[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 IApT'QNM  
/@oLe[Mz$  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 [
xlIG}e9  
b{Zpux+  
Ao.\  
vZAv_8S)  
该用例展示了… B(5c9DI`  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： (/{aJV  
倾斜光栅介质  Lc2QXeo8  
体光栅介质 1Y/$,Oa5  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 9<1F[SS<s9  
9^ed-h Bf  
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R)8s  
光栅工具箱初始化 XEH}4;C'{  
kI\tqNJi  
x~DLW1I  
 初始化 PGn);Baq  
开始-> nHOr AD|&  
光栅-> =t0tK}Y+4  
通用光栅光路图 y-aRXF=W  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 ?A*Kg;IU  
光栅结构设置 oOU
1{[  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 DC4C$AyW r  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 :QQlI  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 5]Da{Wmgs  
\_]En43mg  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 ;iQEkn2T|}  
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J\rv'  
堆栈编辑器 3z =^(Y  
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udk.zk  
堆栈编辑器 ).412I  
Y}G_Z#-!  
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涂层倾斜光栅介质 g}xQ6rd  
S6i@"h5  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 ':h =*v8a  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 7:=k`yS,  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 S]/b\B.h+  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） 7{kP}?  
j6:7AH|!)2  
hlJpElYf  
wFS2P+e;X  
涂层倾斜光栅介质 P7 yq^|  
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R=)55qu  
涂层倾斜光栅介质 jQs>`P-CM  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 ,?cH"@RJ  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 6cS>bl  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 J1ON,&[J  
c@(&[/q!  
_ Y2 U7W  
@I3eK^#|P  
涂层倾斜光栅介质参数 ?V(^YFzZ  
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PA;6$vqX  
CON0E~"  
涂层倾斜光栅介质参数 1`bl&}6l|E  
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高级选项&信息 j+4H}XyE  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 R=j% S!  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 is^pgKX  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 !p"aAZT7sq  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 "hz\Z0zg2  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 %b2oiKSBx?  
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RD,5AShP  
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PN"oa#  
高级选项&信息 A=5epsB  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 ,zTb<g  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 KDP H6  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 CO+/.^s7}S  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 6=hk=2]f  
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VR{+f7:}  
h@{_duu  
高级选项&信息 [/M^[p  
O\KQl0*l\\  
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高级选项&信息 ./6<r OW  
p,g1eb|E  

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sW#JjtK  
体光栅介质 YGvUwj'2a  
13'vH]S$M  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 ^eYqll/U  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 w~R`D  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 Ter:sge7  
yF._*9Q3hK  
B?rSjdY4  
e-hjC6Q U  
体光栅介质参数 T'-FV  
Z;Rp+X  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 2S3lsp5!  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 R8ONcG  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 C#V ~Y  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） h0vob_Fdl  
3-n19[zk  
4674SzL  
S8Fmy1#  
体光栅介质参数 LA3<=R]  
Uh1NO&i.W  
3oZ=k]\  
qZEoiNH(Tj  
高级选项&信息 DaHZ{T8>d  
C#;jYBtT7?  
8e~|.wOL  
4M&`$Wim  
高级选项&信息 S/ywA9~3Q  
>kZ57,  
lS^(&<{  
FbnO/! $8  
在探测器位置处的备注 /2M.~3gQ  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 d@0Kr5_  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 5v\!]?(O;  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生  ,B<l  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） @Y,7'0U  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 |H}m4-+*  
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文件信息 }U w&Ny  
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