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    [推荐]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-09-01
    摘要 ct`j7[  
    ti'B}bH>'  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 4Oo{\&(  
    !mHMFwvS  
    4a}[&zm(5  
    概述 KW-GVe%8f  
     |W_;L6)  
    2,aH1Xbex  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 '.EO+1{a  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 s|IY t^  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 lg"aB  
    _NefzZWUJ  
    !6!Gx:  
    )G#mC0?PV  
    衍射级次的效率和偏振
    =' uePM")  
    *:bexDH  
    bd]9 kRq1K  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 0vX4v)-^u  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 JTIt!E}P  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 ;/:Sx/#s  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 "i#aII+T  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 C RBj>  
    \?SvO  
    <qg4Rz\c]  
    光栅结构参数 m8@&-,T   
    G/*;h,NbNr  
    pHT]2e#  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 hw$!LTB2  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 L!>nl4O>`  
    •因此,选择以下光栅参数: '2GnAws^  
    - 光栅周期:250 nm _Jy7` 4B.  
    - 填充系数:0.5 &&nbdu  
    - 光栅高度:200 nm &rGB58  
    - 材料n1:熔融石英 F+"_]  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) 85YUqVi9  
    >H^#!eaqw  
    (+c1.h  
    [\AOr`7  
    偏振状态分析 fuzB;Ea  
    (:aU"5M  
    6<2H 7'  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 D"J',YN$  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 Q F)\\ D[  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 <+k"3r{y"  
    M@#T`aS  
    N0H=;CIQ  
    2]1u0-M5L  
    产生的极化状态 1rJ2}d\y  
    y{S8?$dU$:  
    l|=4FIMD  
    %Yj%0  
    `J1HQ!Z  
    其他例子 |~r-VV(=  
    kk %32(By  
    ;xZjt4M1  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 '`3#FCg  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 XEgJ7h_  
    - 8p!,+Dk  
    PD)"od  
    ^Jp,&  
    光栅结构参数 7 p{Pmq[  
    7Ml4u%?  
    V&w2pp0  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 &^r>Q`u  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 `&M,B=E  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 L-T,[;bl  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 H+4j.eVzZU  
    ovdJ[bO  
    cg.{oMwa  
    光栅#1 q0iJy@?A  
    1@DC#2hPr  
    u.|Z3=?VG  
    6RnzT d  
    ;f =m+QXU  
    •仅考虑此光栅。  Y !?'[t  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 L=l&,ENy  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 Qc; kj  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 b6bs .  
    _y@].G  
    4f([EV[6dK  
    假设光栅参数: l4>^79**  
    •光栅周期:250 nm T#) )_aC  
    •光栅高度:660 nm 2;8m0+tl  
    •填充系数:0.75(底部) m^k0j/  
    •侧壁角度:±6° Nc;O)K!FH  
    •n1:1.46 ;V xRaj?  
    •n2:2.08 6qWUo3  
    *'?7OL  
    光栅#1结果 X2z<cJG|d@  
    =l/6-j^  
    !sb r!Qt  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 cCe~Ol XQ  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 AcC &Q:g  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    CkT(\6B-  
    5E&#Kh(I  
    1~5DIU^  
    xu2 KEwgb  
    光栅#2 23s;O))  
    iwotEl0*{  
    S#7YJ7 K"N  
    'X^auyL  
    aD^$v  
    •同样,只考虑此光栅。 eTiTS*`u  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 -8Jw_  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 rtV`Q[E  
    假设光栅参数: O G`8::S  
    •光栅周期:250 nm  =<HDek  
    •光栅高度:490 nm .ZpOYhk  
    •填充因子:0.5 K^Awf6%  
    •n1:1.46 Lo%n{*if  
    •n2:2.08
    F (*B1J2_g  
    \|]mClj#  
    光栅#2结果 Nep4 J;  
    6b2UPI7m~  
    k }=<51c  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 f"Zl JVa  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 Xz$4cI#n:  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 apvcWF%  
    ]A*}Dem*5  
    '7Gv_G_  
    文件信息 . %RM8  
    at: li  
    ag-A}k>v  
    ~b f\fPm  
    H_+n_r*  
    QQ:2987619807 #9vC]Gm  
     
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