空间光调制器(SLM.0002 v1.1) ^67P(h WU#bA|Cf 应用示例简述 >V87#E
j=dHgnVvj 1. 系统细节 %~^R Iwm 光源 p5)A"p8"9, — 高斯光束 StP6G ]x 组件 =#T6,[5
— 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 $hn_4$ 探测器 Zf]d'oW{/ — 视觉感知的仿真 8xg:ItJaA0 — 电磁场分布 _*bXVJ
] 建模/设计 c
!P9`l~MQ — 场追迹: (sJ{27b_ 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 r]BB$^@@V i]hFiX 2. 系统说明 %Dsa
~{ RJF1~9 faD(,H 3. 模拟 & 设计结果 `x6 i5mp #1u4Hi(x5 4. 总结 &ks>.l\
^"6xE nA] 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 L-@j9hU{ Xd|@w{.m* 第1步 4w]u: eU 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 o~<fw]y |;rjr_I 第2步 _jU6[y|XLh 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 O+.V,`O -U%wLkf| 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 q$b/T+-ec
}Ax$}# 应用示例详细内容 SAThY$)6
JsfbY^wz 系统参数 h5Qxa$Oq
ZwO&G\A^ 1. 该应用实例的内容 @] )a G-M!I`P 6<]&T lS] 2. 设计&仿真任务 .t"s>jq 1
vuDp_p*]S 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 Y/gVyQ( ms;Lu-UR 3. 参数:输入近乎平行的激光束 b LL!iz? d<7xSRC 6G@_!i*2F 4. 参数:SLM像素阵列 7zR7v
r^*,eF bB)EJCPq> 5. 参数:SLM像素阵列 PcUi+[s;x .%WbXs {r'#(\ 应用示例详细内容 tJHzhH)
;K$E;ZhPN 仿真&结果 Q$kSK+ q!
q3scz 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM y3;G<9K2c] 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 Q*mPU=< 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 P-^Z7^o-bX c?<FMb3] 2. VirtualLab的SLM模块 NwT3e&u%|
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{T:2+iS9:
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 Gt6$@ji4u
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 $ZQP f
;"joebZ/ 3. SLM的光学功能 U]e;=T:3
A`X$jpAn& 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。
x,>@IEN7 为此,将区域填充因子设置为60%。 K +w3YA 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 5zfaqt` RMLs(?e 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd G9Xrwk<g4 Qs;bVlp!H 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 YM1@B`yWE /7P4[~vw 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd +sgishqn9 EkOBI[` 4. 对比:光栅的光学功能 E8FS jLZ 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 SwSBQq%h]M 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。
[[[p@d/Y 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 JRU)AMMU& 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 c1MALgK~}\ 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 /A<L
}ZvL%4jT
(zgXhx_!D 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd ,VJ0J!@
6AZ/whn# 5. 有间隔SLM的光学功能 RUO,tB|(_; 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 )ALf!E%{ `;QpPSw + 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd M@8
<^CK g%RL9-z 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 a8Ci 7<V roW8 4x +s1mm c 6. 减少计算工作量 :[\}Hn= 0QEVL6gw
OU0\xx1/ 采样要求: WBTX~%*U 至少1个点的间隔(每边)。 hua{g_ 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 j<wg>O:s%r Wl::tgU 采样要求: PN0:,.4 同样,至少1个点的间隔。 _j<46^ 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 kQ{pFFO 随填充因子的增大,采样迅速增加。 vxZz9+UbF h7I_{v8 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 ]hL 1qS 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 N55;oj_K 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 oDM}h
+ 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 SaQ_%-p dbE $T /-G;#Wm
b_\aSEaTT 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
,Iwri\ 7. 指定区域填充因子的仿真 Wx;9N
EV2whs2g 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 5XA6IL|/l 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 Xm\tyLY 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 x1Z?x,-D" 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 u -CY- C x$|7J=O ihf5`mk/$
8. 总结 6D3fkvcZ 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 ~A [ Ju%R .CrahV1G 第1步 Q[`_Y3@j 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 N;<<-`i +anNpy 第2步 FeLWQn/aV6 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 :6N{~ [:4 扩展阅读 *sZOws< 扩展阅读 Dr,{V6^ 开始视频 [
ecYpE< - 光路图介绍 i nF&Pv