[推荐]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

摘要 1O!/g  
-\y-qHgb/  
光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 N~?{UOZd  
e.*%K!(  
nZ_v/?O  
`g_"GE  
该用例展示了… Yyfq  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： 1N\D5g3  
倾斜光栅介质 ~+H"
-+  
体光栅介质 .p ls!  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 "GQl~  
-3&G"hfK  
{0@&OO:w  
HJC(\\~  
光栅工具箱初始化 ?+t1M
E|  
ph}j[Co  
;ml 3  
 初始化 CAU0)=M  
开始-> `' 153M]  
光栅-> W{5:'9,  
通用光栅光路图 bpkwn<7
-  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 }%-t+Tf,  
光栅结构设置 ycJg%]F*5  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 gUAxyV  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 ~aXqU#8  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 E_1="&p  
$3d}"D  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 ;&b%Se@#p  
|3{&@7  
堆栈编辑器 6QNs\Ucb+  
>|o_wO  
T%F0B`  
>m'x8xB=  
堆栈编辑器 5y} v{Ijt  
oW$s xS  
3SBZ>  
涂层倾斜光栅介质 =pIy  
}4>JO""  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 46h@j
>/K  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 AY SSa 1}  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 ,&YTj>  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） 8yWoPm<A  
)ZejQ}$  
 %5  
kzq29S  
涂层倾斜光栅介质 jAND7&W  
a45ss7  
ibdO*E  
'ZQWYr9R  
涂层倾斜光栅介质 ?G08NR  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 zQH]s?v  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 lM#A3/=K  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 gcJF`H/iNK  
DP7C?}(  
plV7+?G  
Iia.k'N  
涂层倾斜光栅介质参数 h7;bclU  
uD["{?H  
*OdX u&5  
sl/)|~3!8  
涂层倾斜光栅介质参数 ^+R:MBK  
l#@&~f[  
1Xyp/X2rI  
137Xl>nO  
高级选项&信息 Z0
fJ9HW  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 Gqyue7;0,  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 ;t]|15]u  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 D22Lu;E  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 {6xPdUhw  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 ~H[%vdR  
RP(/x+V  
cCxi{a1uo  
>WM3|
 
高级选项&信息 `y
cU-m==  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 (Q-I8Y8l8  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 X^< >6|)  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 I}v]Zm9  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 hteOh#0{   
LxT rG)4  
2W3W/> 2h  
y,<$X.>QO|  
高级选项&信息 A1*4*  
ZM~`Gd9K0E  
9B)lGLL}q  
H/+{e,SW"  
高级选项&信息 Dw |3Z  
]0D9N"  
DMkhbo&+  
bZ#X9fT  
体光栅介质 >IR$e=5$  

B4O6>'  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 Q @2(aR  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 Y&,rTa  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 3#Y3Dz`  
lIuXo3  
j 0 Y  
6.Bh3p  
体光栅介质参数 vF>gU_gz.  
y
L
"i  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 j??tmo  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 m.V,I}J.q  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 \$;~74}  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） A1Q +0  
IT1PPm  
b~W)S/wF$P  
/Dw@d,&[  
体光栅介质参数 5.k}{{+  
/{DaPqRa  
n+quSF)  
2cjEex:&  
高级选项&信息 vOgLEN&]  
CT}' ")Bm  
*mV&K\_  
{NeWdC  
高级选项&信息 a`38db(z  
6_U|(f  
zKJ.Tj W  
6{7 3p@  
在探测器位置处的备注 gUGOHd(A  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 -]QguZE  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 !~d'{sy6  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 E{gv,cUM  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） {{E jMBg{  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 ( 2zeG`  
`Z8^+AMc  
tE:X,Lt[  
tzNaw %\  
文件信息 RH=$h! 5  
ss; 5C:*y  
=z-5  
(H[  
M1(9A>|nF  
QQ：2987619807 %|jzEBz@