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摘要 hj8S".A_ Qd{h3K^hlu VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 *Dz<Pi^ bnm3
cR:h" ZeL v! 3
zF"GT 介质目录中的斜光栅介质 e%B;8)7 P ]prrKZe, ssWSY(j] jP{W|9@( 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 T##_?=22I 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 _(TYR* t$*V*gK{ 斜光栅介质的编辑对话框 ^T{ww=/v 1z#0CX}Y/H TqZ&X|G M.[A%_|P 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 %. zcE@7* 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 cc$L56q 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 :'t+*{ff 斜光栅介质的编辑对话框 bSKe@4C GOzV# ,^>WCG 1Ar6hA 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 ,)CRozC\}K 以下参数可用: Hy_}e" - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) !alO,P%>r - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) RyJN=;5p - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) /=|5YxY - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) gk*Md+ )]^xy&:| 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 (Vvs:h%H us:V\V 斜光栅介质的编辑对话框 dp&bcR) =,UuQJ,l B!#F!Wk" W$l%= / 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 Y?^1=9?6 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 ZgXn8O[a l5 FM>q 斜光栅介质的编辑对话框 JLZ[sWP=' RyxEZ7dC<y T\Zq/Z\ y'a(>s( @
k`^Z5tN 首先,必须选择涂层材料。 :=<0Z1S 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 "n4' \ig 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 :N3'$M" +Y:L4` 斜光栅的编辑对话框 r%QnV0L^ sbZ^BFqp Tt0:rQ. CUS^j <Bmqox0 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 }iK_7g`yKa 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 ,sM>{NK9R |H,g}XWMU 堆栈使用的评论 E2PMcT{)_ 9O%4x"*PO Hko(@z _>/T<Db V?k"BU 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 /eoS$q 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 zW@OSKq4 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 CD]2a@j{ 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 d^&F%)AT e|L$e0 斜光栅介质的采样配置 )>! IY Q I3 %P_oW' 斜光栅介质采样 'k9?n)<DW Lnk!zj is3nLm( 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 e<wRA[" 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 %7_c|G1 在右边,显示了介质的预览。 gAx8r-` ` 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 i>Cxi ZT S+i .@N.^ ^GXy:S$ a=55bEn 采样斜光栅#1 xr2ew%&o u#+p6%?k [":[\D' a?+Ni|+ 采样斜光栅#2 A~vZ}?*M MuQBn7F{c iw Hy!Vi-5 sFEkxZi< 采样斜光栅#3 cI)XXb4 [\h k_(} XsldbN^6 ^J8sR4p# 采样斜光栅#4 C +-< Oc;/'d2 XFeeNcqF )P^5L<q>| 文档信息 W#<&(s4 w"CcWng1 E)Z$7;N0x 5XNIX)H &FWPb# QQ:2987619807 o W)M&$oS
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