[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 ]K%D$x{+\  
g%d&>y?1r  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 pl.=u0 *  
R(HW0@R@w  
:w4I+*]  
JmVha!<
qk  
该用例展示了… 1I U*:Z;Rz  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如：  \4&FW|mx  
倾斜光栅介质 LWP&Si*j  
体光栅介质 DYCXzFAa  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 2@f E!  
 S?m4  
d*<goBd  
!_[^%7"S1  
光栅工具箱初始化 c
H$Sk  
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\J^|H@;(@  
 初始化 [es-&X07<  
开始->
>5-]Ur~  
光栅-> `!g XA.9Uv  
通用光栅光路图 !yX4#J(  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 Gnmxp%&}P|  
光栅结构设置 -%)8=  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度
?28aEX_w  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 (#k2S-5  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 (6\ H~  
y-CVyl  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 f<G:}I  
& pS5_x  
堆栈编辑器 kzb1iBe 6m  
Fh$Xcz~i  
cX/["AM  
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O\WKkA  
堆栈编辑器 O}_Z"y  
(s.S n(E  
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涂层倾斜光栅介质 D>Ph))QI  
ZX!u\O|w  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 g:nU&-x#R  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 UZ+FV;<  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 675x/0}GO  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） ,, G6L{&
Z  
D;al(q  
8"g.Z*  
)v67wn*1A  
涂层倾斜光栅介质 Lqv5"r7eV  
*xOrt)D=  
-*EK-j  
,&IBj6%Y  
涂层倾斜光栅介质 cEd!t6Z  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 V/G'{ q  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 43Yav+G(+  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 oA&V,r  
Dyj5a($9"{  
+)fl9>Mb  
0iX;%SPYz  
涂层倾斜光栅介质参数 4yH=dl4=44  
!s]LWCX+|  
aMFUJrXo
 
D`lTP(] y  
涂层倾斜光栅介质参数 5Qik{cWxBq  
rnVh ]xJ  
5"5D(  
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高级选项&信息 )-2o}KU]>  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 r c7"sIkV  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 wvm`JOP:A  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 $3sS&i<  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 u5EHzoq  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 d\dt}&S 5  
|wZ8O}O{E  
v3+\Aq   
3I?? K)Yl  
高级选项&信息 J8$G
-~MeJ  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 x(z[S$6Y\  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 m[C-/f^u|  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 lu(<(t,Lbs  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 0EYK3<k9!  
u|7d_3 ::  
5yO6szg  
Wr7^  
高级选项&信息 2@o_7w98  
tH<v1LEZN  
s,Cm}4L6  
n~l)7_G  
高级选项&信息 . oUaq|O  
#{GUu',?&  
Z^>[{|lIA  
A:1O:LB=!  
体光栅介质 N G1]!Vz5  
mk1;22o{TX  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 &eT)c<yhyK  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 hNXPm~O
K\  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 n\5` JNCb  
UHz*
Tfjb  
EW1L!3K  
3KfZI&g  
体光栅介质参数 r+0"1\f3  
-Xkdu?6Eh  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 2s;/*<WM  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 BUv;BzyV  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 L*9^-,  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） %L{H_;z  
dZRz'd  
Ywt_h;:  
|,5b[Y"Dt  
体光栅介质参数 q,2]]K7y  
BN@*CG  
%WCA?W0:4  
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高级选项&信息 0^|)[2m!  
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高级选项&信息 ?};}#%971  
g||{Qmr=1  
'@wYr|s4  
=+97VO(w]G  
在探测器位置处的备注 e6k}-<W*q  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 '+Dn~8Y+9  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 xzy7I6X  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 9">}@1k  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） 6 EE7<&  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 UMo=bs  
XY1NTo.=  
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文件信息 T^aEx.`O}`  
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QQ：2987619807 \)DP(wC