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    [推荐]衍射级次偏振状态的研究 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-09-01
    摘要 NhF"%  
    ~Cynw(  
    光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 w}$;2g0=a<  
    UM21Cfqex  
    *L*{FnsV  
    概述 awz.~c++  
    t*Z5{   
    152s<lu1Z  
    •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 J[S!<\_!  
    •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 z}$.A9yn  
    •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数 ".( G,TW  
    !SGRK01  
    I7Abf7>*Q  
    ph!h8@e  
    衍射级次的效率和偏振
    ta x:9j|~  
    'T7 3V  
    yqtHlz%  
    •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 Uy)pEEu  
    •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 +eLL)uk  
    •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 j*f\Z!EeZ  
    •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 r[7*1'. p  
    •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 THK^u+~LM  
    D97 vfC  
    &l_}yf"v  
    光栅结构参数 8+Gwv SDU  
    SsfC m C  
    e6{E(=R[M  
    •此处探讨的是矩形光栅结构。 N$:-q'hX  
    •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线 P39oHW  
    •因此,选择以下光栅参数: JdWav!PYm  
    - 光栅周期:250 nm o :4#Ak S  
    - 填充系数:0.5 .We{W{  
    - 光栅高度:200 nm ]8Xip/uE  
    - 材料n1:熔融石英 ^4<&"aoo  
    - 材料n2:TiO2(来自目录) >$ro\/  
    A =&`TfXu  
    mWn0"1C  
    1B~Z1w  
    偏振状态分析 q68m*1?y  
    * y wr_9  
    TK~KM  
    •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 d(b~s2\i  
    •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 ST g} Z  
    •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 $2}%3{<j  
    08%Bx~88_%  
    7+X~i@#rU  
    &Ll&A@yU  
    产生的极化状态 #ZnNJ\6  
    SdnO#J}{  
    0B}2~}#  
    S9%,{y  
    +~y>22Zfg  
    其他例子 =1 S%E  
    |~18MW  
    MtoOIkQ  
    •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 !gfd!R  
    •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 DpT$19Q+  
    F=#V/ #ia  
    -g|ji.  
    "{t]~urLd  
    光栅结构参数 +#<Z/  
    "Y- WY,H  
    *8)va  
    •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 M#m;jJqON  
    •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 )1 HWD]>4  
    •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 L*vKIP<EMM  
    •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 _F|}=^Z`  
    T"gk^.  
    r=54@`O!  
    光栅#1 apfr>L3  
    n%4/@M  
    ;G3?Sa7+  
    ?~yJ7~3TS<  
    YV@efPy}n  
    •仅考虑此光栅。 x7G*xHJ  
    •假设侧壁表现出线性斜率。 _u~0t`f~  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 FC+h \  
    •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 2\gIjXX"  
    %NC/zqPH~  
    \/V#,O  
    假设光栅参数: P*VZ$bUe5@  
    •光栅周期:250 nm WLfDXx 2A  
    •光栅高度:660 nm r`h".=oD  
    •填充系数:0.75(底部) <c!gg7@pm  
    •侧壁角度:±6° 2' ^7G@%  
    •n1:1.46 jF/S2Ty2  
    •n2:2.08 0 ]L   
    8?YeaMIBB  
    光栅#1结果 _5x]BH6f  
    :g^ mg-8  
    BHZhdm@),  
    •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 <1<xSr  
    •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 S9r+Nsn  
    •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。
    .q[}e);)  
    ylQj2B,CB  
    `<M>"~W  
    uKvdL "  
    光栅#2 P+OS  
    c$tX3ug6I  
    {P_7AM  
    yTZ o4c "  
    n^O!93a  
    •同样,只考虑此光栅。 zR]!g|;f  
    •假设光栅有一个矩形的形状。 W\;|mEEu  
    •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 cY kb3(  
    假设光栅参数: %b4tyX:N0  
    •光栅周期:250 nm FU>KiBV#  
    •光栅高度:490 nm DZ\K7-  
    •填充因子:0.5 $gD8[NAIx=  
    •n1:1.46 VO=Ibu&X  
    •n2:2.08
    dl6U]v=  
    V %D1Q}X  
    光栅#2结果 n\JI7A}  
    v}d)uPl} ;  
    ctjQBWE  
    •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 `M 'tuQ M  
    •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 ?# _{h  
    •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 U"+W)rUd  
    x|G :;{"+6  
    *L$_80  
    文件信息 72yJv=G  
    f86Z #%  
    .8!\6=iJB  
    } e+`Kxy  
    l!&ik9m  
    QQ:2987619807 ]W`?0VwF  
     
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