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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 v"~0 3-SX  
    Y}aaW[  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 m7n8{J1O2  
    IT5a/;J  
    v;_k*y[VV$  
    BT3X7Cx  
    建模任务 6M)4v{F  
    k O8W>  
    =]Vrl-a`^  
    概观 '(.vB~m7*+  
    j 56Dt_  
    @qaK5  
    光线追迹仿真 ^5,B6  
    q'zV9  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 y(2FaTjM  
    N Dg*8i  
    •点击Go！ ^5-8'9w  
    •获得3D光线追迹结果。 wgV?1S>Z  
    7G 3*@cl  
     &.4m(ZX  
    F2bAo6~R  
    光线追迹仿真 ~4t7Q  
    Rv^ \o  
    # 1#?k  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 9U=~t%qW$  
    •单击Go！ 6.>l  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     A]WR-0Z7  
    u&7c2|Q  
    KgCQ4w9  
    {B d 0  
    场追迹仿真 PRpW*#"EI  
    m~x O;_m  
    ]u(EEsG/  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 y G{;kJ P  
    •单击Go！     /E|Ac&Qk  
    5N'Z"C0  
    ~,: FZ1wh  
    |mO4+:-~D+  
    场追迹结果（摄像机探测器） _+?v'#  
     3ug-cq  
    d_r1 }+ao  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 <:gNx%R  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 Kz`g Q|S  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 =yy7P[D  
    }0(.HMiGj  
    h+<F,0  
     ?--EIA8mfp  
    场追迹结果（电磁场探测器） D$OUy}[2`.  
    rcx'`CIJ  
    9}_ccq  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     tI-u@ g  
    <8_~60  
    Sph:OX8  
    文件信息 &!=[.1H<  
    Y8$,So>~  
     xD|CQo}:  
    ,^#{k!uaC{  
     ]= EYju@  
    QQ：2987619807 u+ ?Wm40E  
     
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