-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2024-11-14
- 在线时间1524小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
摘要 *LY8D<:zs veECfR; 光栅结构广泛用于光谱仪,近眼显示系统等多种光学系统。VirtualLab Fusion通过应用傅立叶模态法(FMM),以简易的方式提供对任意光栅结构进行严格分析。在光栅工具箱中,可以在堆栈中使用界面或/和介质来配置周期性结构。 用于设置堆栈几何形状的用户界面非常人性化,并且允许生成更复杂的光栅。在该用例中,讨论了由FMM实现衍射级次偏振状态的研究。 9>#6*/Oa7 u ^RxD^=L 9lE_nc 概述 X@FN|Rdh Ax}JLPz5' \fe]c : •本文的主题是光在周期性微结构处的衍射后的偏振态。 ],].zlN •为此,如示意图所示,在示例性二元光栅结构和锥形入射处研究零级反射光。 Eh4=ZEX •为了在特定示例中讨论该主题,在第二部分中根据Passilly等人的工作(2008年)选择光栅配置和相应参数。 Dvln/SBk ;dhQN}7 L}NSR Etm?' 衍射级次的效率和偏振 zbPqYhJzA 1h5 Akq ybUaTD@?}b •通常,为了表征光栅的性能,给出了传播级次的效率(η)。 u]@['7 •该效率值包括该特定级次的所有光的能量,但并不区分最终出现的不同偏振状态。 gQ.Sa
j
$ •在严格模拟光栅效率的过程中,例如利用傅里叶模态法,通过使用复数场求解均匀介质的波动方程(也称为亥姆霍兹方程)。 kG*~|ma •因此,对于每个衍射级次(𝑛)和偏振态,算法的结果以复数值瑞利系数给出。 A+{VGP^ •特定级次(𝑛)的效率表示入射光的功率与输出衍射级的光功率之间的关系。它是从瑞利系数计算出来的。 2J;g{95z v &+R^iLE bZV/l4TU 光栅结构参数 IE~ |iQ?- ?
=+WRjF B>.qd •此处探讨的是矩形光栅结构。 T[j,UkgGo •为简单起见,选择光栅的配置,仅使反射中的零级次(R0)传播光线。 #$y?v%^ •因此,选择以下光栅参数: ehY5!D1Q - 光栅周期:250 nm vfo~27T{( - 填充系数:0.5 {l>hMxij - 光栅高度:200 nm 8~gLqh8^V - 材料n1:熔融石英 A5w6]: f2 - 材料n2:TiO2(来自目录) a.6(K v.5+7,4 `9.r`&T6K PFK
'$ 偏振状态分析 T]p-0?=4vv ;A!BVq ete.!*= •使用不同锥形入射角(φ)的TE偏振光照射光栅。 #3d(M •如上所述,瑞利系数的平方幅值将提供有关特定级次的偏振状态信息。 6LZ;T.0o •为了得到瑞利系数,请在光栅级次分析器中选中单个级次输出,并选择所需的系数。 pD]OT-8 -Y;3I00( L j$;:/G gPc=2 产生的极化状态 :eLVC7' &jr3B;g!C `@|$,2[C s"?3]P 7"xd1l?zz 其他例子 >yh2Lri 00U> F WOf 4o •为了不同状态之间接收高转换,在Passilly等人的工作中,研究和优化了在亚波长光栅处衍射光的偏振态。 'A[dCc8O •因此他们将模拟结果与制造样品的测量数据进行了比较。 N)>ID(}F1 t&Og $@ A.w:h;7 >)Tqt!? 光栅结构参数 '[O;zJN; z&^&K} T9q-,w/j; •在引用的工作中,研究了两种不同的制造光栅结构。 KCDE{za •由于应用的制造方法引起的,与所需的二元形状相比,结构表现出一些偏差:基板的蚀刻不足和光栅脊的形状偏离。 1g~R/*Jo •由于缺少有关制造结构的细节,因此在VirtualLab中的模拟,我们进行了简化。 &
"B=/-( •当然,如果数据可用,详细分析光栅的复杂形状亦是可能。 S`?!G&[!> Vs{|xG7WD %;"y+YFdv 光栅#1 G9@0@2aY8 vSLtFMq^( 8sK9G`
k Nl(Foya%) RY*U"G0#w •仅考虑此光栅。 #yvGK:F •假设侧壁表现出线性斜率。 y L~W.H •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 dcWD(- •为了实现光栅脊的梯形形状,应用了倾斜的光栅介质。 -C&P%tt Y HiJE}V;Vq )sQ*Rd@t[8 假设光栅参数: *G9V'9 •光栅周期:250 nm 8kDp_si •光栅高度:660 nm BJo*'US-Q •填充系数:0.75(底部) n@[O|?S •侧壁角度:±6° ]:/Q]n^ •n1:1.46 G;XxBA •n2:2.08 xFg>SJ7] <yg F( 光栅#1结果 u08mqEa 1 I",L&S1 L\z~uo3: •左图显示的是使用VirtualLab获得的结果,而Passilly等人发表的结果如右图所示。 Hg (Gl •相比之下,这两张图都表现出非常好的相似性,尤其是图的轨迹。 eO[b1]WLP •与参考相比,光栅结构的简化导致了一些小的偏差。 由于缺少复杂光栅结构的数据,因此简化是必要的。 n>U5R_T v1,oilL 2SR: FUV/ mXfXO*Cnp 光栅#2 &~U ] ~;@ 3|Xyl`i4o 1D!<'`)AY ^\,E&=/}M hqkz^!rp •同样,只考虑此光栅。 m/EFHS49 •假设光栅有一个矩形的形状。 l0i^uMS •蚀刻不足的部分基板被忽略了。 V,N%;iB} 假设光栅参数: D=&Me=$ •光栅周期:250 nm uOdl*| T? •光栅高度:490 nm >!)DM]Ri •填充因子:0.5 w$-6-rE]d •n1:1.46 Uq`'}Vo •n2:2.08 fZA4q0 ~z;FP$U 光栅#2结果 As<bL:>dE ZLAy-
9^Y gEE\y{y •同样,左边的图显示了使用VirtualLab获得的结果,由Passilly等人发表的结果如右图所示。 RhLVg~x •相比之下,这两张图再次表现出非常好的匹配,尤其是图的轨迹。 i@M[>~ •与参考相比,光栅结构的简化以及缺少一些光栅参数会导致一些小的偏差。 XACm[NY_ $z*'fXg B~Xw[q 文件信息 W-zP/]Dh f^XOUh 0b(N^$js' ,7K`[ mvT(.R ..s QQ:2987619807 bhlG,NTP
|