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    [推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-10-10
    摘要 ,oP-:q!PC  
    Vb 4Qt#o  
    光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 wrn[q{dX  
    (>0d+ KT  
    X5U!25d]  
    y::;e#.  
    该用例展示了… SQ5*?u\  
     在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: ;lAz@jr+  
    倾斜光栅介质 F;ONo.v;  
    体光栅介质  fV}\  
     如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 FZA8@J|Q4  
    /p>"|z  
    xel&8 `  
    s !8]CV>  
    光栅工具箱初始化 ~:)$~g7>b  
    I/WnF"yP  
    w.l#Z} k  
     初始化 'KQu z)-  
    开始-> Y+?bo9CES!  
    光栅-> $z mES tcm  
    通用光栅光路图 C [2tH2*#  
     注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 /2HwK/RZ  
    光栅结构设置 Gcs+@7!b  
     首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 #zy,x  
     在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 RL&3 P@r  
     堆栈可以固定到基底的一边或两边 h'-TZXs0e1  
    C#I),LE|d{  
     这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 KH KqE6  
    m'qMcCE  
    堆栈编辑器 yJp& A  
    FxZ\)Y   
     Uero!+_  
    iD(K*[;lc  
    堆栈编辑器 s\jLIrG8  
    4UL-j  
    y ph  
    涂层倾斜光栅介质 5e2m EQU>  
    `z=MI66Nl  
     在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 D9LwYftZ  
     这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 XPEjMm'*b3  
     在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 p-7dJ  
     在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) lHGv:TN  
    2#!$f_  
    nlY ^  
    B)-S@.u  
    涂层倾斜光栅介质 d=5D 9' +  
    *Cb(4h-  
    yQx>h6  
    kv5Qxj}  
    涂层倾斜光栅介质 Ti)n(G9$  
     堆栈周期允许控制整个配置的周期 XW#4C*5?d  
     该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 -xcz+pHQ  
     在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 =;{S>P!I(t  
    Z?x]HB`r  
    2)8lJXM$L  
    u51/B:+   
    涂层倾斜光栅介质参数 p5H Mg\hT  
    Va 5U`0  
    9/%|#b-z  
    X! ]~]%K$y  
    涂层倾斜光栅介质参数 ji8 Rd"S  
    ,H%\+yn{  
    7Ow7|  
    {Y@[hoHtF  
    高级选项&信息 16+@#d%#p  
     在传输菜单中,多个高级选项可用 4YCGh  
     传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 ;4_n:XUgo;  
     可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 DuE>KX{<!R  
     这可能是有用的,如果考虑金属光栅 08` @u4  
     相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 lR(&Wc\j  
    drZw#b  
    )5t_tPv  
    L9kP8&&KK  
    高级选项&信息 W#wM PsB  
     高级选项标签提供了结构分解的信息 + mcN6/  
     层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 ZRHTvxf  
     更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 NWpRzh8$u  
     分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 wLO/2V}/  
    u<8Q[_E&  
    #SXXYh-e  
    hnZHu\EJ  
    高级选项&信息 y,x~S\>+  
    DEs?xl]zO  
    S3<v?tqLr  
    gvJJ.IX]+  
    高级选项&信息 96.Wfx  
    d;^?6V  
    O92Yd$S  
    ^ UzF nW@a  
    体光栅介质 ,J^Op   
    3q>"#+R.t  
     另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 9VByFQgM  
     界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 'SieZIm)  
     同时,两个平面界面作为介质的边界 'KL(A-}!  
    -Gpj^aBU  
    }';&0p2Z  
    ws=TR  
    体光栅介质参数 h$&XQq0T  
    uM}O8N  
     为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 cTnbI4S;  
     首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 _~kcr5  
     其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 .9xGLmg  
     更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) ;Ki1nq5c#s  
    3KKe4{oG  
    (Gn[T1p?  
    |-fx 0y   
    体光栅介质参数 J]0#M:w&  
    @\y7 9FX  
    "v1(f|a  
    ^sKXn:)  
    高级选项&信息 `9+EhP$RS  
    [1C#[Vla  
    L@Z &v'A  
    7|-xM>L$A  
    高级选项&信息 ["}A#cO652  
    iV&#5I  
    =;H'~  
    v#|c.<].  
    在探测器位置处的备注 N::;J  
     在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 1aE/_  
     如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 XV>6;!=E  
     然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 !iVFzG @m  
     因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) pJz8e&wyLM  
     这避免了这些干涉效应的不必要的影响 I[UA' ~f  
    @:&+wq_>A^  
    fF("c6:w(  
    }dUC^04  
    文件信息 kA4ei  
    FW DuH`-5  
    6bNW1]rD  
    Q*.FUV&;  
     >Gu0&  
    QQ:2987619807 wIF ":'  
     
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