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摘要 ")7,ZN; %>'2E!% 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 _#9:cH* k%#`{#ni _GK^ 7}u 建模任务 -i|qk`Y m`
cw: N]: "3?% 结果 hb9X<N+p 94%gg0azp Rk^Fasg" 结果 5bFE;Y;
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