[原创]如何分析部分干涉成像系统 （光刻机成像系统） [复制链接]

如何分析部分干涉成像系统 （光刻机系统） LS <\%A}  
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在光刻应用中，所使用的光源不是完全相干的，如何在晶片上分析部分相干成像系统中的掩模?
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在这里给大家分享一个案例， 希望可以帮到大家。     e+Vn@-L;  
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这里是一步一步的如何在ZEMAX 中操作：https://sot.com.sg/coherent-imaging/ IN~Q(A]Z%  
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这里是案例的ZEMAX 文件： 备注： 我用的ZEMAX 是20年版本， 如果您版本过低，可能无法正常打开， 请谅解！ imC>T!-7  
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如果不能打开文件， 请告知我， 我转发给你。   LR%]4$ /M  
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呦西呦西

好东西谢谢

谢谢分享 学习学习 ^]k=*>{ R  

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哇偶，正好需要 eI
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学习一下，学做尚光人。 }F-,PSH Ml