亚克是日语ヤケ的音译,是变色的意思,光学工厂把这个疵病认为是印子,疵病代号206。我找到了一篇文章,对此解释的比较全,推荐如下:
镜片常见不良及解决思路
B K/_hNz ヤケ(腐蚀、发霉、压克)
?P>3~3 B 定义: 镜片表面被腐蚀。在对策时一定要区分是ヤケ还是脏污,才能找出真因。
duT'$}2@> 前言: 光学玻璃的结构:以硅酸盐为主(SiO3 )加上 Mg(镁) Ba(钡 ) K(钾) La (钄) Pb( 铅)等几十种离子混合而成。而Mg(镁) Ba(钡 ) K(钾) La (钄) Pb(铅)等是活性金属离子,它们是用来调节镜片的折射率(nd)、色散系数(vd)的添加剂.按理论分析正常状态的玻璃的结构是具有均匀性、混合地分布各种离子、离子键及化学键。但在加工过程中受各种因素的影响而使镜片结构发生变化(形成硅酸溶胶)。
W[4 V#&Z ヤケ定义: ヤケ即腐蚀、发霉,指镜片研磨完品或膜层上形成化学腐蚀层,从而从镜片表面看与正常状态有颜色差异。ヤケ大致可以分为膜上ヤケ和膜下ヤケ。下列为常见的几种现象:
Mv%"aFC ,)beK*Iw
Wm#F~<$ +`]AutNv 
Nfo`Q0\[P 几种相关名词:
x<gP5c>zm 1镀前ヤケ(镜片表面本身污染/水分残留/溶剂残留,镀前已可见)
[,?5}'we Ø 镜片在研磨过程中研磨液(研磨液通常PH值6.5~7.5但在加工过程会发生,由于硅酸盐、金属离子与研磨液发生化学反应,造成PH值变化)对镜片的腐蚀,镀前反射光可见灰暗不同现状的痕迹;
Spm7kw Ø 镀前透过光检查为白色雾状;
T
P#Hq Ø 研磨完品未及时进行清洗(或擦拭),研磨残留(研磨液或水)对镜片的腐蚀;
i[V\RKH*F Ø 清洗后镜片暴露空气接触水分等太长,镜片受腐蚀;
QRFBMq}' Ø 洗净烘干时水分残留;
Mq,2S Ø 擦拭时后的溶剂残留;。
j.:I{!R# 2、 镀膜色差:(非ヤケ,镀前不可见)
i[7<l&K] Ø 因镜片放置在镀膜伞的不同位置,基底温度不均匀;造成镀膜伞上、中、下膜色差异; Ø 镀膜蒸发源偏离原有设定位置,造成在镀膜伞上中下蒸发膜厚不均匀;
2b89th Ø 镀膜使用离子源时,离子覆盖的范围没有调整合适,离子流密度不均匀造成;
@q/E)M?
3、 膜层脏污:(非ヤケ,镀前不可见)
1/J3 9Y~+ Ø 膜下脏,指镀前未处理干净,镀膜后形成明显的膜色差异,透过光可见。
[==x4Nb Ø 膜上脏,包括普通可擦拭的脏和难擦拭的脏污;镀膜真空室长期未清洁(洁净度差),膜层致密度低,灰尘、脏污粘付到膜层上时难以擦拭;镀膜后膜层污染,经高温环境后形成膜层脏污;
\&#IK9x{ Ø 因镜片表面研磨表面Ra(粗糙度)大,镀膜前擦拭可感觉有涩感;镀膜后擦拭表面形成雾状,经超声波洗净后OK;
EH~t< 4、 膜下ヤケ:
2, R5mL$ Ø 白ヤケ:镀后在透过光下能见白色雾状层,为镀前产生;镜片表面残留物(研磨保护漆)在真空室经高温烘烤分解,在表面形成白雾层,可用溶剂擦拭去除;镀前不可见;
3-6Lbe9H Ø 镜片表面富含透明残留物经高温烘烤后,与镜片发生反应形成表面剧烈腐蚀;镀前不可见;
q>5K:5 Ø 色ヤケ:研磨后不明显,镀膜放置后加重;镀前不可见
H:5- S Ø 色斑: 研磨涂保护漆前已研磨好表面残留的水痕、研磨液没有及时去除彻底,涂好保护漆经高温烘烤好在表面形成腐蚀痕;
~|kSQ7O^ 5、 膜色ヤケ:
5u=$m^@{ Ø 由于膜料特性及镀膜工艺不稳定造成膜层致密性差,镀后吸收水份与O2离子,擦拭无明显变化,烘烤或放置一段时间后会变严重或消失;
~M Mv+d88 可通过测试高温与低温时分光曲线的变化(差异小于20nm)显现
Wfp>BC ;'i>^zX` RIV
+ _}R Ø 膜层结晶时高温下受损(某一层膜厚太薄≤160A),膜料与基底发生反应,高温下再结晶时不均匀,形成局部分光特性变化;
O+ghw1/ Ø 研磨在表面形成不同的折射率区域;
@F/yc Ø 镀膜真空室内油污严重,存在大量各类杂质气体,加热后吸附在镜片表面,造成膜层结晶粗糙,膜层在大气中吸附各类气体水分,形成局部分光特性变化,可通过测试高温与低温时分光曲线的变化(差异小于20nm)显现;
!E.CpfaC Ø 已镀膜镜片在擦拭作业后表面残留的溶剂、水痕等没有去除干净,又放入高温环境下烘烤;
kC8M2 |L 6、 雾状:(非ヤケ)
@0[#XA_> Ø 表面粗糙、半透明,主要因为材质软、研磨量不足或洗净时被化学溶剂腐蚀;
&|Cd1z#? Ø 镜片长期被酸碱强烈腐蚀
+JlPQ~5 7、 黑ヤケ
#C#*yE Ø 镀膜膜料金属氧化物失O2造成(与O2反应不充分,特别是在使用离子源的时候),镜片置于白色背景可见底色;置于富氧环境中高温烘烤后,黑色斑点消失;
?Jy/]j5fI Ø 多片研磨使用粘贴胶,没有彻底去除,
,We'AR3X Ø 研磨液没有及时去除,镜片表面长期没有得到良好保护,点状腐蚀严重;
f3oGB*5> 8、 细伤痕:(非ヤケ)
8D:0Vhx\I Ø 研磨完品表面细(浅)、长、密的伤痕,主要因为材质软、砂挂残留、研磨量不足、研磨纸(粉)选择与配比不恰当,超洗加重潜伤等;
7M, (!*b Ø 镜片表面研磨加工时由于研磨液(浓度、PH值、颗粒、温度)等影响,镜片表面在化学流布的作用下形成光滑表面,但超声波洗净后使潜在伤痕显现,同时伴有研磨液与洗剂的腐蚀;
R^k)^!/$f 9、 水纹印ヤケ
Ra)AQ
n Ø 洗净烘干时IPA纯度下降,(或其他烘干剂烘干效果不好)水份未及时蒸干;
0qp Pz|h Ø 洗剂与除油剂经过剩余其他洗槽没有去除彻底,表面残留较多;
p{0NKyOvU Ø 镜片表面水分与残留雾在真空室内,经高温解析后形成H+/OH-,在镜片表面蒸发与凝结形成表面轻微腐蚀
PW QRy ヤケ关联图
{NTMvJLm y*7{S{9 q. s'z} 通常处理思路:
o~`KOe 一. 目前所有对策都是加快流程,杜绝人为造成镜片表面的污染(手指痕、口水痕、其他污物);降低表面洁净镜片暴露于大气中被腐蚀的时间;提高膜层致密度;
AQm#a; 1、 镀前ヤケ:
F1GFn|OA Ø 检查方法:
)l6(ss!J 2 反射光下“哈汽法”确认有无残留点状痕迹/水纹印;
6.6;oa4j 2 强光灯下确认有无脏污/白ヤケ;
w0&|8y 2 日光灯反光确认镜片有无黑ヤケ;
K*9~g(' 2、 镀膜色差
}CGA)yK~3 Ø 对策/处理: 2 镀膜均匀度调整(镀膜专业人员)
cTa$t :K@ 2.1.膜色ヤケ
Lu5lpeSQ Ø 对策: 2 砂挂条件变更(钻石粒粒度、时间、压力条件、两支加工调整等)à 确保砂挂完品表面粗糙度); 2 研磨条件变更(加工时间、研磨纸、研磨液(PH、浓度、颗粒度)、温度、压力条件等)à 确保研磨完品表面粗糙度); 2 研磨完品在取出后即时清洁表面残留研磨液与水分,保持表面的洁净度(注意清洁方法与清洁辅料与更换周期); 2 镀前处理:使用手工表面返修(单轴机手工返修) Ø 试验/验证: 2 通过反射光下“哈汽法”,镀前检查确认表面光洁度; 2 使用透过光旋转检查研磨表面有无白雾、表面研磨刷子状痕迹; 2 通过镀前处理(手工返修)后镀制来验证研磨完品表面质量;
^`+Kjhht 3、 膜层脏污:
GWW#\0*Bn A、膜上脏污:
=HHtLW.|, Ø 对策/处理:
-jWXE 2 膜系调整(如加镀SiO2,膜表面品质提升);
)z!#8s 2 镀后延长烘烤时间,与镀膜使用离子源辅助镀膜(表面致密度提升);
k<A|+![ 2 镀后防尘措施(改善存放环境,降低泄大气前镜片温度,保持真空室内洁净度);
5a%i%+;N 2 防止镀膜后加工工序形成表面污染,如涂墨高温烘烤与粘合UV固化加重污染,造成表面脏污;
mTBSntZx 2 试验/验证:
D $&6 8 2 擦拭变化,可擦拭与超声波清洗去除;
p>h}k_s B、膜下脏污:
w[]\%`69}Z Ø 对策/处理:---- 镀前处理
S5/p3;O\c 2 洗净处理(确认洗剂浓度与PH值,提高超声波强度,延长洗净时间,特殊洗净工艺);
MHQM' 2 研磨完品在取出后即时清洁表面残留研磨液与水分,保持表面的洁净度(注意清洁方法与清洁辅料与更换周期); 2 研磨完品表面手指痕、口水痕、其他污染即时去除;
AYsiaSTRqW 2 手工返修处理(研磨粉、CaCO3+干油等擦拭);
yF@72tK Ø 试验/验证:
@B9O*x+n: 2 镀前反射光下“哈汽法”确认,
b NR@d'U 2 镀后不可擦拭
~9Cw5rwH<; 4、 膜下ヤケ:
"?S>}G\ Ø 对策/处理:---- 镀前处理
KMP[Ledr 2 研磨条件变更(考虑材质对研磨液等调整)
zn#lFPj12 2 考虑材质调整研磨工艺:
*hlinQKs n 采取研磨后直接镀膜工艺:
9S/X ,|i 芯取à研磨à手工擦拭、检查à镀膜;
D!rD-e n 采取易ヤケ面后加工工艺(避免多片加工、采取单元一个流作业等);
\2[sUY<W n 缩短研磨后到镀膜的时间(检查前置、免洗净);
S
N;1F n 研磨完品清擦(吸水棉布,擦拭后达可镀清洁度),二次清擦法,及时更换擦布;
Z)!#+m83>- n 已擦拭好研磨完品防潮、防湿(研磨后立即泡IPA,卤素灯烘干+PE袋+干燥剂等);
ODCv^4}9 n 先镀易ヤケ面
3B5 `Y 2 洗净处理(考虑材质及镜片形状对洗净条件进行调整,如洗净液、镜片放置方向等)
0)Q*u 2 手工处理(研磨粉、CaCO3+干油等擦拭)
UL0n>Wa5 Ø 试验/验证:
'<1Q;3Ho 2 通过手工处理确认镀后品质
f{+X0Oj 2 镀前强光灯下可见、哈气法检查
{)wl`mw3 5、 膜色ヤケ:
/NUu^ N Ø 对策/处理:
Gdv{SCV 2 镀膜工艺改进(膜层致密度提高(蒸发速率、基底温度、离子源使用、实际真空度、镀膜膜料、真空室的洁净度));
%
|G"ZPO? 2 使用高能离子去除表面残留污染,例如:使用SHINCRON SID-1100镀膜;
Lm7fz9F% 2 镀前、镀后烘烤时间加长 2 镀后完品防尘、防湿 Ø 试验/验证: 2 一般擦拭不变化(研磨粉、CaCO3擦拭变化,膜层破坏)
UUEbtZH; 2 放置变化(变重/消失)
qJK-HF:# 6、 雾状:
hx
hs>eY Ø 对策/处理:
C^ZDUj` 2 砂挂加工条件改善(钻石粒粒度、时间、压力条件、两支加工调整等)
d(F4-kBd à 确保砂挂完品表面粗糙度);
AH|'{ 2 研磨条件变更(加工时间、研磨纸、研磨液、压力条件等)
+?^lnoX à 确保研磨完品表面粗糙度);
8X)1bNGqhe 2 研磨完后追加黑毛纸抛光;
+^3
*Y"6Z 2 洗净条件改善(洗剂、时间、温度等);
+m4?a\U 2 镀膜第一层加AL2O3等,离子源电压(160V~120V)调整,与离子电流密度增加,离子源反应气体流量适当增加;
zTg&W7oz 2 膜层致密度提高;
J=B,$4)9 Ø 试验/验证:
'Ooq.jaK;/ 2 对不同粗糙度的砂挂完品试验,确认砂挂外观对研磨完品的影响程度
t'* 2)U 2 通过手擦、洗净两种工艺后的品质确认洗净的影响程度
vPM2cc/o 7、 黑ヤケ
j1K?QH=e#{ Ø 反射光检查
D)bR-a_^ Ø 对策
X!K:V~WG 2 镀膜时O2的增加
[='<K 2 研磨液残留及时去除,表面脏污及时清理
Z4{~ 8、 :细伤痕
C8$/z>tQ Ø 同雾状
vg\fBHzn 9、 水纹ヤケ
W <M\b# Ø 更换烘干剂
# N'_~:H 以上