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摘要 Y@_ i32,r
r3_ @ L>; 在传统的Talbot光刻中，在光敏层中仅使用一个图像，但是可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的两个图像。在此示例中，遵循I.-H. Lee等人的工作，通过傅立叶模态法（FMM，也称为RCWA）在VirtualLab Fusion中对具有一层圆锥体的相位掩模进行了建模。探测得到不同的Talbot像，柱状图位于主像面上，孔状图位于次像面上。 (9fq UbG
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 $zyY"yWRZ }qi6 K-,oU 建模任务 [[oX$0Fp\! n]6xrsE
 t 0nGZ%` 结构和材料参数来自I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015) 2 ,E&}a|;b
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]i=-/ VirtualLab Fusion的工作流程 T5Sa9\`> B`T|M$Ug 构建光栅结构 !M)! - 用特殊介质构造光栅结构 [用例] gE`G3kgn{ - 超颖光栅构建 – 示例讨论 [用例] X+? *Tw!\ @HMt}zD 通过参数运行计算不同位置的强度 f?2Y np=@ - 参数运行文件的使用 [用例] (GMKIw2 S TVJu `0= 0IPVd HC ?yodp^ VirtualLab Fusion技术 .hSacd
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- 超稀疏介质纳米线栅偏振片 iL/(WAB_od - 光栅级次分析器 HP3~.1Sp - Talbot效应的建模 E@JxY =yz#L@\!
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