[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 1p#O(o  
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光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 x^_(gve:  
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`cYn#  
":t'}Eg=6  
4c"x&x|  
该用例展示了… <[9{Lg*D  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： 35/)
S@  
倾斜光栅介质 k)+2+hX&>  
体光栅介质 ZMs$C3  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 ,dhSc<:LT  
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l#!p?l  
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光栅工具箱初始化 L`>uO1O  
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IVz}  
 初始化 {Vy2uow0  
开始-> p BU,"Yy&  
光栅-> YKF5|;}  
通用光栅光路图 !?t#QDo  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 bDh,r!I  
光栅结构设置 e C\;n  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 f=0U&~  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 >s3H_X3F  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 G&i<&.i  
\4;}S&`k  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 )TNAgTmqK  
O6nCu  
堆栈编辑器 j<+QGd%  
sC ,[CN:b  
t?& a?6:J  
gmG M[c\  
堆栈编辑器 _M.7%k/U8  
KMFvi_8  
N%8O9Dp8;  
涂层倾斜光栅介质 ,^]yU?eU  
19.+"H  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 yk1.fxik'  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 (8bo"{zI  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 C'4gve 7!  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） Y", :u@R  
["N{6d&Q  
,Mt/*^|  
5i 56J1EC  
涂层倾斜光栅介质 !U}dYB:O  
NkWU5E!  
J!l/!Z>!cF  
h_O6Z2J1  
涂层倾斜光栅介质 %bs6Uy5g)a  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 aZK%?c  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 GR@jn]50  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 /5@4}m>Z@  
wWaO"N]  
kB41{Y -  
sn.Xvk%75  
涂层倾斜光栅介质参数 u 3&9R)J1  
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"?_r?~sJx  
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涂层倾斜光栅介质参数 HvhP9_MB  
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高级选项&信息 T
yc`U&  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 $@H]0<3,  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 Ni"M.O);t  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 #;l~Y}7'  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 >5,nB<  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 <$#;J>{WV  
}Xn5M&>?  
6gUcoDD  
hrLPyV:  
高级选项&信息 5.1 c#rL  
 高级选项标签提供了结构分解的信息  3+[R
!  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 Rh%c<</`0s  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 z%$,F9/  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 @"B"*z-d  
3bMQ[G  
}3{ x G+,  
v/\in'H~  
高级选项&信息 *)+K+J  
U9uy(KOW  
v61'fQ1Qg!  
az5 $.  
高级选项&信息 +W{ELdup%q  
&W'X3!Te  
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]!v:xjzT  
体光栅介质 ^#^\@jLm  
5*Wo
/%#q  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 G-vBJlt=t  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 jB"?iC.  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 s]tBd!~  
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zcn> 4E)  
a{oG[e   
体光栅介质参数 ;QRnZqSv  
QX1rnVzg0  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 U$-;^=;  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 F@+FXnz  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 G;^},%<  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） f{m,?[1C,  
WAzYnl'p  
]\fXy?2  
C`p)S`d  
体光栅介质参数 '+@q  
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V3^=Mj2"  
`7f><p/q  
高级选项&信息 o~ v   
(W=J3?hn  
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高级选项&信息 88K=jo))b  
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]8Eci^i  
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在探测器位置处的备注 R{GT? wl  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面
9;fyC=  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 47GL[ofY  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 sHt PO[h  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） fmDn1N-bG  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 F(yx/W>Br_  
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文件信息 E[z8;A^:0  
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