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摘要 ;;l( Dq2eX;c@ 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 rD$7; YWq[)F@0G i1aS2gFi_ 建模任务
QW6k!ms$ BKvF,f/g 8h AI l 结果 *jA%.F ZMx_J *bv
Iqa 结果 39~fP) ;'J L$= a-%^!pN\M 结果 WNL3+ Pfd FB *+@/:$|U 文件信息 ~@got RJtSHiM2 ?cg+RNI
QQ:2987619807
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