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摘要 p,K!'\ B0$ge"FK9 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 S pIdw0 k@}g?X`8 *|Bt! 概述 RGe2N| B2T=O % U^
;H{S •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 ;Q\MH t* •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 "|nh=!L •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 ^E]y >Y wq:"/2p1
/zg|I?$>Z4 a?1Ml>R6P 衍射级次的效率和偏振 X|4_}b> x 0 HPqoen$ D]'/5]~z< •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 WY$c^av< •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 Jk}Dj0o •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 GZzBATx •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 ]=vRjw •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 TxP8&!d
3A!Qu$r9 jg\FD51$ 光栅结构参数 =`E{QCW ;5&=I|xqe "@(Sw>*o •此处探讨的是矩形光栅结构。 +j(7.6ia •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 i%n9RuULh •因此,选择以下光栅参数: RYZM_@5$t - 光栅周期:250 nm jL,P )TC - 填充系数:0.5 %`\=qSf* - 光栅高度:200 nm yn|U<Hxl~H - 材料n1:熔融石英 5bo')^xa - 材料n2:TiO2(来自目录) qQp;i{X Jxsch\ BPd *@l "5@\"L 偏振状态分析 ub9,Wd"^ ")i_{C,b^ (w1$m8`= •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 j^m x , •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 &~V6g(9 •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 +o|I@7f gt\*9P
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W.nr&yiQ 产生的极化状态 V6kJoSyde UO4z~
-+fW/Uo Jvr`9<`
[7Liken 其他例子 WSqo\] 6kHuKxY, J[al4e^ •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 F4$9r^21r •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 $fAZ^ P~h0Ul p9[gG\ L0>7v 光栅结构参数 -cgMf\YF ( "wmc"qH qlC4&82=Q •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 g3TqTs •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 \kP1 Jr •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 m[<z/D •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 q0KGI/5s4+
g9AA)Ykp .5!Q( 光栅#1 >6gduD!6I 1AQ3<
AZva eE" *c>I =8AL>:_ •仅考虑此光栅。 8qwPk4 •假设侧壁表现出线性斜率。 +pxtar •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 )j}v3@EM5 •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 Nt~G
{m 8gJg7RxL $k^&
X
` 假设光栅参数: ^&\<[\ •光栅周期:250 nm ~ep^S^V+ •光栅高度:660 nm ?i$MinK •填充系数:0.75(底部) zU";\); •侧壁角度:±6° <G#Q f|& •n1:1.46 /2Bf6 •n2:2.08 uOJso2Mx 3u oIYY 光栅#1结果 T1c&3 3w8v.J8q V3$zlzSm, •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 ~vKDB$2 •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 b
q8nV •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 X4/3vY VKu|=m2vB ?'U@oz8 B \Wb3JQ) 光栅#2 __i))2 (t"e#b(:
G& @_,y| K<p)-q 1 Ay.^f •同样,只考虑此光栅。 {;3a^K •假设光栅有一个矩形的形状。 &"=<w •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 8r.3t\o)X 假设光栅参数: CJt(c,!z •光栅周期:250 nm 86W.z6 •光栅高度:490 nm 6A-nhvDP •填充因子:0.5 "LM[WcDX •n1:1.46 iz2;xa* •n2:2.08 'h>CgR^NM1 J )UCy;Y 光栅#2结果 K}tC8D ?S'Wd= !wIrI/P7# •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 MZ_dI"J, •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 KA
elq* •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 e84O
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