如何分析部分
干涉成像系统 (光刻机系统)
o:'MpKm Of#u 在光刻应用中,所使用的
光源不是完全相干的,如何在晶片上分析部分相干成像系统中的掩模?
{dlXLx!B 在这里给大家分享一个案例, 希望可以帮到大家。
f'RX6$}\1X |>^JRx |YWD8 + 这里是一步一步的如何在
ZEMAX 中操作:
https://sot.com.sg/coherent-imaging/ V1zmG y Dx?,=~W9 这里是案例的ZEMAX
文件: 备注: 我用的ZEMAX 是20年版本, 如果您版本过低,可能无法正常打开, 请谅解!
`$9x 1dx Hvi49c]] 如果不能打开文件, 请告知我, 我转发给你。
&6!)jIWJ *N<]Xy@ 回帖是对我分享的一个鼓励, 谢谢回帖!