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摘要 a^ys7UV [xQ.qZ[h& VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 C~'.3Q6 3(gOF&Uf9 s
OLjT34 25r3[gX9` 介质目录中的斜光栅介质 J3B+WD] .ud&$-[a N9M",(WTt} rFUd 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 zAev@+.ld 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 :bL^S1et WM4,\$ 斜光栅介质的编辑对话框 Xg\unUHa %?F$3YN, 6&L;Sw#Dg $vn)(zn+ 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 y{~tMpo< 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 6E(..fo:" 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 ] ;HCt=I~ 斜光栅介质的编辑对话框 VW;E14 +Fh,!` y(E<MRd8V =H}x 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 q-,`\
TS 以下参数可用: NS;LFeGD - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) g_?Q3 - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) bQPO'S4 - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) 09{ s' - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) i9`-a/ ][YuJUK8 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 7{9M
^.} \((5Sd 斜光栅介质的编辑对话框 B(O6qWsL FPPl^ -8dz`o} ml!c0< 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 &5G@YQD1e 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 AVfF<E/ ->7zVAX 斜光栅介质的编辑对话框 A]drNFE fvV"H{V, %|>D{q6C xD sKb_ /s+S\
djk 首先,必须选择涂层材料。 #B#xSmak 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 sD&V_
&i 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 'tU \~3k C}DIm&)) 斜光栅的编辑对话框 xr7M#n Z`zLrXPD) z2!4w +2 wm9wnAy %?[0G,JG 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 /FC(d5I 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 TmM~uc7mj 7r.~L 堆栈使用的评论 r:4]:NKCi DF
gM7if "/2kf)l{4 L{&=SR. :uC9 #H"b 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 K8_\U0 K 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 Xs'qwL~{` 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 FN (O 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 #hMkajG u`Y~r<?P( 斜光栅介质的采样配置 ELG9ts+5Uj BMV\@Sg 斜光栅介质采样 )|AxQPd vF>]9sMv
C?'s 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 AN|f:259 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 joZd 在右边,显示了介质的预览。 S_RP&+!7 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 U3 UA /^bU8E&^M >J_P[v ya,-Lt 采样斜光栅#1 j'hWhLax J8Vzf$t}; ?32i1F! T7O) 采样斜光栅#2 } j;es(~D Nw-U*y _#{qDG= ^=PY6! iW 采样斜光栅#3 dxtG3 +4rd
N\. % I2JS zAJC-YC6 采样斜光栅#4 02T'B&&~ $+Z2q<UT 6E^9> V)ag ss w? 文档信息 FP*kA_z$ &F Yv4J ^uVPN1}b^@ V{x[^+w7X~ _5$L`& QQ:2987619807 i*A_Po
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