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Essential Macleod是一套完整的光学薄膜分析与设计的软件包，它能在任一32位、64位微软窗口环境操作系统下运行（除了Windows RT）， 并且具有真正的多文档操作界面；它能满足光学镀膜设计中的各种要求；既可以从头开始设计，也可以优化已有的设计；可以模拟设计生产中的误差，也可以导出薄膜的光学常数，是当今市场上最完善的薄膜设计及分析软件。 bmSpbX\ Sk!v,gx 模块：Core模块+5个附加模块 _TV2) B44]NsYks~ Core模块 nqU H6(
lu<Np9/5< Macleod核心模块是软件的最低配置，包含设计编辑器，数据、目标编辑器，输入/输出，材料管理，性能计算，优化和综合，和其它软件或硬件的数据交换，导纳轨迹，电场，辅助设计等，是整个软件包的基本构架。
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q^Q|.&_k / 效能计算 g%Th_= qy
-zkW\O[ Essential Macleod 提供了整组完整的效能计算。除了一般反射和透射计算外，也包括沉积密度、吸收，椭圆参数，超快参数 (群组延迟、群组延迟色散、三阶色散)和多光色散，也可以进行色彩计算。公差的计算是分辨设计对微小厚度变化的灵敏度。 ~Q3WBOjn *S,v$ VX
颜色计算 >MBn2(\B;
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_tK5 颜色计算包括色度坐标、显色指数、色纯度、主导波长、相对色温。图形包括色度坐标图、色调、用户自定义图。包括CIE 1931 和 1964 配色函数在内的许多标准光源选择是预先定义好的，而用户可以定制你所需要的参数的其它参数。可以根据导入的透射及反射数据计算作为波长函数的颜色参数，也可以作为目标进行优化。 ,APGPE}I[
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D, 设计和分析工具 \H"/2o%l")
WW,r9D:/ 包括导纳图，电场分布，等效折射率，吸收分布，应力，光的散射、特性包络、消偏振边带滤波器设计和诱导透过率。 PprQq_j
(2hk < 提取工具 UU;Y sj
?];~N5<' n & k 提取工具提供了由量测测试薄膜的反射、透射频谱数据以决定薄膜或基底n 与k 的方法。 Q_UCF'f;}
oj,Vi-T Z 反演工程 ~7eUt^SD;
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zo~^o 主要采用Simplex 局部优化方法，根据已镀膜的设计结构和光谱测试数据（至少一种），来确定其真实膜系结构及其与设计的差别。 &</ @0
4Tbi%vF{ 公差 oe RYyJ
uBd = x<c\ Essential Macleod 的公差能力允许你探查设计相对于制造误差的灵敏度，可以比较不同的设计以挑选出最优者。 #Fb0;H9`
CC]@`R5 细化与合成 ivDG3>"JG
AQ_#uxI'oa Essential Macleod提供了6个优化和2个合成工具，膜层可以锁定或关联（膜层关联是更先进的分组形式可以把不连续的膜层关联在一起优化），堆积密度包含在细化工具下的简单下降法里面（可对折射率优化）。优化过程可以加入如选择的膜层的总厚度等不同的限制条件。Optimac和needle Synthesis方法可以优化多层膜，可加入多种材料合成优化。Context允许使用替代材料优化。 t9=|* =;9)
o@Cn_p^X 图表 AS/\IHZ\
uDMUy"8&! Essential Macleod包括标准图片、动态图（参数的变化效应可立即看到）、三维图。 gIf+.^/m1
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KoA[UJ 导入与导出 E l 8.D3
t]YLt , 剪贴板支持与其它应用程序的导入与导出数据，还可以导出数据到光学系统软件中如FRED、VirtualLab、Zemax、Code V。 eyl) uR HS | g
Runsheet模块 J*W;{Vty
IWbp^l+!t 这个工具可设计镀膜制程，包含机器配置编辑器以及跑单生成器。 | 2c!t$O@v ,"lBS? 机器配置编辑器 /`]|_>'
OM&\Mo 机器配置中贮存了特定镀膜机的详细设置，监控系统，入射角，材料，监控芯片，加工因子（包含随光源损耗变化的动态加工因子）。 j]] ziz,E l Ib>t Runsheet ;V(}F!U\z
7^ Q$pT> 使用者可使用跑单生成器对既定的机器配置，进行镀膜设计的监控规划。该工具除了可同时具备光学与晶体监控功能外，还具备诸如动态加工因子和系统带宽等高级特性。 YH'.Yj2 :?of./Df| •对反射、背向反射和透射监控计算光学信号 tS.b5 $Q •当膜层沉积时，动态加工因子（Dynamic Tooling Factors）可以不同 \crb&EgID •使用偏移和放大控制可以使信号数据缩小或放大到用户自定义范围 =R8.QBVdN •对每一膜层，监控波长、带宽、监控光谱、晶控或光控都可以用户自定义 mDt",#g
•在镀膜的任何阶段，监控芯片可以更换 ^eT>R,aB •多种配套的格式输出 # z54/T •提供图片和表格的监测数据可以输出到用户自定义报告格式 #mF Al|O .Y Frb+6 Simulator模块 V?=zuB?'
/01 (9( 对于公差问题， Simulator 通过蒙特卡罗（Monte Carlo）法在实际模型控制过程的扩展来进行解决。通过一个由 Runsheet 创建的控制计划， Simulator 可模拟薄膜淀积控制，引入随机和系统效应，例如信号噪声，加工因子的变动，封装密度误差等等，以及显示这些参数对于镀膜制程的最终模拟结果的效应。 FXwK9
% xg %]\# Monitorlink模块 {_gj>n (1
.`8,$"`4) Monitorlink提供将Runsheet连结到一个淀积控制器的额外软件。一个独立的程序与控制器直接连接，而且一个 Runsheet 的扩展也赋予其产出和编辑淀积程序的功能。 Tqh Rs VStack 模块 {qdhp_~^l
!(AFT! VStack 是一种计算与优化的工具﹐它也能计算这些系统中斜射光的效应。当光束斜入射时，初始为p- 偏振态的光线最终会以p - 偏振态从系统出射。同理，原本是s - 偏振态光也会以p - 偏振态出射，我们称此为偏振泄漏 (polarization leakage) 现象。VStack 能计算泄漏的大小而且提供泄漏元件的 Delta 值。 S{|)9EKw OL+40 J Function模块 5oy MR_yl
<cc0 phr 函数扩展功能无macleod计算中的限制，Function有两个主要工具：第一是简单的宏语言可在软件表格中运行，另一个是强大的Basic脚本语言。 (ZR"O8
hl~F1"q ) 宏语言可以保存和调用。Operation可以使阵列数据作为变量并可进行所有必要的插值。Operations可以创建黑体辐射光源，对于柯西材料模型可提取n和K数据，很容易的计算如平均或峰值特性等庞大计算量。其简单宏指令中的操作 ( 具有内建的编辑器和语法检查器 ) 能允许一再重复相同的计算。 u5|e9(J
Uwil*Jh D`ge3f8Wi  ,TA [el%#
脚本也兼容OLE 的外部程序如Microsoft Word软件。软件提供了许多预先编辑好的脚本，如创建新的光源，如对不同的模型创建纳米复合材料，如OLED特性计算，膜层表面3维数据收集，非均匀表面效应的计算。 rNO;yL4)ey
7VBw@Rh K1WoIv<Ym DWDM Assistant模块 6KTY`'I
V 1U[p3J-S 在多腔滤波器设计中，特别是针对密集波分复用，用DWDM 助手可以避免单调的重复过程。DWDA Assistant 可自主设计一组多腔滤波片，以满足用户的不同规格，设计结果可以根据一些诸如总厚度、预计淀积时间、扰动特性等等规范排序。 !\uk b
1qN9bwRO ',%&D A2 通过扰动优化算法，增加只是由1/4 波长厚度的膜层组成的结构，减少通带中的脉动，使DWDM助手中使用的对称周期技术功能增强。一般来说，对给定要求的滤波器，有许多的设计都满足要求，但DWDM 助手可以按评价标准对设计结果进行排列。 mR@Xt#
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