[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 q/[)mr|~  
qAU]}Et/  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 +5Mx0s(5  
Qcw/>LaL:  
H=dj\Br`  
Bg3^BOT  
该用例展示了… n4:WM+f4  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： [~J4:yDd=  
倾斜光栅介质 !vsUL-  
体光栅介质 1q*3
V8  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 x&;SLEM   
>Nov9<p  
(YR1ML3N  
-0W;b"]+A  
光栅工具箱初始化 CV`  I.  
<%!@cE+y  
qvT9d7x  
 初始化 shi#K<gVC  
开始-> / og'W j  
光栅-> uv@4/M`  
通用光栅光路图 2sXWeiJy;  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 EZ$m4:{e  
光栅结构设置 SDot0`s>  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 %9M_*]  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 ^@N@
gB  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 K(_n
fE{  
{RzlmDStV  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 b[/-lNrc  
UCl,sn  
堆栈编辑器 `=FfzL  
s Ce{V*ua  

\}cEHLq  
/{Nx%PqL  
堆栈编辑器 i |C'_gw`n  
Jo2:0<VL  
<%|2yPb]  
涂层倾斜光栅介质 3.8d"  
WT1ch0~2  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 E$RH+):|  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 -{ZRk[>Z  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 0{ \AP<  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） iLgWzA  
"*?^'(yA@  
JD,/oL.KA  
Iz V
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涂层倾斜光栅介质 =n9|r.\&uJ  
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5*~G7/hT  
Lg-Sxz}P!  
涂层倾斜光栅介质 oKzLt  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 JEj.D=@[  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 40mgB4I  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 @'dtlY5;  
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Im  
hbn2(e;FZ  

dZ_Hj X7  
涂层倾斜光栅介质参数 4R.rSsAH  
85-00m ~  
G9d@vu  
U }xRvNz  
涂层倾斜光栅介质参数 GXf"a3  
y1z4qSeM  
]Z6==+mCP  
<w<&,xM  
高级选项&信息 kbiMqiPG  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 jgbE@IA@!'  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 ~:v" TuuK  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 !Yd7&#s  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 XJ.b
K  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 &E0P`F,GQA  
Yq}(O<ol  
,~>A>J  
7ZqC1  
高级选项&信息 CB:G4VqOT  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 ZXlW_CGO  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 CWHTDao  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 :[A>O(  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 dJ#mk5= "  

73 ix4C  
z^'3f!:3   
|Q[[WHqj2f  
高级选项&信息 f+d
[Q1  
ha&2V=  
rzsAnLxo  
G&y< lh
 
高级选项&信息 Myvp PW  
W!MO}0s  
S&^i*R4]  
3+ JkV\AF  
体光栅介质 q&]I  
YEqZ((H  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 Q+YYj  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 o-H\vtOjE  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 _[
SW89zk  
gn4+$f~w  
*.qm+#8W  
Y- esD'MD  
体光栅介质参数 qy|[V   
^--kcTiR%  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 RzgA;ZC'  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 ]6#bp,  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 Vz[tgb]-  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） :QGgtTEV""  
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J$"3w,O6+U  
ny'?Hl'Q  
体光栅介质参数 AYb-
BaIc  
Q#M@!&  
^V,?n@c!  
p^J=*jm)x  
高级选项&信息 fXD9w1  
N=%4V  
;@/^hk{A  
#O<,  
高级选项&信息 U4s)3jDw  
|0^~S  
lFJDdf2:$C  
xs?Ska,N  
在探测器位置处的备注 MEKsL7  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 ,r_%p<lOFu  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 L"[2[p  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 JO[7_*s  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） |tn.ZEgw3~  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 WtS5i7:<Y  
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文件信息 z}.Q~4 f0D  
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QQ：2987619807 0)Nu