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    [推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-10-10
    摘要 J`T1 88  
    /YbyMj*  
    光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 EK^B=)q6:W  
    nR7 usL  
    uaMf3HeYV  
    WxE4r  
    该用例展示了… SMr ]Gf.  
     在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: 289@O-  
    倾斜光栅介质 M <oy  
    体光栅介质 #On EQ:  
     如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 y$VYWcFE  
    (R _#lRaQ  
    r)P^CZm  
    _zG9.?'b3  
    光栅工具箱初始化 Yx21~:9}  
    ""[(e0oA  
    cTO\Vhg  
     初始化 W+[XNIg5   
    开始-> ew(CfW2  
    光栅-> lsV9-)yyl  
    通用光栅光路图 huTa Ei  
     注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 h)[{{JSf  
    光栅结构设置 ~n:dHK`  
     首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 j?&Rf,,%  
     在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 GY@-}p~it  
     堆栈可以固定到基底的一边或两边 4\)"Ih  
    adG=L9 "n  
     这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 _jV(Gv'  
    I#0WN  
    堆栈编辑器 hlPZTr=a  
    ].f28bY  
    ~7$E\w6  
    ;[*jLi,uc  
    堆栈编辑器 }cK<2J#  
    <eU28M?\  
    :DP%>H|  
    涂层倾斜光栅介质 `=A*ei5  
    k r0PL)$  
     在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 %vjLw`  
     这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 6iwIEb  
     在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 G1 ?."  
     在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) +*2wGAT  
    2c>eMfa  
    i)nb^  
    ng]jpdeA  
    涂层倾斜光栅介质 O) ks  
    G[4TT#  
    yc.Vm[!  
    t+'|&b][Qi  
    涂层倾斜光栅介质 @5n!t1(  
     堆栈周期允许控制整个配置的周期 {R[FwB^7wJ  
     该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 acuch  
     在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 S<"M5e  
    q\Cg2[nn2  
    x`@!hJc:[e  
    SFrQPdX6V  
    涂层倾斜光栅介质参数 2}Dd{kC-  
    G}aw{Vbg_  
    *vn^ W  
    LG6VeYe|\X  
    涂层倾斜光栅介质参数 NET?Ep  
    !w['@x.  
    IYm~pXg^0  
    /.<tC(  
    高级选项&信息 c"OBm#  
     在传输菜单中,多个高级选项可用 +g_+JLQ  
     传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 BZy&;P  
     可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 [%(}e1T(  
     这可能是有用的,如果考虑金属光栅 5~T`R~Uqb  
     相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 }Z T{  
    T9r"vw  
    `oP<mLxle  
    :34#z.O  
    高级选项&信息 ^R* _Q,o#  
     高级选项标签提供了结构分解的信息 L/1zG/@  
     层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 0z) 8i P  
     更多地,提供了关于层数和过渡点的信息  ,lX5-1H  
     分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 ugexkdgM  
    ji(W+tQ2Y'  
    &V7@ TZ  
    QjH;'OVt  
    高级选项&信息 70NQ9*AAy  
    r\7F}ZW/  
    yX%T-/XJ  
    c"BFkw  
    高级选项&信息 3V:{_~~  
    ~_WsjD0O  
    ;cQhs7m(9  
    d (Ufj|;  
    体光栅介质 ,i>u>YNZ  
    x2p}0N  
     另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 3R(GO.n=]  
     界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 Xd%c00"U  
     同时,两个平面界面作为介质的边界 CJB   
    ;xFx%^M}br  
    IXb]\ )  
    Z;kRQ  
    体光栅介质参数 X|+o4R?  
    n< UuVu  
     为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 p2T%Zl_  
     首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 cIqk=_]  
     其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 _DPWp,k<~  
     更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) n1OxT"tD  
    ;,T3C:S?  
    c$?(zt ;  
    VW^6qf/,  
    体光栅介质参数 N3?hyR<T  
    zfvMH"1  
     X._skq  
    A4RA5N/}  
    高级选项&信息 OiI[w8  
    D BDHe-1[+  
    _`yd"0 Ux  
    m~;fklX S  
    高级选项&信息 \7W>3  
    r[xj,eIb  
    %lVc7L2]  
    ? b;_T,S[  
    在探测器位置处的备注 r':wq   
     在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 'n`+R~Kkh  
     如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 RlH|G  
     然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 0* Ox>O>  
     因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) w,hl<=:(FB  
     这避免了这些干涉效应的不必要的影响 C!KxY/*Px  
    ^(<Ecdz(  
    [RtTi<F^  
    F?!P7 zW  
    文件信息 h LYy  
    `#O%ZZ+  
    O <;Au|>*  
    s Xyc _3N  
    *1F DK{  
    QQ:2987619807 zTtn`j$  
     
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