[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 c:d.mkF\  

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光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 ehpU`vQz  
rk E;OU  
dvW2X  
VUneCt%  
该用例展示了… j5Cf\*B4J  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： hy]8t1894  
倾斜光栅介质 I(5sKU3<  
体光栅介质 >WcOY7  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 6?BV J  
T4JG5  
+lhjz*0  
Ib&]1ger#=  
光栅工具箱初始化 (i1q".  
ns&3Dh(IVP  
l^cz&k=+  
 初始化 Fd1t/B,  
开始-> KHTRoXt  
光栅-> ;"9$LHH*  
通用光栅光路图 .FdzEauVc  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 VE $Kdo^  
光栅结构设置 H"; !A=0  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 .',d*H))E7  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 GzN /0:b  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 =mp"=%  
HYwtGj~5  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 d%~OEq1i"  
O'~>AC5
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堆栈编辑器 A=f)ntH~  
'3uN]-A>D  
0hpU9w}12  
!q[r_wL  
堆栈编辑器 KlGmO;k  
) >H11o{&  
"Q.KBX v/  
涂层倾斜光栅介质 kTfE*We9  
:5-t$^R  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 \uyZl2=WWa  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 r @URs;O=  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 $lAQcG&Q  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） T!2gOe  
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}I"k=>Ycns  
Da)H/3ii  
涂层倾斜光栅介质 iGw\A!}w\  
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(o2.*x  
涂层倾斜光栅介质 m4@Lml+B,  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 w\}Q.$@  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 @M)"  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 Blox~=cW  
3| F\a|N  
mum4Uj  
9!,f4&G`  
涂层倾斜光栅介质参数 Ewa/6=]LA  
v@1f,d  
9`Y\`F#}q  
{O_`eS  
涂层倾斜光栅介质参数 A(1WQUu j  
+EvY-mwfQ  
303x|y  
B42qiV2/k  
高级选项&信息 +(m*??TAV  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 ?/YT,W<c;&  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 o<L=l
Q  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 k&pV`.Imi  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 C[[:/X(c  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 z]R% A:6K  
mc|8t0+1`  
om1D}irKT  
~kOXMLRg  
高级选项&信息 |5(un/-C  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 O6b.oS'-  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 UW],9r/PD@  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 Z"d21D~h9`  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 }_h2:^n  
UJ^-T+fut  
yUX<W'-Hev  
K}!YXy h  
高级选项&信息 PX5U)  
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ADT8A."R[  
高级选项&信息 K{`3,U2Wx  
#OsUF,NU  
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<(x!P=NM-  
体光栅介质 #F:\_!2c  
znNv;-q  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 c#T0n !}  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 S*(ns<L  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 uE&2M>2  
_MzdbUb5,  
Vee;&  
`m\l#r2C  
体光栅介质参数 tybM3VA  
wbbr8WiU
 
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 otJHcGv  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 Rqun}v}  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 B0ZLGB  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） C''[[sw'K  
&h?8yV4B  
($s%B  
=f=,YcRn+  
体光栅介质参数 sXR}#*8p  
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k^Uk=)9  
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高级选项&信息 |&\cr\T\r  
xi!R[xr1  
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F1b~S
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高级选项&信息 5dEek7wnf  
TuMD+^x  
j(`V&S
 
I.'sK9\Zp  
在探测器位置处的备注 )Ga 3Ji}'  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 ul ag$ge  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 gpe-)hD@R  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 }OLBEhGs  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） x#TWZ;  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 H^0`YQJ3  
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文件信息 KI8Q =*  
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QQ：2987619807 l@nG?l #