[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 GDo)6du
 
GM9]>"#o\  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 1eE]4Z4Q  
bOdsMlJkN  
;H m-,W  
~$y#(YbH  
该用例展示了… &|'Kut?8  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： xvdnEaWe$  
倾斜光栅介质 <M=W)2D7  
体光栅介质 )<}VP&:X  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 .=b +O~  
XqE55Jclp  
>PTu*6Z  
d 40'3]/{  
光栅工具箱初始化 T|BY00Sz`  
IJ #v"! D  
5Re`D|8
 
 初始化 \J3v>&m<7  
开始-> ys.!S.k+  
光栅-> %`s9yRk9>E  
通用光栅光路图 dp//p)B>  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 \fM!^  
光栅结构设置 V%
{9o  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 5EV8zf  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 e$/Zb`k  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 _,K>u6N&  
(7Ca\H3$  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 ,h^;~|GT  
Op$J"R  
堆栈编辑器 _!CvtUU0Vv  
,39$iHk  
.2(@jx,[  
`aX}.{.!  
堆栈编辑器 N?U&(@p  
cVP49r}}v  
0|DG\&?  
涂层倾斜光栅介质 2)I'5
?I  
7zP  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 U*qK*"k  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 9^Vx*KVrU  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 d,Dg"Z  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） S}xDB  
)Ido|!]0d  
\'^Z_6{w  
C)3$";$5)  
涂层倾斜光栅介质 2h? r![  
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|z<wPJ,;2  
7N~qg 7&  
涂层倾斜光栅介质 KJvJUq  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 G/RheH G  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 W%jX-  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 rbJ)RN^.  
tgF(=a]o  
OHtZ"^YG  

9jzLXym  
涂层倾斜光栅介质参数 S,<.!v57  
\tw#pk  
9:Z~}yX  
kV(DnZ#jq  
涂层倾斜光栅介质参数 ,LPFb6o  
RVKaqJ0e<  
u%IKM\  
pvwnza1  
高级选项&信息 PA-0FlV|  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 m{yNnJ3O  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 X9`C2fyVd  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 :~A1Ud4c  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 [@FeRIu8  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 WO*WAP)n  
nTtt$I@hW  
fN%5D z-e  
\g[f4xAV  
高级选项&信息 xY}j8~k  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 #pn AK  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 ZwrYss  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 [t=+$pf(-  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 ORPl^n-  
|`D5XRVbi  
0v)mgrl=,  
fD}]Mi:V  
高级选项&信息 _TcQ12H 5<  
om39;nk!}  
P:h4  
Ly/~N/<\  
高级选项&信息 mE@o
27  
_nFvM'`<  
r_<i*l.  
sL`D}_:  
体光栅介质 /Ta0}Y(y  
Ecl7=-y  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质
Jz8#88cY  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 ZC-ev
y  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 @DKl<F  
>33b@)  
<EN[s  
Uo)<_nG  
体光栅介质参数 `e;Sjf<  
;}9Ws6#XQs  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 cZF;f{t  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 QS?9&+JM|  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 &MLhCekY  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） lfhKZX
  
H9m2Whq  
8ewEdnE   
GT}#iM  
体光栅介质参数 soK_l|z:J  
U~@B%Msb L  
t"Rf67  
O.f3 (e!  
高级选项&信息 5*'N Q010  
a9JJuSRC  
UHszOl  
Uy'ZL(2  
高级选项&信息 EGO@`<"h  
d#,V^  
R,Uy3N  
I{U
B!0H  
在探测器位置处的备注 (:k`wh
&  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 QN5N hs  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 0`zq*OQ  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 BrmFwXLP"  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） j'b4Sbs-f  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 j0NPd^  
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R.$Y1=U6  
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文件信息 UsKn4Kh  
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Z'M@DY/fdK  
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QQ：2987619807 *#9kFz-