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摘要 ~De"? [8.c8-lZ^ VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。 '@cANGg7[ wc0jhHZO
? $CxKuB( teOe#* 介质目录中的斜光栅介质 <m!h&_eg -<c=US j>*S5y.{ 6h>wt-tRC 内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。 K#l:wH_ 可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。 @:;)~V d4m=0G` 斜光栅介质的编辑对话框 q?,).x
nN W$QcDp]#p} G
!<Z.] qBU-~"2t 斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。 ZufR{^W 首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。
,ZKr.`B 这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。 h&|[eZt?F 斜光栅介质的编辑对话框 2{M^,=^> PvR6
z0 7wWFr 7@C<oy_bb 在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。 rJd,Rdt. 以下参数可用: u=Fv2 - 填充率(定义光栅的上部分和下部分) IWBX'|}K - z扩展(沿着z方向测量光栅高度) *EI6dD" - 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角) MtM%{=&_ - 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角) iy6On,UL TvwZW!@jc 如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。 ioaU*% ~)*,S^k(C. 斜光栅介质的编辑对话框 Pl(Q,e7O] @<<<C?CTv ^m
L@e'r ;1#H62Z* 为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。 6~OoFm5 现在,额外的选项和结构的图形一起显示。 g6nkZyw p$SX 斜光栅介质的编辑对话框 X#d~zk[r2 5&xB6|k 5NBV[EP c~6>1w7SZ4 01[NX? qEa 首先,必须选择涂层材料。 z,|r*\dw 同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。 -\+s#kE: 接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。 CF&NFSti^ YTAmgkF\4 斜光栅的编辑对话框 ;V@WtZv :WQ^j!9' tM2)k+fg +nUy,S?43 Kfm5i Q 由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。 z+
s6)Ad 由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。 hZ[E7=NTQ^ Yaj0;Lo[wt 堆栈使用的评论 0fc/wfv< c/Qt Ot "ZHW2l Mf Cv
}Qwy yphS'AG 为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。 a5 *2h{i 一般来说,界面之间的距离必须手动设置。 UU'|Xz9~ 对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。 jATI&oX 因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。 iM2W] 9F6F~::l} 斜光栅介质的采样配置 ]FD'5p{ +U_=*"@| 斜光栅介质采样 El<]b7 V7#Ff i >tTj[cMJl 接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。 7:Ax(El 在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。 u83J@nDQ 在右边,显示了介质的预览。 dlU'2Cl7d 介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。 _C.BFE_p hbU+Usx -<Hu!V`+ [FK<96.nt 采样斜光栅#1 ~jK{ ,$:= )=\#UE+W Y^36>1.: 79nG|Yj|\ 采样斜光栅#2 ;?W|#*=R aqYa{hXio >*@y8u* f?oa" 采样斜光栅#3 RZ6xdq}> R E}?5XHb ;WgJ<&33 ub7zA!% 采样斜光栅#4 DKfE.p) *"WDb|PBb cKN$ =gd |_}2f 文档信息 Kh(ZU^{n D,;\o7V !E,A7s mK[)mC
_8 994`ua+ QQ:2987619807 M(RZ/x
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