[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 ?`Oh]2n)6  
CVsc#=w0  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 {0fQ"))"  
cGw*edgp6  
|Ew\Tgo/2  
CqVh9M.ah  
该用例展示了… >r7{e:~q  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： c43"o  
倾斜光栅介质 ~%9ofXy  
体光栅介质 :%Dw3IrOM  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 ]9?_m@Ihx  
Y?Yix  
kI974:e42  
6g@@V=mf  
光栅工具箱初始化 >= Hcw  
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/i+8b(x  
 初始化 v>TI.;{y  
开始-> 3Q^@!hu  
光栅-> h5
Y3 v  
通用光栅光路图 ]p~QdUR(  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 iG*3S)  
光栅结构设置 y 1fl=i  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 T!o 4k  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 q2}<n'o+  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 IAbK]kA  
FJ3Xeos4|  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 EJYfk?(B  
{9KG06%+  
堆栈编辑器 jp2AU,Cl  
)J+vmY~&  
KYY~ YP  
Pg%O
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堆栈编辑器 8Z>ZjNG  
H"8+[.xBh  
4.bL>Y>c  
涂层倾斜光栅介质 Y
418k  
=)C}u6  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 (6p5Fo  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 >l
qWni  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 hQrO8T?2  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） GYot5iLg  
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涂层倾斜光栅介质 }2M2R}D  
$~4ZuV%  
{{M?+]p,^  
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涂层倾斜光栅介质 8%Zl;;W  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 0Ha1pqR  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 O&]Y.Z9,A  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 ^1U2&S  
u2'xM0nQ  
r7sPFM  
Dm6WSp1|b  
涂层倾斜光栅介质参数 N4"%!.Y  
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涂层倾斜光栅介质参数 &O(z|-&| x  
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高级选项&信息 >:5/V0;,  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 #X7fs5$&  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 sj003jeko  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 %VsuGA  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 |/zE(ePc{  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 iNf+ -C3  
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RH^8"%\  
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高级选项&信息 ro7\}O:I  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 {$4fRxj  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 9>d$a2nc  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 e4Ol:V  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 Ph2jj,K  
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$+zev$f  
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高级选项&信息 )Z0pU\  
n_sCZ6uXEQ  
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高级选项&信息 s$J0^8Q~i  
P-[6xu+]  
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f$9V_j-K+  
体光栅介质 K[PIw}V$?:  
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 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 4dv+RRpGOv  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 W1M<6T.{7  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 c&IIqT@Gb0  
_!H{\kU  
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[GZ%K`wx  
体光栅介质参数 LHKawEZ  
QRhR.:M\  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 N|?"=4Z?  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 "zL<:TQ"  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 ?8fa/e  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） ` *x;&.&v  
0Pu$1Fp  
q5YgKz?IC  
O8TAc]B  
体光栅介质参数 xRq|W4ay  
0sto9n3  
X0+$pJ60  
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高级选项&信息 6:i{_YX(.S  
J7/"8S_#N  
fmY=SqQG-  
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高级选项&信息 ihBlP\C  
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(S* T{OgO  
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在探测器位置处的备注 lhva|  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 rR&;2  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 Z\D!'FX  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 <
5rp$AzT  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） ?<b
Byxa  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 Eb{Zm<TP  
b=horvs/!  
Hly2{hokq  
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文件信息 yt}Ve6 m  
L,M=ogdb  
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QQ：2987619807 =<MSM\Rb