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    [分享]极紫外投影光刻光学系统 [复制链接]

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    离线gangzi0801
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-12-06
    摘要:极紫外光刻(EUVL)是半导体工业实现32~16nm技术节点的候选技术,而极紫外曝光光学系统是EUVL的核心部件,它主要由照明系统和微缩投影物镜组成。本文介绍了国内外现有的EUVL实验样机及其系统参数特性;总结了EUVL光学系统设计原则,分别综述了EUVL投影光学系统和照明光学系统的设计要求;描述了EUVL投影曝光系统及照明系统的设计方法;重点讨论了适用于22nm节点的EUVL非球面六镜投影光学系统,指出了改善EUVL照明均匀性的方法。 gZ3u=uME  
    {Qf=G|Ah  
    关键词:极紫外光刻;投影光学系统;照明光学系统;光学设计
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    mang2004 光币 +6 - 2021-01-10
    cyqdesign 光币 +5 - 2020-12-06
     
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    离线zszp
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    只看该作者 1楼 发表于: 2020-12-06
    感兴趣 顶顶顶
    离线zszp
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    只看该作者 2楼 发表于: 2020-12-06
    回 zszp 的帖子
    zszp:感兴趣 顶顶顶 (2020-12-06 14:57)  W@M:a  
    ^lnK$i  
    楼主 RAR 文件下载下来无法打开
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    只看该作者 3楼 发表于: 2020-12-06
    谢谢分享。
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    只看该作者 4楼 发表于: 2020-12-06
    回 zszp 的帖子
    zszp:楼主 RAR 文件下载下来无法打开  (2020-12-06 14:59)  kM l+yli3c  
    6D;Sgc5"  
    我下载了,压缩文件能正常解压呀,是不是你的网络有问题,传输错误了。
    离线mang2004
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    只看该作者 5楼 发表于: 2020-12-07
    谢谢分享
    离线optifdtd
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    只看该作者 6楼 发表于: 2020-12-07
    学习一下。。。。。。
    离线optifdtd
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    只看该作者 7楼 发表于: 2020-12-07
    不错的论文。。。。。。
    离线opmeman
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    只看该作者 8楼 发表于: 2020-12-07
    学习下光科技术哈
    离线legendlyy
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    只看该作者 9楼 发表于: 2020-12-07
    谢谢分享