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摘要 Pk^V6- p+Fh9N<F9 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 QPW+L*2
WDh*8!) QS<)* 建模任务 GX N:= 1Ch0O__2L qcfg 55]'c 结果 }LX.gm cLIeo{H .FvIT]k- 结果 fKa]F`p_h ]gVW&3ZW muKjeg'b 结果 F#|mN0op 8[IR;gZf ^;;gPhhWV 文件信息 tA-p!#V<k1 T>m|C}yy dEfP272M
QQ:2987619807
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