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摘要 Q|gw\.]$&[ /~8<;N>,+ 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 `:aml+ {6y@;Fd WxLmzSz{xD 建模任务 FnZMW, P Hm>7|! tom1u>1n 结果 C >@T+xOZ )s#NQ.T[ wsfN \6e 结果 ;0Vyim)S] B}:/2?gQ 6~oo.6bA 结果 $]
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