亚克是日语ヤケ的音译,是变色的意思,光学工厂把这个疵病认为是印子,疵病代号206。我找到了一篇文章,对此解释的比较全,推荐如下:
镜片常见不良及解决思路
wA%,_s/U ヤケ(腐蚀、发霉、压克)
.YIb ny1 定义: 镜片表面被腐蚀。在对策时一定要区分是ヤケ还是脏污,才能找出真因。
d]l(B+\vf 前言: 光学玻璃的结构:以硅酸盐为主(SiO3 )加上 Mg(镁) Ba(钡 ) K(钾) La (钄) Pb( 铅)等几十种离子混合而成。而Mg(镁) Ba(钡 ) K(钾) La (钄) Pb(铅)等是活性金属离子,它们是用来调节镜片的折射率(nd)、色散系数(vd)的添加剂.按理论分析正常状态的玻璃的结构是具有均匀性、混合地分布各种离子、离子键及化学键。但在加工过程中受各种因素的影响而使镜片结构发生变化(形成硅酸溶胶)。
7(zY:9|( ヤケ定义: ヤケ即腐蚀、发霉,指镜片研磨完品或膜层上形成化学腐蚀层,从而从镜片表面看与正常状态有颜色差异。ヤケ大致可以分为膜上ヤケ和膜下ヤケ。下列为常见的几种现象:
$0;Dk, kx[h41|n
kQtnT7 `lE8dwL 
\XG\ 几种相关名词:
&PEw8: TX 1镀前ヤケ(镜片表面本身污染/水分残留/溶剂残留,镀前已可见)
Ni61o?]Nj Ø 镜片在研磨过程中研磨液(研磨液通常PH值6.5~7.5但在加工过程会发生,由于硅酸盐、金属离子与研磨液发生化学反应,造成PH值变化)对镜片的腐蚀,镀前反射光可见灰暗不同现状的痕迹;
MSS0Sx<f Ø 镀前透过光检查为白色雾状;
a#P{ [ Ø 研磨完品未及时进行清洗(或擦拭),研磨残留(研磨液或水)对镜片的腐蚀;
z
Q11dLjs Ø 清洗后镜片暴露空气接触水分等太长,镜片受腐蚀;
(w,
Gv-S Ø 洗净烘干时水分残留;
+dK;\wT Ø 擦拭时后的溶剂残留;。
4ko(bW#jL 2、 镀膜色差:(非ヤケ,镀前不可见)
9iOTT%pq Ø 因镜片放置在镀膜伞的不同位置,基底温度不均匀;造成镀膜伞上、中、下膜色差异; Ø 镀膜蒸发源偏离原有设定位置,造成在镀膜伞上中下蒸发膜厚不均匀;
->U9u lTC Ø 镀膜使用离子源时,离子覆盖的范围没有调整合适,离子流密度不均匀造成;
^WIGd"^ 3、 膜层脏污:(非ヤケ,镀前不可见)
z_ia3k< Ø 膜下脏,指镀前未处理干净,镀膜后形成明显的膜色差异,透过光可见。
+C9l7 q Ø 膜上脏,包括普通可擦拭的脏和难擦拭的脏污;镀膜真空室长期未清洁(洁净度差),膜层致密度低,灰尘、脏污粘付到膜层上时难以擦拭;镀膜后膜层污染,经高温环境后形成膜层脏污;
" [K>faV Ø 因镜片表面研磨表面Ra(粗糙度)大,镀膜前擦拭可感觉有涩感;镀膜后擦拭表面形成雾状,经超声波洗净后OK;
oOy_2fwZPp 4、 膜下ヤケ:
o[K,( Ø 白ヤケ:镀后在透过光下能见白色雾状层,为镀前产生;镜片表面残留物(研磨保护漆)在真空室经高温烘烤分解,在表面形成白雾层,可用溶剂擦拭去除;镀前不可见;
Jg%jmI;Y Ø 镜片表面富含透明残留物经高温烘烤后,与镜片发生反应形成表面剧烈腐蚀;镀前不可见;
Q>>II|~;J Ø 色ヤケ:研磨后不明显,镀膜放置后加重;镀前不可见
VH$hQPP5d Ø 色斑: 研磨涂保护漆前已研磨好表面残留的水痕、研磨液没有及时去除彻底,涂好保护漆经高温烘烤好在表面形成腐蚀痕;
>[gNQJ6 5、 膜色ヤケ:
xw&N[y5 Ø 由于膜料特性及镀膜工艺不稳定造成膜层致密性差,镀后吸收水份与O2离子,擦拭无明显变化,烘烤或放置一段时间后会变严重或消失;
dy2<b+.. 可通过测试高温与低温时分光曲线的变化(差异小于20nm)显现
[5Pin>]z g%f6D%d)A xy1R_*.F^T Ø 膜层结晶时高温下受损(某一层膜厚太薄≤160A),膜料与基底发生反应,高温下再结晶时不均匀,形成局部分光特性变化;
[NIaWI,> Ø 研磨在表面形成不同的折射率区域;
c7(Lk"G8 Ø 镀膜真空室内油污严重,存在大量各类杂质气体,加热后吸附在镜片表面,造成膜层结晶粗糙,膜层在大气中吸附各类气体水分,形成局部分光特性变化,可通过测试高温与低温时分光曲线的变化(差异小于20nm)显现;
Ln5g"g8gb% Ø 已镀膜镜片在擦拭作业后表面残留的溶剂、水痕等没有去除干净,又放入高温环境下烘烤;
A<s9c=d6 6、 雾状:(非ヤケ)
=LMM]'no, Ø 表面粗糙、半透明,主要因为材质软、研磨量不足或洗净时被化学溶剂腐蚀;
:/'oh]T| Ø 镜片长期被酸碱强烈腐蚀
$n@B:kv5p 7、 黑ヤケ
"iTi+UZxe Ø 镀膜膜料金属氧化物失O2造成(与O2反应不充分,特别是在使用离子源的时候),镜片置于白色背景可见底色;置于富氧环境中高温烘烤后,黑色斑点消失;
JQ]A"xTIa* Ø 多片研磨使用粘贴胶,没有彻底去除,
:Z5Twb3h Ø 研磨液没有及时去除,镜片表面长期没有得到良好保护,点状腐蚀严重;
Eh&HN-& 8、 细伤痕:(非ヤケ)
yMbg1+:
Ø 研磨完品表面细(浅)、长、密的伤痕,主要因为材质软、砂挂残留、研磨量不足、研磨纸(粉)选择与配比不恰当,超洗加重潜伤等;
XhG3Of-6 Ø 镜片表面研磨加工时由于研磨液(浓度、PH值、颗粒、温度)等影响,镜片表面在化学流布的作用下形成光滑表面,但超声波洗净后使潜在伤痕显现,同时伴有研磨液与洗剂的腐蚀;
$[DSe~ 9、 水纹印ヤケ
+yo1&b R/ Ø 洗净烘干时IPA纯度下降,(或其他烘干剂烘干效果不好)水份未及时蒸干;
use`
y^c Ø 洗剂与除油剂经过剩余其他洗槽没有去除彻底,表面残留较多;
eww/tG a Ø 镜片表面水分与残留雾在真空室内,经高温解析后形成H+/OH-,在镜片表面蒸发与凝结形成表面轻微腐蚀
_mn2bc9M ヤケ关联图
Z`Sbq{Kx ^26}j uQ Ov PTgiI!N 通常处理思路:
C;NG#4;' 一. 目前所有对策都是加快流程,杜绝人为造成镜片表面的污染(手指痕、口水痕、其他污物);降低表面洁净镜片暴露于大气中被腐蚀的时间;提高膜层致密度;
dw]jF=u 1、 镀前ヤケ:
Dk`(Wgk2 Ø 检查方法:
ct![eWsuB 2 反射光下“哈汽法”确认有无残留点状痕迹/水纹印;
wxSJ 2 强光灯下确认有无脏污/白ヤケ;
p;<brwN 2 日光灯反光确认镜片有无黑ヤケ;
,c9K]>8m` 2、 镀膜色差
V+&C_PyC Ø 对策/处理: 2 镀膜均匀度调整(镀膜专业人员)
#J09Eka;J 2.1.膜色ヤケ
wmnh7'|0u Ø 对策: 2 砂挂条件变更(钻石粒粒度、时间、压力条件、两支加工调整等)à 确保砂挂完品表面粗糙度); 2 研磨条件变更(加工时间、研磨纸、研磨液(PH、浓度、颗粒度)、温度、压力条件等)à 确保研磨完品表面粗糙度); 2 研磨完品在取出后即时清洁表面残留研磨液与水分,保持表面的洁净度(注意清洁方法与清洁辅料与更换周期); 2 镀前处理:使用手工表面返修(单轴机手工返修) Ø 试验/验证: 2 通过反射光下“哈汽法”,镀前检查确认表面光洁度; 2 使用透过光旋转检查研磨表面有无白雾、表面研磨刷子状痕迹; 2 通过镀前处理(手工返修)后镀制来验证研磨完品表面质量;
>crFIkOJ 3、 膜层脏污:
yRv4,{B}X> A、膜上脏污:
/[RO>Z9 Ø 对策/处理:
#1oyRD- 2 膜系调整(如加镀SiO2,膜表面品质提升);
M"Q{lR 2 镀后延长烘烤时间,与镀膜使用离子源辅助镀膜(表面致密度提升);
C6{\^kG^j2 2 镀后防尘措施(改善存放环境,降低泄大气前镜片温度,保持真空室内洁净度);
<P1yA>=3` 2 防止镀膜后加工工序形成表面污染,如涂墨高温烘烤与粘合UV固化加重污染,造成表面脏污;
k~=_]sLn 2 试验/验证:
*$yU|, 2 擦拭变化,可擦拭与超声波清洗去除;
wY6m^g$h3 B、膜下脏污:
GPs// Ø 对策/处理:---- 镀前处理
$Cx ?%X^b 2 洗净处理(确认洗剂浓度与PH值,提高超声波强度,延长洗净时间,特殊洗净工艺);
`4kVe= { 2 研磨完品在取出后即时清洁表面残留研磨液与水分,保持表面的洁净度(注意清洁方法与清洁辅料与更换周期); 2 研磨完品表面手指痕、口水痕、其他污染即时去除;
{YigB 2 手工返修处理(研磨粉、CaCO3+干油等擦拭);
{ZIEIXWb2 Ø 试验/验证:
\qj(`0HG 2 镀前反射光下“哈汽法”确认,
0l+[[ZTV 2 镀后不可擦拭
^ ^T e 4、 膜下ヤケ:
c1aIZ Ø 对策/处理:---- 镀前处理
"';K$&,[ 2 研磨条件变更(考虑材质对研磨液等调整)
!}PZCbDhL 2 考虑材质调整研磨工艺:
mfCp@1;26 n 采取研磨后直接镀膜工艺:
'K*. ?M 芯取à研磨à手工擦拭、检查à镀膜;
,A9_xdv5 n 采取易ヤケ面后加工工艺(避免多片加工、采取单元一个流作业等);
oo2CF!Xy n 缩短研磨后到镀膜的时间(检查前置、免洗净);
<b#1L n 研磨完品清擦(吸水棉布,擦拭后达可镀清洁度),二次清擦法,及时更换擦布;
Dlqvz|X/ n 已擦拭好研磨完品防潮、防湿(研磨后立即泡IPA,卤素灯烘干+PE袋+干燥剂等);
S";c7s n 先镀易ヤケ面
7w51UmO 2 洗净处理(考虑材质及镜片形状对洗净条件进行调整,如洗净液、镜片放置方向等)
^LAnR>mz^r 2 手工处理(研磨粉、CaCO3+干油等擦拭)
]wm<$+@ Ø 试验/验证:
>7,?X_:A-1 2 通过手工处理确认镀后品质
^Cy=L] 2 镀前强光灯下可见、哈气法检查
Q"F" 13 5、 膜色ヤケ:
^ZPynduR Ø 对策/处理:
5/YGu=, 2 镀膜工艺改进(膜层致密度提高(蒸发速率、基底温度、离子源使用、实际真空度、镀膜膜料、真空室的洁净度));
{u)>W@Lr 2 使用高能离子去除表面残留污染,例如:使用SHINCRON SID-1100镀膜;
:Fh#"<A&& 2 镀前、镀后烘烤时间加长 2 镀后完品防尘、防湿 Ø 试验/验证: 2 一般擦拭不变化(研磨粉、CaCO3擦拭变化,膜层破坏)
{j[a'Gb 2 放置变化(变重/消失)
^aR^M\38 6、 雾状:
T7R,6qt Ø 对策/处理:
'|J~2rbyr 2 砂挂加工条件改善(钻石粒粒度、时间、压力条件、两支加工调整等)
/ ?Hq à 确保砂挂完品表面粗糙度);
C8t;E` 2 研磨条件变更(加工时间、研磨纸、研磨液、压力条件等)
PT39VI
= à 确保研磨完品表面粗糙度);
;:obg/;uJ 2 研磨完后追加黑毛纸抛光;
7 >-(g+NF! 2 洗净条件改善(洗剂、时间、温度等);
s
a{x.2/o} 2 镀膜第一层加AL2O3等,离子源电压(160V~120V)调整,与离子电流密度增加,离子源反应气体流量适当增加;
AjD?_DPc 2 膜层致密度提高;
2$TwD*[ Ø 试验/验证:
]8f$&gw&A 2 对不同粗糙度的砂挂完品试验,确认砂挂外观对研磨完品的影响程度
w8}jmpnI 2 通过手擦、洗净两种工艺后的品质确认洗净的影响程度
7!/!a*zg 7、 黑ヤケ
7Fzj&!>ti Ø 反射光检查
t$z 5m<8 Ø 对策
bJoP@s 2 镀膜时O2的增加
#Q` TH< 2 研磨液残留及时去除,表面脏污及时清理
~$d(@T& 8、 :细伤痕
COA*Q Ø 同雾状
`z$=J"%? y 9、 水纹ヤケ
bXi(]5 Ø 更换烘干剂
3/V0w|ZgD 以上