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摘要 53d8AJ_@X +]-~UsM 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 Hc1S:RW [mKPOg-t UD`bK a`E 概述 T+7O+X# &*\wr}a! _p/
_t76s •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 tW;1 •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 gT$`a •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 ( /{Wu:e /k3v\Jq{
g$<Sh.4A H(U`S 衍射级次的效率和偏振 m.ev~Vv~ I!?-lI@( s(W]>Ib •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 9|v3lGK( •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 LYb@0O<w •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 45e-A{G~ •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 fQcJyX •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 cl
kL)7RQ
v0)I rO $eUI.j(HU 光栅结构参数 2TB>d+ pEf1[ zq Q$!dPwDg •此处探讨的是矩形光栅结构。 t'Zq>y;yg •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 {\3ZmF •因此,选择以下光栅参数: 555j@ - 光栅周期:250 nm \^O&){q(9 - 填充系数:0.5 %fB]N - 光栅高度:200 nm {%W'Zx - 材料n1:熔融石英 K*^3FO}JG - 材料n2:TiO2(来自目录) NuZiLtC IzPnbnS} aMdWT4 53efF bo 偏振状态分析 o?zA'5q yClX!OL BEWDTOY[ •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 RV^
N4q4 •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 jd]Om
r! •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 <4r3ZV;' *HiN:30DZ
.!|\Y!]^r g{{DC )> 产生的极化状态 j4pxu/2 XFJGL!wWm[
oD1rt>k \\w<.\Yh aX
CVC<l 其他例子 f@Oi$9CZn 66ULR&D8 Sep/N"7~t •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 gEr@L
•因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 *K}h
>b 1 ;ED` 7 )LOV)z|} b ]A9$- 光栅结构参数 QX`Qnk|Y (%p@G5GU 9BW"^$ •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 )wT@`p"4 •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 FFC"rG •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 JK.<(=y\ •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 :Y4m3|
i`k{}!F #Y|t,x; 光栅#1 oUSv)G.zb _=Y?' gHH
2Kg-ZDK8 s>pM+PoGYd 6l Suzu •仅考虑此光栅。 7LotN6H
•假设侧壁表现出线性斜率。 C?OqS+ •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 V.\12P •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 4$W}6v +g.lLb*# 3.0t 5F<B 假设光栅参数: QVT|6znw •光栅周期:250 nm 4eD>DW •光栅高度:660 nm kH4xP3. i
•填充系数:0.75(底部) ;q5.\m: •侧壁角度:±6° cmcR@zv •n1:1.46 czG]rl\1 •n2:2.08 .I
h'& Sm5T/&z 光栅#1结果 H@|h
Nn$@ Al}D~6MD 0(o{V:l%Z| •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 g.,_E4L •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 V'iT> •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 6B8gMO ,SV34+( MP6Py@J45 +H**VdM6s 光栅#2
b
fj]Q n[E/O}3& /
|#i|BVnoE n.l7V<1 Od]B;&F •同样,只考虑此光栅。 BbCaIt •假设光栅有一个矩形的形状。 H$M{thW •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 4Pv Pp{Y 假设光栅参数: d_] sV4[ •光栅周期:250 nm OAiSE` •光栅高度:490 nm v\ <4y P •填充因子:0.5 ]8o[&50y •n1:1.46 N+nv#]{ •n2:2.08 %=*nJvYS wSPwa,)7s 光栅#2结果 Ljs4^vy<J ;N?raz2mEi '_fj:dy •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 .~AQxsGH •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 bAwFC2jO[ •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 H"b}lf o,yZ1"
0J z|BE3Y 文件信息 x%J.$o[<_ EC8 Fapy
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