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Essential Macleod 是一套完备的光学薄膜分析与设计的软件包,可以在所有 64/位32 位的Microsoft Windows操作系统下运行,并且具有真正的多文档操作界面;它能满足光学镀膜设计中的各种要求,从简单的单层膜到严格的分光膜;也能对波分复用(WDM)和密集波分复用(DWDM)滤波片进行测评;可以从头开始设计也可以优化已有的设计;可以勘测在设计中的误差,也可以萃取设计用到的光学薄膜常数。 q{7+N1
" +b{tk=Q: R#/0}+-M Essential Macleod核心模块的功能 [O6JVXO> 83Fmu/( •计算给定膜系的特性 7Y^2JlZu=
0|?DA12Z •对给定特性目标要求优化膜系设计 Chtls;Ph[ mMad1qCi7 •维护材料的光学常数 wA6<BujD JwUz4 •对已有设计进行分析 8HdjZ! OPDRV\ •膜系设计的合并分析 {|tMN,Z |LE*R@|3$ Essential Macleod可扩展的功能 ?gS~9jgcd 1@`mpm#Y Runsheet Fw6x
(j" }do=lm?/ 这个工具可设计镀膜制程,包含机器配置编辑器以及跑单生成器。机器配置中贮存了镀膜机的详细设置,材料源以及制具因子(Tooling)以及监控系统。使用者可使用跑单生成器对既定的机器配置,进行镀膜设计的监控规划。该工具除了可同时具备光学与晶体监控功能外,还具备诸如动态加工因子和系统带宽等高级特性。 qox@_ \p!mX| Simulator 9Oc(Gl5az =z2g}X 对于公差问题, Simulator 通过蒙特卡罗(Monte Carlo)法在实际模型控制过程的扩展来进行解决。通过一个由 Runsheet 创建的控制计划, Simulator 可模拟薄膜淀积控制,引入随机和系统效应,例如信号噪声,加工因子的变动,封装密度误差等等,以及显示这些参数对于镀膜制程的最终模拟结果的效应。 ( z.\,M 3yM!BTlX Monitorlink $p.0[A(N mQ:5(]v Monitorlink提供将Runsheet连结到一个淀积控制器的额外软件。一个独立的程序与控制器直接连接,而且一个 Runsheet 的扩展也赋予其产出和编辑淀积程序的功能。 y?V#LW[^E VStack m# I m[& |