切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • 1323阅读
    • 0回复

    [推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

    上一主题 下一主题
    离线infotek
     
    发帖
    5302
    光币
    20742
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-10-10
    摘要 xcz[w}{eEq  
    {fW(e?8)  
    光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 xFvDKW)_X7  
    m08:EX P  
    z'OY6  
    UT!gAU  
    该用例展示了… 0 UdAF  
     在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: s=9gp$9m  
    倾斜光栅介质 9un* 1%  
    体光栅介质 AvnK?*5!@  
     如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 oVk*G  
    R%B"Gtl)  
    Gu?O yL  
    OW!cydA-  
    光栅工具箱初始化 y8=p;7DY  
    n<\ W Vi  
    RQiGKz5  
     初始化 0*0]R C5?  
    开始-> ,5`pe%W7  
    光栅-> e }>8rnR{  
    通用光栅光路图 )bN|*Bw3  
     注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 \l)<NZ\  
    光栅结构设置 O/b~TVA  
     首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 wi]ya\(*yl  
     在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 3{OY&   
     堆栈可以固定到基底的一边或两边 r;m_@*]  
    9ReH@5_bGM  
     这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 g_'F(An  
    49. @Uzo  
    堆栈编辑器 MR:GH.uM:  
    WrWJ!   
    &s m7R i  
    DL0jA/f  
    堆栈编辑器 V}<Hx3!  
     =d07c  
    GiI|6z!  
    涂层倾斜光栅介质 #lDf8G|ST~  
    7u8HcHl  
     在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 " o.V`Bj  
     这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 8/lv,m#  
     在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 ?S&pq?   
     在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) LS1r}cl  
    Fl)p^uUtl  
    {c5%.<O  
    $v|/*1S  
    涂层倾斜光栅介质 &.XYI3Ab1  
    o&M2POI~q  
    q:2Vw`g'  
    `U:W(\L  
    涂层倾斜光栅介质 v,6  
     堆栈周期允许控制整个配置的周期 d:KUJ Y.  
     该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 1e=<df  
     在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 wkSIQL  
    zQY|=4NP  
    g )H>Uu5@  
    Cm)_xnv  
    涂层倾斜光栅介质参数 gT 8^  
    H"v3?g`S%  
    oy+``W~  
    8&?kr/_Vr  
    涂层倾斜光栅介质参数 j TVh`d< N  
    'C=8.P?  
    QP+zGXd}(  
    &+t! LM  
    高级选项&信息 m(Hb! RT  
     在传输菜单中,多个高级选项可用 ~`J/618  
     传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 NpS*]vSO  
     可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 "&jWC  
     这可能是有用的,如果考虑金属光栅 ziFg+i%s  
     相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 N^,@s"g  
    P}=u8(u  
    GE+ %V7  
    tnx)_f  
    高级选项&信息 j1{ @?  
     高级选项标签提供了结构分解的信息 1<Vc[p&  
     层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 \;"$Z 9W  
     更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 %EC{O@EAk  
     分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 53y,eLf  
    F_8 < tA6  
    ]-  
    $L|YllD%  
    高级选项&信息 8<cD+Jtj  
    8 1Ar.<  
    x9fNIuAQ  
    *Q= 3v  
    高级选项&信息 ?Bg<74  
    NZUQ R`5  
    zj G>=2  
    Z#8O)GK  
    体光栅介质 vj?v7  
    -b1VY4m-  
     另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 4]\ f}  
     界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 +APf[ZpU  
     同时,两个平面界面作为介质的边界 JE~ci#|!  
    AEjkqG4qv  
    3:q\]]]S  
    JryCL]  
    体光栅介质参数 iUcDj:  
    h-"c )?p  
     为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 \Qa6mt2h  
     首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 vIk;x  
     其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 L0j&p[(r  
     更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) t?[|oz:v  
    }=kf52Am,}  
    7_$Xt)Y{  
    WdXi  
    体光栅介质参数 xRZ9.Agv_  
    &p\fdR4e  
    +-=o16*{ !  
    r[P5 ufy2]  
    高级选项&信息 cO$ PK  
    } Qjp,(ye  
    XY(3!>/eQ[  
    K]mR9$/  
    高级选项&信息 ^X$k<nA;  
    J \iyc,M<M  
    3?Ckk{)&  
    ~T<yp  
    在探测器位置处的备注 'qRK6}"T  
     在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 bv&A)h"S  
     如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 0>#or$:6E  
     然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 0Xmp)_vba  
     因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) ,X Zo0 !  
     这避免了这些干涉效应的不必要的影响 hr%O4&sa  
    /|{Yot e  
    x,W)qv  
    _C` cO  
    文件信息 k(n{$  
    #bX~.jKW  
    ?b?`(JTR  
    LQVa,'  
    I>k >^  
    QQ:2987619807 4@6!E^  
     
    分享到