亚克是日语ヤケ的音译，是变色的意思，光学工厂把这个疵病认为是印子，疵病代号206。我找到了一篇文章，对此解释的比较全，推荐如下：
镜片常见不良及解决思路
*qu5o5Q ヤケ（腐蚀、发霉、压克）
n w_s : 定义： 镜片表面被腐蚀。在对策时一定要区分是ヤケ还是脏污，才能找出真因。
.PV(MV 前言： 光学玻璃的结构:以硅酸盐为主（SiO3 ）加上 Mg(镁) Ba（钡 ） K（钾） La （钄） Pb（ 铅）等几十种离子混合而成。而Mg(镁) Ba（钡 ） K（钾） La （钄） Pb（铅）等是活性金属离子，它们是用来调节镜片的折射率（nd）、色散系数(vd)的添加剂.按理论分析正常状态的玻璃的结构是具有均匀性、混合地分布各种离子、离子键及化学键。但在加工过程中受各种因素的影响而使镜片结构发生变化（形成硅酸溶胶）。
d2TIG<6/ ヤケ定义： ヤケ即腐蚀、发霉，指镜片研磨完品或膜层上形成化学腐蚀层，从而从镜片表面看与正常状态有颜色差异。ヤケ大致可以分为膜上ヤケ和膜下ヤケ。下列为常见的几种现象：
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几种相关名词：
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1镀前ヤケ（镜片表面本身污染/水分残留/溶剂残留，镀前已可见）
: dNJ2&kJ Ø 镜片在研磨过程中研磨液（研磨液通常PH值6.5~7.5但在加工过程会发生，由于硅酸盐、金属离子与研磨液发生化学反应，造成PH值变化）对镜片的腐蚀，镀前反射光可见灰暗不同现状的痕迹；
:@a0h Ø 镀前透过光检查为白色雾状；
+TX4," Ø 研磨完品未及时进行清洗（或擦拭），研磨残留（研磨液或水）对镜片的腐蚀；
bZr,jLEf Ø 清洗后镜片暴露空气接触水分等太长，镜片受腐蚀；
n_:EWm$\ Ø 洗净烘干时水分残留；
v+}${h9 Ø 擦拭时后的溶剂残留；。
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L 2、 镀膜色差：（非ヤケ，镀前不可见）
wS+!>Q_]w Ø 因镜片放置在镀膜伞的不同位置，基底温度不均匀；造成镀膜伞上、中、下膜色差异； Ø 镀膜蒸发源偏离原有设定位置，造成在镀膜伞上中下蒸发膜厚不均匀；
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@% Ø 镀膜使用离子源时，离子覆盖的范围没有调整合适，离子流密度不均匀造成；
v??$z#1F3 3、 膜层脏污：（非ヤケ，镀前不可见）
'IT]VRObP Ø 膜下脏，指镀前未处理干净，镀膜后形成明显的膜色差异，透过光可见。
EJRkFn8XG' Ø 膜上脏，包括普通可擦拭的脏和难擦拭的脏污；镀膜真空室长期未清洁（洁净度差），膜层致密度低，灰尘、脏污粘付到膜层上时难以擦拭；镀膜后膜层污染，经高温环境后形成膜层脏污；
z R <fz Ø 因镜片表面研磨表面Ra（粗糙度）大，镀膜前擦拭可感觉有涩感；镀膜后擦拭表面形成雾状，经超声波洗净后OK；
}"SqB{5e( 4、 膜下ヤケ：
D[}^G5 Ø 白ヤケ：镀后在透过光下能见白色雾状层，为镀前产生；镜片表面残留物（研磨保护漆）在真空室经高温烘烤分解，在表面形成白雾层，可用溶剂擦拭去除；镀前不可见；
TD %L`Gk Ø 镜片表面富含透明残留物经高温烘烤后，与镜片发生反应形成表面剧烈腐蚀；镀前不可见；
@WJ\W `P Ø 色ヤケ：研磨后不明显，镀膜放置后加重；镀前不可见
:KR
KD Ø 色斑： 研磨涂保护漆前已研磨好表面残留的水痕、研磨液没有及时去除彻底，涂好保护漆经高温烘烤好在表面形成腐蚀痕；
I>##iiKN 5、 膜色ヤケ：
C/H; |3. X Ø 由于膜料特性及镀膜工艺不稳定造成膜层致密性差，镀后吸收水份与O2离子，擦拭无明显变化，烘烤或放置一段时间后会变严重或消失；
z&Aya*0v` 可通过测试高温与低温时分光曲线的变化（差异小于20nm）显现
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OE!`fd |i #06jIq Ø 膜层结晶时高温下受损（某一层膜厚太薄≤160A），膜料与基底发生反应，高温下再结晶时不均匀，形成局部分光特性变化；
}/h&`0z ` Ø 研磨在表面形成不同的折射率区域；
:Ocw+X3 Ø 镀膜真空室内油污严重，存在大量各类杂质气体，加热后吸附在镜片表面，造成膜层结晶粗糙，膜层在大气中吸附各类气体水分，形成局部分光特性变化，可通过测试高温与低温时分光曲线的变化（差异小于20nm）显现；
t`{T:Tjc Ø 已镀膜镜片在擦拭作业后表面残留的溶剂、水痕等没有去除干净，又放入高温环境下烘烤；
7S^G]g!x 6、 雾状：（非ヤケ）
$zU%?[J Ø 表面粗糙、半透明，主要因为材质软、研磨量不足或洗净时被化学溶剂腐蚀；
WUo\jm[yr Ø 镜片长期被酸碱强烈腐蚀
FvYciU! 7、 黑ヤケ
(xoYYO Ø 镀膜膜料金属氧化物失O2造成（与O2反应不充分，特别是在使用离子源的时候），镜片置于白色背景可见底色；置于富氧环境中高温烘烤后，黑色斑点消失；
bar=^V) Ø 多片研磨使用粘贴胶，没有彻底去除，
)B)f`(SA"< Ø 研磨液没有及时去除，镜片表面长期没有得到良好保护，点状腐蚀严重；
aWH 8、 细伤痕：（非ヤケ）
n\V7^ N Ø 研磨完品表面细（浅）、长、密的伤痕，主要因为材质软、砂挂残留、研磨量不足、研磨纸（粉）选择与配比不恰当，超洗加重潜伤等；
i pl,{ Ø 镜片表面研磨加工时由于研磨液（浓度、PH值、颗粒、温度）等影响，镜片表面在化学流布的作用下形成光滑表面，但超声波洗净后使潜在伤痕显现，同时伴有研磨液与洗剂的腐蚀；
Gi #-TP\ 9、 水纹印ヤケ
V0 # Ocq, Ø 洗净烘干时IPA纯度下降，（或其他烘干剂烘干效果不好）水份未及时蒸干；
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V Ø 洗剂与除油剂经过剩余其他洗槽没有去除彻底，表面残留较多；
Hb::;[bm: Ø 镜片表面水分与残留雾在真空室内，经高温解析后形成H＋/OH-，在镜片表面蒸发与凝结形成表面轻微腐蚀
Dte5g),R ヤケ关联图
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Gk/cP` yP>025o't 通常处理思路：
7S&$M-k 一. 目前所有对策都是加快流程，杜绝人为造成镜片表面的污染（手指痕、口水痕、其他污物）；降低表面洁净镜片暴露于大气中被腐蚀的时间；提高膜层致密度；
&"I csxG 1、 镀前ヤケ：
^]'_Qbi]} Ø 检查方法：
R dwt4A+ 2 反射光下“哈汽法”确认有无残留点状痕迹/水纹印；
?w'86^_z 2 强光灯下确认有无脏污/白ヤケ；
g>;@(:e^/ 2 日光灯反光确认镜片有无黑ヤケ；
ZTz07Jt 2、 镀膜色差
ciiI{T[Z Ø 对策/处理： 2 镀膜均匀度调整（镀膜专业人员）
-W<1BJE 2.1.膜色ヤケ
%=Z/Frd Ø 对策: 2 砂挂条件变更（钻石粒粒度、时间、压力条件、两支加工调整等）à 确保砂挂完品表面粗糙度）； 2 研磨条件变更（加工时间、研磨纸、研磨液（PH、浓度、颗粒度）、温度、压力条件等）à 确保研磨完品表面粗糙度）； 2 研磨完品在取出后即时清洁表面残留研磨液与水分，保持表面的洁净度（注意清洁方法与清洁辅料与更换周期）； 2 镀前处理：使用手工表面返修（单轴机手工返修） Ø 试验/验证： 2 通过反射光下“哈汽法”，镀前检查确认表面光洁度； 2 使用透过光旋转检查研磨表面有无白雾、表面研磨刷子状痕迹； 2 通过镀前处理（手工返修）后镀制来验证研磨完品表面质量；
CfSP*g0rW 3、 膜层脏污：
;b~\ [ A、膜上脏污：
3)6 - S Ø 对策/处理：
V $w
lOMp 2 膜系调整（如加镀SiO2，膜表面品质提升）；
noL9@It0 2 镀后延长烘烤时间，与镀膜使用离子源辅助镀膜（表面致密度提升）；
!U>WAD9 2 镀后防尘措施（改善存放环境，降低泄大气前镜片温度，保持真空室内洁净度）；
dFDf/ tH 2 防止镀膜后加工工序形成表面污染，如涂墨高温烘烤与粘合UV固化加重污染，造成表面脏污；
;RX u} pd 2 试验/验证：
qIQRl1Tw;V 2 擦拭变化，可擦拭与超声波清洗去除；
SY[3O B、膜下脏污：
O !{YwE8x9 Ø 对策/处理：---- 镀前处理
u:2Ll[ eo 2 洗净处理（确认洗剂浓度与PH值，提高超声波强度，延长洗净时间，特殊洗净工艺）；
zBTW& 2 研磨完品在取出后即时清洁表面残留研磨液与水分，保持表面的洁净度（注意清洁方法与清洁辅料与更换周期）； 2 研磨完品表面手指痕、口水痕、其他污染即时去除；
uC#@qpzy 2 手工返修处理（研磨粉、CaCO3+干油等擦拭）；
;H.V-~:P) Ø 试验/验证：
mfaU_Vo& 2 镀前反射光下“哈汽法”确认，
_p+E(i 9 2 镀后不可擦拭
%)?jaE}[ 4、 膜下ヤケ：
eh `%E0b} Ø 对策/处理：---- 镀前处理
h]k $K 2 研磨条件变更（考虑材质对研磨液等调整）
`o295eiY(b 2 考虑材质调整研磨工艺：
Z [d13G; n 采取研磨后直接镀膜工艺：
4C%p KV 芯取à研磨à手工擦拭、检查à镀膜；
z'& fEsjy n 采取易ヤケ面后加工工艺（避免多片加工、采取单元一个流作业等）；
fz :(mZ% n 缩短研磨后到镀膜的时间（检查前置、免洗净）；
_/no WwVu n 研磨完品清擦（吸水棉布，擦拭后达可镀清洁度），二次清擦法，及时更换擦布；
M3O !jN~ n 已擦拭好研磨完品防潮、防湿（研磨后立即泡IPA，卤素灯烘干+PE袋+干燥剂等）；
_ ` &l46 n 先镀易ヤケ面
$Oy&PO e 2 洗净处理（考虑材质及镜片形状对洗净条件进行调整，如洗净液、镜片放置方向等）
A$5 M. 2 手工处理（研磨粉、CaCO3+干油等擦拭）
Q
N#bd~ Ø 试验/验证：
2~?E' 2 通过手工处理确认镀后品质
%kV7 <:y 2 镀前强光灯下可见、哈气法检查
LlO8]b!P-^ 5、 膜色ヤケ：
y^`JWs, Ø 对策/处理：
|?2fq& 2 2 镀膜工艺改进（膜层致密度提高（蒸发速率、基底温度、离子源使用、实际真空度、镀膜膜料、真空室的洁净度））；
BR@m*JGajz 2 使用高能离子去除表面残留污染，例如：使用SHINCRON SID－1100镀膜；
ceJi|`F 2 镀前、镀后烘烤时间加长 2 镀后完品防尘、防湿 Ø 试验/验证： 2 一般擦拭不变化（研磨粉、CaCO3擦拭变化，膜层破坏）
usD@4!PoA 2 放置变化（变重/消失）
-dBWpT 6、 雾状：
SnQT1U% Ø 对策/处理：
Wu/#} Bw# 2 砂挂加工条件改善（钻石粒粒度、时间、压力条件、两支加工调整等）
H4AT>}ri à 确保砂挂完品表面粗糙度）；
U].]K 2 研磨条件变更（加工时间、研磨纸、研磨液、压力条件等）
L}Y.xi à 确保研磨完品表面粗糙度）；
R=Li B+p 2 研磨完后追加黑毛纸抛光；
% J^x `P 2 洗净条件改善（洗剂、时间、温度等）；
o#,^7ln 2 镀膜第一层加AL2O3等,离子源电压（160V～120V）调整，与离子电流密度增加，离子源反应气体流量适当增加；
8mKp PwG0 2 膜层致密度提高；
aW&)3C2-x Ø 试验/验证：
U>f'j;5 2 对不同粗糙度的砂挂完品试验，确认砂挂外观对研磨完品的影响程度
~Q]5g7k=& 2 通过手擦、洗净两种工艺后的品质确认洗净的影响程度
cS9 jGD92 7、 黑ヤケ
-"dt3$ju Ø 反射光检查
~;#} aQYo Ø 对策
G#7(6:=;,` 2 镀膜时O2的增加
%8tE*3iUF 2 研磨液残留及时去除，表面脏污及时清理
> ]^ 'h 8、 ：细伤痕
0zB[seyE Ø 同雾状
O.( 2 9、 水纹ヤケ
t j[E !
Ø 更换烘干剂
}QE*-GVv] 以上
