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摘要 :9q|<[Y^ B4c;/W- 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 jd"YaZOQ 9I#a{%A: 5g'aNkF6> 概述 hu}uc&N)iE y.gNjc Ly1t'{"7 •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 5l(@p7_+ •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 |="Y3}a •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 h^w# I !HW?/-\,O
QYAt)Ik9q \9sJ`,T? 衍射级次的效率和偏振 *Ct
^jU7 EU Oa8Z MQy,[y7I •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 b=L|GV@$ •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 /"R{1 •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 =~dXP •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 fq):'E) •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 4s <ZKU
3XUsw1,[ N~(?g7 光栅结构参数 /$FpceB!W 7L]Y.7> 8lCo\T5" •此处探讨的是矩形光栅结构。 H4M`^r@)' •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 F7=&CW 0 •因此,选择以下光栅参数: #,!/Cnqis - 光栅周期:250 nm 7Fb!;W#X - 填充系数:0.5 Q[aBxy
( - 光栅高度:200 nm G?:5L0g - 材料n1:熔融石英 Xupwh5G2 - 材料n2:TiO2(来自目录) =feVT2* <bywi2]z WxtB:7J }|c-i.0= 偏振状态分析 :ee'|c 0F&(}`V quq !Jswn •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 `mN5s q •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 'puiahA •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 #!4
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F'bQV U{9yfy 产生的极化状态 pJ@->V_ 5d)\Z0s
buMST& O[9A} g2~ M,DwBEF? 其他例子 okbW. ~ ]sB%j@G KU.F4I8}q •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 g6.Tx]?b$ •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 /@LUD= "^VPe[lA }eLth0d`'o [|L~" BB 光栅结构参数 E*}1_,q) e:n3@T,R [-3x *?Ju •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 Ve[&_(fP •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 XhJYs q]]J •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 5VE9DTE •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 :g)`V4%
2nB{oF-Z 6"GHVFB 光栅#1 -JXCO<~k }h9f(ZyJn
BPypjS0?8 \7*"M y* cGv`% •仅考虑此光栅。 p+xjYU4^C •假设侧壁表现出线性斜率。 j\uPOn8k •蚀刻不足的部分基板被忽略了。
g6;a2 •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 XWf1c ~J A04E <nr lXu6=r 假设光栅参数: z_t%n<OvK •光栅周期:250 nm rL6Y4u0e% •光栅高度:660 nm -D^v:aC •填充系数:0.75(底部) |SwW*C •侧壁角度:±6° - ]U2G: •n1:1.46 rSNaflYAr •n2:2.08 4+B
OS ~ 4cJka~ 光栅#1结果 s)7sgP T1YbF/M' )'axJ •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 ^wb$wtL(' •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 PsyXt5Dk •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 m4'x>Z }x?2 txuu =.t3|5U8 pLsWy&G 光栅#2 [Qn$i/`J Ydh+iLjhx
h0zv@,u Tu}?Q.pKo yMK VF`D* •同样,只考虑此光栅。 i-`J+8|d •假设光栅有一个矩形的形状。 ]E}eM@xdD •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 l]Q<BV 假设光栅参数: Kb*X2#;* •光栅周期:250 nm Ag0)> PD^ •光栅高度:490 nm )~ghb"K •填充因子:0.5 .v_-V?7 •n1:1.46 75*q^ui •n2:2.08 QK(w2` Ec l/2 光栅#2结果 \EQCR[7qu7 05Y4=7,! ;.&k zzvJ •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 EOzw&M];r •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 6"u"B-cz •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 .dTXC' |,WP)
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