《红外
光学材料(第2版)》对
红外光学材料的光学、力学和热学性质,红外光学材料的各种制备工艺作了详细的论述,对于窗口和整流罩应用的CVD金刚石作了简单的讨论,最后对红外光学窗口和整流罩使用中必不可少的增透膜和保护膜作了较详细的论述。从而展现了目前红外光学材料在尺寸和性能上所达到的水平。
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"f 《红外光学材料(第2版)》可作为从事红外光学材料研制及红外光电传感
系统设计和使用的工程技术人员参考,也可作为大专院校相关专业学生的参考书。
_*(n2'2B 3`V#ImV> n2<#]2h ^Q)&lxlxpx
hrLPyV: :BIgrz"Jz 第1章 红外光学材料基础
f$\gm+&hXE 1.1 引言
l!6^xMhYk 1.2 大气窗口
#x)lN 1.3 黑体辐射——普朗克辐射定律
;>#YOxPl 1.4 波动方程和光学常数
)U>JFgpIW 1.5 反射和折射
HY
(|31 1.6
薄膜光学
e.8(tEqZ1 1.7 折射指数和色散
*^]lFuX\&E 1.8 在各向异性介质中光的传播——双折射
.fZ*N/ 1.9 透明介质中光的散射
=3~u.iq$ 1.10 透明介质热辐射的发射率
#!a}ZhIt 1.11 断裂强度和断裂韧性
zOV.cI6fZz 1.12 断裂强度的统计分析
!N, Oe< 1.13 抗热冲击品质因子
#M9rt~4 1.13.1 压力诱导应力
?8{x/y: 1.13.2 热诱导应力
}]i re2j8 1.13.3 品质因子
4[\[Ho 1.14
激光窗口的光畸变
BKiyog 参考文献
!R{C D7|=ev 第2章 红外光学材料的光学性质
vMDX 2.1 引言
_trF /U< 2.2 反射
4 w$f- 2.3 透过率和吸收系数及与温度的关系
Q
db~I#}m' 2.3.1 概述
3,x|w 2.3.2 红外光学材料的透射波段
Bu:h_sV D 2.3.3 Ge和Si
s]D&): 2.3.4 GaAs和GaP
ncF|wz 2.3.5 蓝宝石和氧化铝多晶.
:P!"'&gCL 2.3.6 氧化物多晶光学陶瓷——MgAl204、MgO、Y203、石英和YAG
#osP"~{
2.3.7 ZnS和ZnSe
5)IJ|"]y 2.3.8 CVDSiC和CVDSi2N4
( !K?^si 2.3.9 MgF2和CaF2
Xm#E9 9 2.3.1 0硫系化合物玻璃
1WArgR 2.4 折射指数、色散和折射指数与温度的关系
]HpKDb0+ 2.4.1 Ge和Si
mJj
[f8 2.4.2 GaAs和GaP
BCrX>Pp}r 2.4.3 氧化物光学陶瓷
F4Jc7k2 2.4.4 CVDZnS和CVDZnSe
2s+ITPr 2.4.5 ?-SiC和0 ——Si3N4
"s:eH"_s 2.4.6 MgF2和CaF2
ZmJ!ZKKch 2.4.7 硫系玻璃
Nb[zm|. 2.5 散射
Z9TUaMhF 2.6 发射率
"ggViIOw& 2.7 红外光学材料的微波透射性质
c^4^z"Mo` 参考文献
r)9&'m .: +{qX, 第3章 红外光学材料的力学与热学性质
F|rJ{=x
3.1 引言
G`a,(<kT; 3.2 红外光学材料力学和热学性质
m!Iax]D{ 3.2.1 弹性模量E和泊松比v
Sqc
r
- 3.2.2 热导率
qIO<\Yl 3.2.3 热膨胀系数
?PMF]ah 3.3 红外光学材料的硬度及其影响因素
l'~~hQ{h/ 3.3.1 硬度测试
u$3wdZ2&m 3.3.2 温度对硬度的影响
*@E Itj ` 3.3.3 晶粒尺寸的影响
F"#8`Ps> 3.3.4 压力的影响.
<c,/+
lQ^ 3.3.5 形成固溶体改善硬度
H
3e(- 3.3.6 化学键对硬度的影响
QNGICG- 3.3.7 硬度和材料其他
参数的关系
yMJY6$Ct 3.4 红外光学材料断裂强度及其影响因素
c@+ ;4Iz 3.4.1 常用的强度测试方法
^KKU@ab9 3.4.2 陶瓷材料强度的影响因素
c*5y8k 3.5 蓝宝石单晶的高温强度
Z#2AK63/T 3.5.1 温度对蓝宝石强度的影响
POnI&y] 3.5.2 蓝宝石高温强度的改善
lbRm(W( 3.6 红外光学材料的断裂韧性
N33{vx 3.7 红外光学材料抗热冲击品质因子
y .+d3 3.8 固体粒子对红外光学元件表面的冲击损伤
9PU9BYBG 3.9 红外光学元件表面的雨蚀
t
Q0vX@I<v 3.10 激光窗口用光学材料
ZPM,ZGlu: 参考文献
zoj3w|G &WqKsH$ 第4章 红外光学材料的制备方法和工艺
wRc=;f 4.1 引言
oicj3xkw? 4.2 热压工艺
FMuakCic5 4.2.1 热压的工艺
原理 QGWfF,q 4.2.2 ZnS和.ZnSe的热压
S$=e %c 4.2.3 热压制备其他光学材料
x[ sSM: 4.3 烧结、热压烧结和热等静压法
M~6x&|2 4.3.1 烧结、热等静压制备ZnS
%LL*V| 4.3.2 尖晶石(MgAl204)的制备
m((A 4.3.3 氮氧化铝(A10N)晶体
SM<kR1bo 4.4纳米和亚微米氧化物透明陶瓷的制备
;AFF7N>& 4.4.1 透明A1203哆晶陶瓷
v Ft]n 4.4.2 Nd:YAG
RWN2P6 4.4.3 纳米MgO和Y203
bIX'|= 4.5 熔体定向凝固法
M"E ]r=1 4.5.1 定向凝固的热流及温度分布
*jBn
^ 4.5.2 热交换法(}tEM)
BFCF+hU^6R 4.5.3 梯度凝固法(GSM)
r N"P
IH 4.5.4 垂直梯度凝固法(VGF)
Uf:G,%OYi 4.5.5 泡生法(kyropoulos法)
vPVA^UPNV 4.5.6 水平法生长蓝宝石
:sMc}k?9S 4.6 导模法
%
d%KH9u 4.6.1 导模法生长原理
?q68{!{bi 4.6.2 导模法工艺
Qp~W|zi( 4.7 直拉生长法((~'zochralski法)
!k=>Wb8n2 4.7.1 熔体生长的基本原理
33R_JM{ 4.7.2 锗和硅单晶生长
G)I lkA@ 4.7.3 Ⅲ一V族化合物半导体GaAs和GaP
<2\4eusk 参考文献
A[,[j?wC }]qx " 第5章 化学气相沉积制备红外光学材料
5y}kI 5.1 引言
m &U
$V 5.2 化学气相沉积基础
vd4}b> 5.2.1 概述
g{`r WKj 5.2.2 温度的影响
`kx+ Kc 5.2.3 反应剂分子向衬底表面的传输
jh3LD6|s} 5.2.4 压力的影响
`=]I-5#.W 5.2.5 反应剂气体流动状态
a]-.@^:_i 5.3 CVDZnS和CVDZnSe
`OY_v=} 5.4 CVDB-SiC
vFKt=o$ g 5.5 CVDGaP
?c vXuxCm 5.6 CVDSi2N4
VTDp9s 参考文献
I+) Acy; x*)@:W! 第6章 金刚石光学材料
iNTw;ov 6.1 概述
+sTZ)
5vQ 6.2 CVD金刚石性质
zH0{S.3k 6.2.1 CVD金刚石的光学性能
]"Do%<