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摘要 {KeHqM}e lr +Kwve VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 7Q0M3m }!Qo
wG /B|#GJ\\3 un W{ZfEC 介质目录中的斜光栅介质 +3si=x\=/ WYRTt2(+% y"cK@sOo gLl?e8[F 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 g}ciG!0 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 q&jZmr D<L]' 斜光栅介质的编辑对话框 xb8fV*RO8A O5Yk=-_m /:ma}qGy %+gze|J 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 eU@yw1N 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。 =bN[TD 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 o$d; Y2K 斜光栅介质的编辑对话框 %lv2 ;- w]tv<U={ n_$lRX5 [xO^\oQa=c 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 f@\
k_ 以下参数可用: Z>o;Yf[ - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) ~K:#a$!%, - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) =c-j4xna> - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) *r:8=^C7S - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) 4%\L8: 1'c!9 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 T6OIb n@T4z.*~lA 斜光栅介质的编辑对话框 6by5VESx Yx(?KN7V? OjJlGEl w */nb%QV 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 q$:T<mFK$ 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 $o/?R]h nt "VH5 斜光栅介质的编辑对话框 6/nhz6= ZS >}NN ;o%r{:lng `u %//m_( {n$9o 首先,必须选择涂层材料。 "E/F{6NH 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 ecA0z
c~ 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 +c}fDrr) -H Zvz[u 斜光栅的编辑对话框 C<qJnB:B9 \w^U<_zq ^YenS6`F TeHL=\L-^ f*W<N06EZ 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 )3h=V^rm 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 7S2Bm]fP d?b2jZ$r] 堆栈使用的评论 p8Lb*7W [g&Q_+,j `hM]5;0 =]-! ?
Ew>'(Q 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 <^n9?[m* 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 ;P5\EJo 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 VIAj]Ul 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 cg1 < Pa0tf: 斜光栅介质的采样配置 1i bQ'bZ ;`X -.45 斜光栅介质采样 aJI>qk h?] &Vnet7LfU {YK6IgEsJe 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 2}~1poyi> 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 UupQ*,dJ 在右边,显示了介质的预览。 u"X8(\pOn 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 [A*vl9= Zm&Zz^s [gIStKe 3"I 1'+ 采样斜光栅#1 zr8 4%_^ +;FF0_
pfZn<n5p 6NJ La|&n 采样斜光栅#2 .?!{. D ik7#Og~3 MI',E?#yB yq6!8OkF 采样斜光栅#3 s![=F}ck ={={W XRP/E_4 5XFhjVmEL 采样斜光栅#4 c?jjY4u LO#{ cpu+"/\ *Vv ;NA/ 文档信息 *J1pxZ^ 6K?+ad Klc rUx%2O|qu 8'`&f& zx=A3I%7 A QQ:2987619807 Gp32\^H|<
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