[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 }"\jB  
`21$e  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 n38l!m(.  
y%Wbm&h  
8]2j*e0xV  
~i5t1  
该用例展示了… d>bS)  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： ,\CG}-v@CN  
倾斜光栅介质 iS#m{1m$$  
体光栅介质 Kc#42C;t/  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 y&(R1Y75  
6v(;dolBIw  
JANP_b:t  
Op 0Qpn  
光栅工具箱初始化 ~'u %66  
#- z(]Y,y  
*
#&s+h,^  
 初始化 ]/TqPOi:  
开始-> qJ5gdID1_  
光栅-> 2
nv-/%]  
通用光栅光路图 _VFL}<i  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 R1/87eB
 
光栅结构设置 s]@k,
%  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 &h67LMD!  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 c&>==pI]k  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 @;P\`[
(*  
ATq-&1hs  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 f<K7m  
eGW~4zU  
堆栈编辑器 /sa\Ze;E  
R3!3TJ  
`mo>~c7  
y|O)i I/g  
堆栈编辑器 m=e#1Hs  
KGq4tlM6  
X!=*<GF)  
涂层倾斜光栅介质 7nOn^f D  
)WR*8659e  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 TkjPa};R  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 B_uAa5'  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 ?
[~)D}] j  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） vp#r:+=  
Ymr\8CG/  
ypA)G/;  
NX5NE2@^qH  
涂层倾斜光栅介质 F)Qj<6  
F?!  
_0c$SK  
mzoNXf:x  
涂层倾斜光栅介质 ja|XFs~  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 ?ybX&V  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 J`@#yHL  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 VN[i;4o:|  
g"&e*fF  
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M!E#T-)  
涂层倾斜光栅介质参数 eVx &S a  
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v  
J&jNONu?  
$h|rd+},  
涂层倾斜光栅介质参数 {Vj25Gt  
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$xsmF?Dsx5  
高级选项&信息 dS[="Set  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 %M_5C4&6  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 Q8sCI An{  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 NA`E
G,2  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 dPfDPb  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 gc6T`O-_;  
t<Z)D0.  
;"@FLq(n  
!agtgS$qII  
高级选项&信息 F< #!83*%  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 4{1.[##]o  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 x# &ZGFr~  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 yt-F2Z&  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 +^6v%z  
8(Y=MW;g  
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ZdJer6:Z}  
高级选项&信息 RL
;>1Q,H  
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高级选项&信息 Cq0S8Or0  
tR]1c  
H#joc0?P  
7 i|_PP_  
体光栅介质  9g*MBe:  
&Z^,-Y  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 ?+bDFM}  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 oVc l (  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 Q3vWwP;t~  
Qs*6wF  
Dl#%tYL+3h  
NNQro)Lpe  
体光栅介质参数 >Tm|}\qEb  
FB0y  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 ?=]*r>a3  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 Q.Kr;64G  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 mYudUn4Wo  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） g8{?;  
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4^KoHeM6  
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体光栅介质参数 jnK8 [och  
M-2:$;D  
oK GFDl]3  
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高级选项&信息 ]xhmM1$  
%KeQp W  
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高级选项&信息 .bOueB-  
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在探测器位置处的备注 {.N" 6P  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 Qhnz7/a9  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 c?0uv2*Yh  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 ]]s_ 8u3  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） "Yn<]Pa_  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 N b(f  
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文件信息 -#b-@sD  
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