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摘要 ,oP-:q!PC Vb 4Qt#o 光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 wrn[q{dX (>0d+ KT X5U!25d] y::;e#. 该用例展示了… SQ5*?u\ 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: ;lAz@jr+ 倾斜光栅介质 F;ONo.v; 体光栅介质 fV}\ 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 FZA8@J|Q4 /p>"|z x el&8 ` s !8]CV> 光栅工具箱初始化 ~:)$~g7>b I/WnF"yP w.l#Z} k 初始化 'KQuz)- 开始-> Y+?bo9CES! 光栅-> $zmES tcm 通用光栅光路图 C
[2tH2*# 注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 /2HwK/RZ 光栅结构设置 Gcs+@7!b 首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 #zy,x 在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 RL&3 P@r 堆栈可以固定到基底的一边或两边 h'-TZXs0e1 C#I),LE|d{ 这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 KH
KqE6 m'qMcCE 堆栈编辑器 yJp&A
FxZ\)Y Uero!+_ iD(K*[;lc 堆栈编辑器 s\jLIrG8 4UL-j y
ph 涂层倾斜光栅介质 5e2mEQU> `z=MI66Nl 在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 D9LwYftZ 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 XPEjMm'*b3 在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 p-7dJ 在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) lHGv:TN 2#!$f_ nlY ^ B)-S@.u 涂层倾斜光栅介质 d=5D 9'+ *Cb(4h- yQx>h6 kv5Qxj} 涂层倾斜光栅介质 Ti)n(G9$ 堆栈周期允许控制整个配置的周期 XW#4C*5?d 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 -xcz+pHQ 在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 =;{S>P!I(t Z?x]HB`r 2)8lJXM$L u51/B:+ 涂层倾斜光栅介质参数 p5H Mg\hT Va 5U`0 9/%|#b-z X!
]~]%K$y 涂层倾斜光栅介质参数 ji8Rd"S ,H%\+yn{ 7 Ow7| {Y@[hoHtF 高级选项&信息 16+@#d%#p 在传输菜单中,多个高级选项可用 4YCGh 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 ;4_n:XUgo; 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 DuE>KX{<!R 这可能是有用的,如果考虑金属光栅 08`
@u4 相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 lR(&Wc\j drZw#b )5t_tPv L9kP8&&KK 高级选项&信息 W#wM PsB 高级选项标签提供了结构分解的信息 + mcN6/ 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 ZRHTvxf 更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 NWpRzh8$u 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 wLO/2V}/ u<8Q[_E& # SXXYh-e hnZHu\EJ 高级选项&信息 y,x~S\>+ DEs?xl]zO S3<v?tqLr gvJJ.IX]+ 高级选项&信息 96.Wfx d;^?6V O92Y d$S ^
UzF
nW@a 体光栅介质 ,J^Op
3q>"#+R.t 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 9VByFQgM 界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 'SieZIm) 同时,两个平面界面作为介质的边界 'KL(A-}! -Gpj^aBU }';&0p2Z w s=T R 体光栅介质参数 h$&XQq0T uM}O8N 为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 cTnbI4S; 首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 _~kcr5 其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 .9xGLmg 更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) ;Ki1nq5c#s 3KKe4{oG (Gn[T1p? |- fx
0y 体光栅介质参数 J]0#M:w& @\y7
9FX "v1(f| a ^sKXn:) 高级选项&信息 `9+EhP$RS [1C#[Vla L@Z
&v'A 7|-xM>L$A 高级选项&信息 ["}A#cO652 iV5I =;H'~ v#|c.<]. 在探测器位置处的备注 N:: ;J 在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 1aE/_ 如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 XV>6;!=E 然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 !iVFzG
@m 因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) pJz8e&wyLM 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 I[UA' ~f @:&+wq_>A^ fF("c6:w( }dUC^04 文件信息 kA4ei FW DuH`-5 6bNW1]rD Q*.FUV&;
>Gu0& QQ:2987619807 wIF
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