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    [推荐]高NA物镜聚焦的分析 [复制链接]

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    离线infotek
    科学家
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2020-08-27
    摘要 I]R9HGJNlJ  
    zkexei4^<  
    高NA物镜广泛用于光学光刻，显微镜等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，可以让用户深入了解矢量效应。 yMxTfR  
     3-|3`(  
    >zngJ$  
    [T^?Q%h  
    建模任务 g_aCHEFBv  
    hw=GR_,  
    1nI^-aQ3  
    概观 {^mKvc  
    }y6q\#G  
    r N5tI.iC  
    光线追迹仿真 ashar&'  
    66\jV6eH7L  
    •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为仿真引擎。 +,5-qm)Gh>  
    =a$Oecg?  
    •点击Go！ }x:f%Z5h  
    •获得3D光线追迹结果。 ~L{l+jK$p  
    ] fwZAU  
     !SxG(*u  
    0L#/lDNk  
    光线追迹仿真 VhEka#  
    y1pu R7  
    57Z-  
    •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为仿真引擎。 wC CV2tk  
    •单击Go！ lV6dm=k  
    •结果，获得点列图（2D光线追迹结果）。     Zu/<NC (  
    :iPy m}CE  
    :O-1rD  
    wtH~-xSB|  
    场追迹仿真 pqR\>d 0  
    m3.sVI0I  
    -VT+O+9_A  
    •切换到场追迹并选择“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为仿真引擎。 gfgn68k  
    •单击Go！     {whvTN1#dh  
    Or0O/\D)  
    /*rhtrS)  
    k'3Wt*i  
    场追迹结果（摄像机探测器） t ^SzqB  
     Z(GfK0vU  
    RU#F8O  
    •上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。 Log|%P\  
    •下图显示整合了Ex，Ey和Ez分量的强度。 -{jdn%Y7CK  
    Ez分量：由于在高NA情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。 F]+~x/!  
    y2|R.EU\m<  
    R 9 4^4I  
     ?cy4&]s  
    场追迹结果（电磁场探测器） ~nY]o"8D  
    pv,45z0  
    Jkt4@h2Q}  
    •所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。     =O$M_1lp  
    Hi}RZMr1  
    1;F`c`0<  
    文件信息 gm)@c2?.  
    Zjh2{ :  
     t^tmz PWA  
    yxWO [ Z  
     r'7LR  
    QQ：2987619807 WT\<.Py  
     
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