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Essential Macleod 是一套完备的光学薄膜分析与设计的软件包，可以在所有 64/位32 位的Microsoft Windows操作系统下运行，并且具有真正的多文档操作界面；它能满足光学镀膜设计中的各种要求，从简单的单层膜到严格的分光膜；也能对波分复用（WDM）和密集波分复用（DWDM）滤波片进行测评；可以从头开始设计也可以优化已有的设计；可以勘测在设计中的误差，也可以萃取设计用到的光学薄膜常数。 . -"E^f
O {k:yVb  [ut#:1h^ Essential Macleod核心模块的功能 DJQglt}~ Gy@ 7Xf •计算给定膜系的特性 ^*^/]vM
df=z F.5 •对给定特性目标要求优化膜系设计 cg j.e P|^$k K •维护材料的光学常数 `BnP[jF n+D#k 8{ •对已有设计进行分析 y1BgK>R 2D([Z -<i •膜系设计的合并分析 ~]8p _;\ Sd:.KRTu. Essential Macleod可扩展的功能 !Zbesp KZ .h;Se Runsheet ^GYq#q9Q TRKgBK$, 这个工具可设计镀膜制程，包含机器配置编辑器以及跑单生成器。机器配置中贮存了镀膜机的详细设置，材料源以及制具因子（Tooling）以及监控系统。使用者可使用跑单生成器对既定的机器配置，进行镀膜设计的监控规划。该工具除了可同时具备光学与晶体监控功能外，还具备诸如动态加工因子和系统带宽等高级特性。 Z,WW]Y,$ idJh^YD Simulator [}3cDR ~4)Y#IxL 对于公差问题， Simulator 通过蒙特卡罗（Monte Carlo）法在实际模型控制过程的扩展来进行解决。通过一个由 Runsheet 创建的控制计划， Simulator 可模拟薄膜淀积控制，引入随机和系统效应，例如信号噪声，加工因子的变动，封装密度误差等等，以及显示这些参数对于镀膜制程的最终模拟结果的效应。 OCHm; hteOh#0{ Monitorlink =Mhg P 4;{jG Monitorlink提供将Runsheet连结到一个淀积控制器的额外软件。一个独立的程序与控制器直接连接，而且一个 Runsheet 的扩展也赋予其产出和编辑淀积程序的功能。 ZM~`Gd9K0E VStack 1. SkIu% H_X?dj15 VStack 是一种计算与优化的工具﹐它也能计算这些系统中斜射光的效应。当光束斜入射时，初始为 p- 偏振态的光线最终会以 p - 偏振态从系统出射。同理，原本是 s - 偏振态光也会以 p - 偏振态出射，我们称此为 偏振泄漏 (polarization leakage) 现象。 VStack 能计算泄漏的大小而且提供泄漏元件的 Delta 值。 [[qwaI K!b8= K` Function Sue
6+p 2z98 3^ 一些法向反射﹑透射，或是相位的计算通常需要非常庞大的计算量才能求得结果。电子数据表并不是一种合适的解法，一方面因为它不方便进行插值操作，另一方面在处理不同数量的数据组字时会有困难。但 Function 可以完全自动计算，其简单宏指令中的操作 ( 具有内建的编辑器和语法检查器 ) 能允许一再重复相同的计算。 [F| +(} B4O6> ' DWDM Assistant Q
@2(aR }f }IA\8] DWDA Assistant 可自主设计一组多腔滤波片，以满足用户的不同规格，设计结果可以根据一些诸如总厚度、预计淀积时间等等规范排序。 )o8g=7Jm C(,=[Fi-
VjTe4$ * 原文链接：http://www.infotek.com.cn/html/7/20130114356.html j
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