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摘要 /^':5"=o HG&rE3@ 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 `|e3OCU c4iGtW b$N&sZ 建模任务 O[^u<*fi{ mH9_HK.C L)3JTNiB 结果 HB9|AQ4K L~HL*~#d
Qn`Fq,uvL 结果 Yl"l|2
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QQ:2987619807
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