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摘要 pQCW6X T
mH5+ 在半导体产业中,晶片检测系统用于检查晶片上的缺陷并找到它们的位置。为保证微结构的图像解析度,检测系统常使用一个高NA的物镜,工作在紫外波长范围。作为一个例子,模拟了一个完整的晶片检测系统,包括高NA聚焦效应和光与微结构的互作用,并演示了图像的形成。 +qa^K%K 5BM rn0 Zu ![v0 建模任务 |zp}u (N 70A* !v &*qAB)** 结果
{u$<-W-& Pu2cU5n {%v{iE> 结果 {G-y7y+E LV]F?O[K= 9d+z?J: 结果 1{CVd m<9 t|59/R -aM7>YR 文件信息 BK foeN)% #PMi6q~Z :
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QQ:2987619807
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