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摘要 q(Zu;ecBN +t}<e( 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 ZU.f)94u Am=O-;
b'8 /Y8{? 概述 {jo"@&2S 'J: xTp
hD,@>ky •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 Ae'N1V •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 m_b_)/ •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 #R#|hw m`#UV-$J
UB7C,:" ;_E][m 衍射级次的效率和偏振 ~"22X`;h[G Vc&xXtm[v FmhN*ZXr# •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 G`NGt_C •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 p1fy)K2{,j •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 ~i=5NUE •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 2fG[q3` •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 j]
E[tEW0ub 2qPQ3-' 光栅结构参数 4H hQzVM{ uY:u[ C[nacAi •此处探讨的是矩形光栅结构。 ?Bsc;:KF •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 aKw7m={ •因此,选择以下光栅参数: `:5W1D( - 光栅周期:250 nm &u0on)E - 填充系数:0.5 kRB2J3Nt. - 光栅高度:200 nm MXynv";<H - 材料n1:熔融石英 i~.9B7hdE - 材料n2:TiO2(来自目录) ]t;bCD6* T4x[
\v5d Pql;5
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Q9sxI}D )R 偏振状态分析 N>',[4pJ| @mu=7_$U ,{sCI/ •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 tkf^sGgNO •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 RhI>Ak;- •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 zzZK S pLsJa?}R
5+Hw @CY3 Cm[^+.=I 产生的极化状态 qh/}/Sl; 7=pJ)4;ZA
lU% L <9aa@c57 |H4f&&Wd 其他例子 g:fzf>oQ>p j(];b+> 3L-}B#tI •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 THz=_L6 •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 #B8V2_M .u&GbM%Ga h}f l:J1C j4!oBSp 光栅结构参数 yn KgNi 'Y:ZWac, "78BApjWT6 •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 75RQ\_zDu •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 +BkmI\ •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 o 9{~F`{p •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 \,yX3R3}.~
V"Y-|R _U`1BmTC2 光栅#1 FAF+ } bs\7 juHt
f>jAu;S ip2BvN& Ah1fcXED •仅考虑此光栅。 9xIz[`)i. •假设侧壁表现出线性斜率。 g;t>jgX
•蚀刻不足的部分基板被忽略了。 -`} d@x •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 F}{uY(hv"[ 'I1^70bB O`Ge|4 假设光栅参数: Sz'JOBp •光栅周期:250 nm 7W `gN[* •光栅高度:660 nm wU)vJsOq •填充系数:0.75(底部) -KFozwr5/ •侧壁角度:±6° D+69U[P_A •n1:1.46 A"R5Fd%6pc •n2:2.08 ;_?RPWZ;MO }
2P,Z 6L 光栅#1结果 DXc3u^
L _!?iiO j3)fmlA •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 kSH|+K\M4 •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 "I)`gy& •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
9M!J7 W ;PF!=8dW dsD!)$ pv){R;f 光栅#2 CJ#1j> 4l`"P~=2<
b$G&i'd cuW&X9\m, C6cEt5 •同样,只考虑此光栅。 '}.Z' %; •假设光栅有一个矩形的形状。 9_<>#)u5 •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 Kitx%P`i 假设光栅参数: y{]iwO; •光栅周期:250 nm @O Rk •光栅高度:490 nm mq*Efb)! •填充因子:0.5 c2d=dGP>~f •n1:1.46 13KfI •n2:2.08 ";$rcg"%X J'no{3Ktz 光栅#2结果 GI$7uR} Zcg@]Sx(I j65qIw_Z •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 A6#5 z •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 cop \o4ia •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 R@Kzdeo 7"0l>0 \
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