射光的效应。当光束斜入射时，初始为p- 偏振态的光线最终会以p - 偏振态从系统出射。同理，原本是s - 偏振态光也会以p - 偏振态出射，我们称此为偏振泄漏 (polarization leakage) 现象。VStack 能计算泄漏的大小而且提供泄漏元件的 Delta 值。 }>< v7  
    #jd&f,Tt  
    Function模块 &_ W~d0  
     JJVdq-k+`  
    函数扩展功能无macleod计算中的限制，Function有两个主要工具：第一是简单的宏语言可在软件表格中运行，另一个是强大的Basic脚本语言。 k5/W'*P  
     $hq'9}ASOL  
    宏语言可以保存和调用。Operation可以使阵列数据作为变量并可进行所有必要的插值。Operations可以创建黑体辐射光源，对于柯西材料模型可提取n和K数据，很容易的计算如平均或峰值特性等庞大计算量。其简单宏指令中的操作 ( 具有内建的编辑器和语法检查器 ) 能允许一再重复相同的计算。 c%vtg.A  
     n>\2_$uDI  
     y)GH=@b  
    '4]_~?&x  
    脚本是比Operations功能强大但更复杂的的脚本编辑。脚本可以调用Macleod作为物的实体，并运行它的命令可以插入到工具栏中，存在两个强大的编辑器，一个是可以使用BASIC脚本编辑器，另一个允许是允许用户与程序包内置的对话框交互的脚本编辑器。 <%GfF![v  
    l#cG#-  
    \zx$]|AQ  
    脚本也兼容OLE 的外部程序如Microsoft Word软件。软件提供了许多预先编辑好的脚本，如创建新的光源，如对不同的模型创建纳米复合材料，如OLED特性计算，膜层表面3维数据收集，非均匀表面效应的计算。 K4K]oT  
     g8L{xwx<  
    c01i !XS  
    DWDM Assistant模块 y`8 bx94jB  
     w$4*/D}Y  
    在多腔滤波器设计中，特别是针对密集波分复用，用DWDM 助手可以避免单调的重复过程。DWDA Assistant 可自主设计一组多腔滤波片，以满足用户的不同规格，设计结果可以根据一些诸如总厚度、预计淀积时间、扰动特性等等规范排序。 hG8<@  
     b  >x03%  
    ?{rpzrc!*  
    通过扰动优化算法，增加只是由1/4 波长厚度的膜层组成的结构，减少通带中的脉动，使DWDM助手中使用的对称周期技术功能增强。一般来说，对给定要求的滤波器，有许多的设计都满足要求，但DWDM 助手可以按评价标准对设计结果进行排列。 wjc&S'[  
     M~,N~ N1  
    Vh'H =J  
    W|4h;[w  
    试用索取QQ：939912426
     
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    只看该作者 1楼 发表于: 2021-04-08
      好东西哦..发个软件啦
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