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摘要 yjCY2T E Hbogi1!al| VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 3md yY\+& [\N,ow,n
@}@`lv65} #"|Y"#@k 介质目录中的斜光栅介质 (1e;7sNG@ 5=CLR
12)~PIaF ,ry2J,IT7 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 =IBdnEz:M 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 dP0!?J Y }N;c 斜光栅介质的编辑对话框 r1:S8RT;H5 G
hH0-g{-
`o(PcX3/} CL/8p; 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 ,sPsL9]$ 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 xQs2) 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 k1y&'3% 斜光栅介质的编辑对话框 [.tqgU Zcd!y9]#
(n7v $A GCul6,w 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 T1m097 以下参数可用: "El$Sat` - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) _$/(l4\T[ - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) k^I4z^O=-; - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) (1\!6 - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) u>:sXm H~RWM'_ 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 N(mhgC<O aE.T%xR 斜光栅介质的编辑对话框 ehj&A+Ip K9
5}gcJjz #9z\Wblr 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 UMUr"-l = 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 2vWJ|&|p h$|K vS 斜光栅介质的编辑对话框 p"ht|x Uj}iMw, e#L/ ~$w-I\Q! l<)(iU 首先,必须选择涂层材料。 l i}4d+ 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 S:{hgi,T* 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 #
4`*`)% zllY$V&<! 斜光栅的编辑对话框 ~=(?Z2UDA_ "
M8j?
?1}1uJMj- }K9Vr! 2-nL2f!a{p 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 `Q6@,-(3 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 2Xk(3J!!'a u$x HiD 堆栈使用的评论 dsqqq,>Q 4%2QF F@
)K>XLaG) h";G vjy a?E]-Zf 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 Lhu2;F\/ 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 ZN5\lon|Y 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 *\m
53mb 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 vjaIFyj 2qKo|'gL` 斜光栅介质的采样配置 <I'kJ{" !cT#G 斜光栅介质采样 NS6Bi3~ fHYEK~!C04 Z'<=06 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 "t~I;%$[ 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 |332G64K 在右边,显示了介质的预览。 V^nYG$si 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 ;Avd$&:: 2#C!40j&\
]oP2T:A }Y[Z`w 采样斜光栅#1 ,7SLc+ g1muT.W]S
J7t5B}} R+8+L|\wHv 采样斜光栅#2 bmhvC9 RfDIwkpp
6G7B&"& qfvd(w 采样斜光栅#3 a kgXI^K oP5G*AFUq QkZT%!7 uNl<=1 采样斜光栅#4 ~el#pf~ p9XHYf72 )QaI{ z UF=5k~7<b 文档信息 I(P|`" W!.UMmw`
HD ?z R}Uvi9? PV(bJ7&R QQ:2987619807 Hx2UDHF
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