[原创]如何分析部分干涉成像系统 （光刻机成像系统） [复制链接]

如何分析部分干涉成像系统 （光刻机系统） sr(nd35  
\pSRG=`  
在光刻应用中，所使用的光源不是完全相干的，如何在晶片上分析部分相干成像系统中的掩模? N3oa!PE  
在这里给大家分享一个案例， 希望可以帮到大家。     dk]A,TB*2  
   U:[CcN/~3  
cjd-B:l  
这里是一步一步的如何在ZEMAX 中操作：https://sot.com.sg/coherent-imaging/ @uG/2'
B(  
       x;LO{S4Z  
这里是案例的ZEMAX 文件： 备注： 我用的ZEMAX 是20年版本， 如果您版本过低，可能无法正常打开， 请谅解！ B7oUS}M  
%Q;:nVt  
如果不能打开文件， 请告知我， 我转发给你。   $*Wa A`(U  
?wn<F}UH  
回帖是对我分享的一个鼓励， 谢谢回帖！  

感谢分享！

感谢分享！

感谢分享   &._Mh  

呦西呦西

好东西谢谢

谢谢分享 学习学习 /~?[70B}E  

感谢分享

哇偶，正好需要 a4q02 cV  

学习一下，学做尚光人。 J]Q-#g'Z