微纳米结构分析FIB介绍

微纳米结构分析FIB介绍： TaB35glLY  
电子光学 y?aOk-TaRA  
NICo非浸没式超高分辨率场发射扫描镜筒，配有: *Qg/W?"m  
· 高稳定性肖特基场发射电子枪，用于提供稳定的高分辨率 分析电流 I\DT(9 'E  
· 60 度双物镜透镜，支持倾斜较大的样品 ou-5iH?  
· 自动加热式光阑，可确保清洁和无接触式更换光阑孔 5R,/X  
· 连续电子束电流控制和优化的光阑角度 Hj;j\R >2  
· 电子枪安装和维护简单 自动烘烤，自动启动，无需机械合轴 <  v_?}  
· 两级扫描偏转 zYj8\iER  
· 双物镜透镜，结合电磁透镜和静电透镜 Qo{^jDe,c*  
· 快速电子束闸* AC(}cMM+  
· 用户向导和镜筒预设 /)y~%0
 
· 电子源寿命至少24个月 mrd(\&EhA  
电子束分辨率 Ar=pzQ<Z{  
zui佳工作距离下 ;nv4lxm  
· 30keV 下 STEM  0.7nm |g4!Yd
 
· 1keV 下 1.4nm 15keV 下 1.2nm >1mCjP  
· 1keV下 电子束减速模式 0.99nm* K|Yr  
+V7*vlx-  
电子束参数 k2*^W&Z  
· 电子束流范围（数显，连续可调）：1pA  400nA ?^IM2}(p  
· 加速及着陆电压：20V-30KV(连续可调) NCSb`SC:  
· 放大倍数范围：40x-1200x |vWx[=`o  
· zui大水平视场宽度：7mm工作距离下为3.0mm，60mm工作 距离下为7.0mm，样品台到束交叉点85mm .Fh5:WN  
· 导航蒙太奇功能可额外增大视场宽度 vC J