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摘要 dRyK'Xr w*r.QzCu,5 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 WS@b3zzN 'MPt K g>x2[//pk 建模任务 EXg\a#4[' X%xX3e' "-kb=fY 结果 ,)XT;iGQe h{S';/=8 'Zf_/y 结果 *I`, L/ 4aGV1u+4 R>Fie5? 结果 *@lNL=%R w`,[w,t QP)-O*+AA 文件信息 1b
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