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摘要 Y'x+!&H =\x(Rs3 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 8'VcaU7Nh HhT6gJWrU dJ=z'?|%g 建模任务 `>\>'V<& ?`=r@ lm(k[]@ 结果 9Z. WR-} 5H/D~hr& w7Vl,pN, 结果 u\ }"l2 r kSU]~x Qg
gx: 结果 cp3O$S Yi#U~ h
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\n 文件信息 G>j4b}e sEEyN3 N >WYradLUi
QQ:2987619807
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