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摘要 }Q_IqI[7 i_ws*7B< 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 |Hg )!5EJ y
%Get bTZ/$7pp9 建模任务 x|*v(,7b]! E&V"z^qs_ ,(Fo%.j 结果 a`(6hL3IT @& #df $s.:wc^ 结果 v=nq P{ !> b>"\b w[\*\'Vm0 结果 'vj45b le yhiL< o!L1Qrh 文件信息 ,eOOV@3C /A\'_a| 3B/ GcltfM
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