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    [推荐]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-09-01
    摘要 "QS7?=>*F  
    6~>k]G  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 '%N)(S`O7P  
    R 0}%   
    kM`#U *j  
    概述 !&[4T#c  
    q3`t0eLZ  
    >k|[U[@  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 e.V){}{V  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 {A UEVt  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 H #_Z6J  
    ,-)1)R\.  
    %>TdTt  
    $ cSZX#\  
    衍射级次的效率和偏振
    2l?J9c}Wo  
    @4$E.q<0  
    %R"Fx$tQ  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 fZ$2bI=  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 t/|^Nt@XT  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 y e'5 A   
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 46~ug5gV  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 .U_=LV]C  
    ^ a:F*<D  
    qv\yQ&pj  
    光栅结构参数 p<4':s;*  
    *Y Ox`z!R  
    whCv9)x  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 v0=~PN~E  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 1 <+^$QL  
    •因此,选择以下光栅参数: odDt.gQXU  
    - 光栅周期:250 nm 5S LF1u;  
    - 填充系数:0.5 JK4  @  
    - 光栅高度:200 nm 4hIC&W~f  
    - 材料n1:熔融石英 #x21e }Li  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) GCHssw~P'v  
    K4BMa]/U  
    -|mABHjx*  
    x% 1Rp[  
    偏振状态分析 ]7;;uhn`  
    |UG)*t/  
    yrw!b\  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 Jp- hFD  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 Vs >1%$If  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 &3<]FK  
    /NZ R|  
    x>cu<,e$d\  
    8J} J;Ga  
    产生的极化状态 1Q<a+ l  
    *"@P2F&  
    d9s"y?8  
    zx27aZ[  
    _N6GV$Q  
    其他例子 ",a fv{C  
    M5]w U   
    -UO$$)Q  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 2.yzR DfZ  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 5s;#C/ZZ  
    Ne%X:h  
    Jy9&=Qh   
    _>s.V`N'  
    光栅结构参数 fOfp.`n  
    g(1'i1  
    y^ohns5{  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 Y3?kj@T`i  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 ; ?!sU  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 5@Sb[za  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 J{H475GqiT  
    q07>FW R  
    IcB>Hg5  
    光栅#1 7r>^_aW  
    a.P^+h  
    >a,w8^7  
    AWw:N6\  
    .$Y[>9  
    •仅考虑此光栅。 1z)+P1nH]  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 xe d$z  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 X:YxsZQ 5Y  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 bbz86]AhY  
    m|!sY[!  
    I)clGMS,  
    假设光栅参数: 1!~9%=%  
    •光栅周期:250 nm grZN.zTO  
    •光栅高度:660 nm xaPTTa  
    •填充系数:0.75(底部) BP`UB  
    •侧壁角度:±6° d%WFgf}  
    •n1:1.46 mWZV O,t$  
    •n2:2.08 K~uoZ~_gA  
    bp }~{]:b  
    光栅#1结果 fSj^/>  
    ~`y6YIJ3  
    56fcifXz@  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 gX[6WB"p  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 lm$T`:c  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    &`@K/Nf$9  
    a}6Wo=  
    \hg12],#:@  
    (u *-(  
    光栅#2 ^s^X nQhE  
    #U^@)g6  
    `Do-!G+W  
    HH^eEh4g  
    lE4.O  
    •同样,只考虑此光栅。 h 9No'!'!  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 \MnlRBUM,  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 f)>=.sp  
    假设光栅参数: DEs/?JZG  
    •光栅周期:250 nm (%tKGeb  
    •光栅高度:490 nm f"z96{zo  
    •填充因子:0.5 Nx~8]h1(  
    •n1:1.46 =YR/|9(  
    •n2:2.08
    leiP/D6s  
    O>UR\l|+:2  
    光栅#2结果 <Dl7|M  
    0Y{A  
    WUKYwA/t  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 O3Yv ->#  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 60Y&)UR  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 QD<f) JZK  
    JBp^@j{_  
    OXI.>9  
    文件信息 '(;`t1V8k  
    Ig~lD>dnr'  
    b3W@{je  
    c{z QX0  
    phd,Jg[  
    QQ:2987619807 NeQ/#[~g  
     
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