空间光调制器(SLM.0002 v1.1) |O8e;v72g^ (TeH)j! 应用示例简述 LK h=jB^bT
$xu2ZBK 1. 系统细节 : /5+p>Ep} 光源 khX/xL — 高斯光束 A;Uc&G 组件 &GH[$( — 反射型空间光调制器组件及后续的2f系统 +Nn >*sz 探测器 BValU — 视觉感知的仿真 wX] _Abk — 电磁场分布 _c]}m3/ 建模/设计 ?qQ{]_q1&. — 场追迹: xU\!UVQ/ 一个SLM像素阵列处光传播的仿真,仿真中包括了SLM像素间无功能间隔引起的衍射效应。 amsl>wc! =9&2udV1 2. 系统说明 dX?j/M- \%r#>8c8 V
FM[- 3. 模拟 & 设计结果 h%j4(v}r{C ,88B@a 4. 总结 ~D5
-G?%$"
Gb^63.} 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 dOD(< K E\>T: 第1步 {tVA(&\< 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 X0*+]tRg 2Wcu. 第2步 sD3Ts;k 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 `
k]
TOc =o@}~G&HA 产生的衍射效应对SLM的光学功能以及效率具有重大影响。 T#&1q]P1F
{r&r^!K; 应用示例详细内容 " lD -*e4
Pr>$m{
Z 系统参数 R655@|RT
Qe~C}j% 1. 该应用实例的内容 2K~v`c*4 CQ!D{o= PCCE+wC6 2. 设计&仿真任务 HtN:v
]FR#ZvM>x 由于制造和技术的原因,像素之间存在非功能间隔。这种典型的间隔会产生衍射效应,从而影响SLM的光学性能,并在接下来的工作中对其进行研究。 iu{y.}? ,5 8-h?B0v 3. 参数:输入近乎平行的激光束 Mx}r! Q jzi%[c<G [?z;'O}y 4. 参数:SLM像素阵列 ufR|V-BWx
q4:zr
z{.&sr>+v 5. 参数:SLM像素阵列 KMT$/I{p, 41R~.? ,,FhE 应用示例详细内容 ycN!N
n(A;:)W{ 仿真&结果 jhT/}"v
E2hML 1. VirtualLab能够模拟具有间隔的SLM ca
&zYXy 由于可以嵌入组件,VirtualLab可以轻松的实现反射系统(如反射镜,2f系统等)。 Jn(|.eT| 内置的SLM模式可以实现从简单透射函数到包含像素和间隔的阵列的自动转换。 ; <- f .yDR2sW 2. VirtualLab的SLM模块 h<IAHCz;(
u}'m7|)8
dnANlNMk?
为设置像素阵列,必须输入像素阵列尺寸和区域填充因子。 >>=zkPy
必须设置所设计的SLM透射函数。因此,需要输入文件SLM_Transmission_Function.ca2的路径。 ,9OER!$y
T&dc)t`o 3. SLM的光学功能 6\h*SBI?(
*"|f!t 在第一步,我们可以研究SLM后的电磁场。 ,*$Y[UT 为此,将区域填充因子设置为60%。 EhW@iYL 首先,获得场(Ex方向)的振幅,分别显示了SLM像素及其间隔的影响。 W__$
i<1 k]4CN 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_01_Nearfield.lpd >U:-U"rA? "97sH_
, 此处,场(Ex方向)的(Wrapped)位相如下图所示,其中所有的间隔的相位值都为一个常数值。 mv<cyWp e{:
-N 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd USE! (>Sy, 4. 对比:光栅的光学功能 T+V:vuK 上述的像素效应可以用相似光学功能的2D周期结构的进行比较。 _Wp,
z` 所示函数(Ex的振幅)相当于一个SLM,其像素提供一个常数位相函数。 8yr-X!eF 通过这种光栅,能够将光衍射到几个衍射级次,衍射级次分布在x-和y-方向(由于二维光栅结构)。 n`Ypv{+ {% 级次越高振幅衰减越快,所以只有0级,1级以及2级贡献了主要的光强部分。 } BP.t$_ 这意味着,对于SLM,我们所期望的光分布具有有较高的级次,其光强由区域填充因子决定。 zPvTRW~H\
P@etT8| V
&sq q+&ao 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_02_2DGrating.lpd Dmtsu2o
RZvRV?<bR 5. 有间隔SLM的光学功能 GyE5jh2 现在,基于像素阵列的区域填充因子,我们可以在傅里叶平面研究SLM的光学功能。 ~@^ pX*%i *XXa9z 所用文件: SLM.0002_Diffraction_Pixels_SLM_03_2DGrating.lpd Swv
=gu m,J9:S<5; 下图显示了(Ex方向)光强分布,图中具有相同的振幅比率。 C-2#-{< gZ(\/m8Z Dk~
JH9# 6. 减少计算工作量 `yXHb K>+c2;t;
QswFISch 采样要求: AQ-R^kT 至少1个点的间隔(每边)。 M4XU*piz 如在有效区域,用户指定60%区域填充因子,模块在激活区域计算5×5点的等间距采样。 =rNI&K_< Jl)Q# 采样要求: yV@~B;eW0 同样,至少1个点的间隔。 K?wo AuY 假设指定90%区域填充因子,模块计算25×25点的等间距采样。 w3Qil[rg 随填充因子的增大,采样迅速增加。 .|6Wmn-uS jW|M)[KJN 为优化大填充因子条件下的计算工作量,减小相关阵列尺寸是非常有效的方法。 ^@maF<Jb 如果被照明区域小于阵列尺寸(标记区域包含光强的90%),这种简化是非常适用的。 cj3P]2B# 如果只考虑标记的范围,仅计算SLM的320×320个像素即可(SLM模块自动删除了透射函数边界)。 |>p?Cm 通过优化,计算工作量减少了4.7倍。 c+TCC%AJQI ~
Q;qRx j|WN!!7
NSh~O!pX 减小SLM阵列尺寸后计算所得的振幅分布几乎和全阵列一样。
|P=-m-W 7. 指定区域填充因子的仿真 M[dJQ(
E7Pz~6 由于间隔非常狭窄,Hamamatsu’s X10468 指定填充因子为98%,需要更多的采样点进行计算。 d>Np; " 全阵列尺寸798×600像素将需要79992×60600个采样点,需要极高的计算量。 [M.!7+$o 因此,可适当减小阵列尺寸到320×320像素,采样点数目为32320×32320。 "Kn%|\YL@4 在优化的帮助下,可对指定区域填充因子进行研究(该仿真仍需约256GB的内存)。 #c1c%27cmm _E[)_yH'- OEgp!J
8. 总结 )6-!,D0 db 考虑SLM像素间隔来研究空间光调制器的性能。 *+cW)klm ~LN
{5zg 第1步 uHO>FM, 将像素间隔引入到一个先前设计的用于光束整形的SLM透射函数。 8DJoQl9 &Sp2['a! 第2步
Hn,;G`{ 分析不同区域填充因子的对性能的影响。 n#5%{e> 扩展阅读 "PY&N