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    [推荐]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-09-01
    摘要 +S!gS|8P  
    u(W%snl  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 .qBL.b_`  
    o&tETJ5Bhe  
    |)4Fe/!cJ  
    概述 {%Mt-Gm'd  
    iwJeV J  
    &_mOw.  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 3<:(Eda}  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 >s3H_X3F  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 G&i<&.i  
    \4;}S&`k  
    )TNAgTmqK  
    O6nCu  
    衍射级次的效率和偏振
    u,]?_bK)  
    2)O-EAn  
    Kh{C$b  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 ,Jqi J?,4C  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 _M.7%k/U8  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 fB~BVYi  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 Ja$Ple*XU8  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 ~j}7Fre  
    n}NO"eF>-s  
    d@o1< Q  
    光栅结构参数 I$Z8]&m  
    udCum4  
    ,Mt/*^|  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 ~`7L\'fs  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 mIJYe&t7)  
    •因此,选择以下光栅参数: x. d ;7  
    - 光栅周期:250 nm :a YbP,mE  
    - 填充系数:0.5 Ns^[Hb[b'  
    - 光栅高度:200 nm wWaO"N]  
    - 材料n1:熔融石英 Qfx:}zk{  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) u 3&9R)J1  
    KHK|Zu#k '  
    9NX/OctFa'  
    tvh)N{j  
    偏振状态分析 ?V3kIb  
    }E?{M~"<  
    Kwc~\k  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 8KQD w:  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 }jF67c->  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 e!+_U C  
    IF"-{@  
    :%&~/@B  
    /eZ UAxq  
    产生的极化状态 n*7Ytz3#'  
    ;QVX'?  
    Gag=GHG  
    .i^aYbB$X  
    U _QCe+  
    其他例子 %hEhZW{:  
    JqX+vRY;dd  
    F\Qukn  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 !F@9xG  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 t-, =sV  
    *b< a@  
    ]`p*ZTr)\  
    Us5P?}  
    光栅结构参数 AD_aI %7  
    V(-=@UW  
    4T]n64Yid  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 d&z^u.SY  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 g\Ck!KJ/y  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 3%"r%:fQB/  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 }]i re2j8  
     4[\[Ho  
     BKiyog  
    光栅#1 OPYl#3I  
    =wd=TX/  
    @zz4,,]  
    GIo7- 6kvm  
    ,5tW|=0@  
    •仅考虑此光栅。 ,-55*Rbi  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 H <gC{:S  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 8&gr}r- 5  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 @k"Q e&BQ  
    xEX"pd  
    g~>g])  
    假设光栅参数: U$-;^=;  
    •光栅周期:250 nm F@+FXnz  
    •光栅高度:660 nm L)0j&  
    •填充系数:0.75(底部) **].d;~[l  
    •侧壁角度:±6° )#NT*@j`  
    •n1:1.46 |H!kU.f]  
    •n2:2.08 9|;"+jlt  
    &}YJ"o[I  
    光栅#1结果 'G6M:IXno  
    aGl*h" &  
    ^rHG#^hA  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 {giKC)!  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 ,3m]jp'  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    `cz%(Ry,  
    _kgGz@/p  
    ?0ezr[`.  
    KGVAP  
    光栅#2 ~v /NG  
    /b44;U`v5-  
    U',.'"m  
    ]VYv>o`2  
    *@EItj`  
    •同样,只考虑此光栅。 F"#8`Ps>  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 <c,/+ lQ^  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 H 3e(-  
    假设光栅参数: T)!$-qdz/  
    •光栅周期:250 nm li U=&wM>  
    •光栅高度:490 nm vf |lF9@U  
    •填充因子:0.5 !I 7bxDzK$  
    •n1:1.46  1#G(  
    •n2:2.08
    pPC_ub  
    :X?bWxOJ  
    光栅#2结果 P,(Tu.EPk  
    x[ sSM:  
    h-^7cHI}  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 B\/"$"  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 __FhuP P  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 \:ELO[(#|{  
    CdTyUl  
    U%Igj:%?;`  
    文件信息 x vi&d1  
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    <hYrcOt  
    ]<V,5'xh  
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    QQ:2987619807 %(EUZu2  
     
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