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Essential Macleod 是一套完备的光学薄膜分析与设计的软件包，可以在所有 64/位32 位的Microsoft Windows操作系统下运行，并且具有真正的多文档操作界面；它能满足光学镀膜设计中的各种要求，从简单的单层膜到严格的分光膜；也能对波分复用（WDM）和密集波分复用（DWDM）滤波片进行测评；可以从头开始设计也可以优化已有的设计；可以勘测在设计中的误差，也可以萃取设计用到的光学薄膜常数。 [a1}r=6~
q P>Gre  nc%ly * Essential Macleod核心模块的功能 v#`P?B\ Mo+ H LN •计算给定膜系的特性 LP:C9 Ol\ EK}f-Xei •对给定特性目标要求优化膜系设计 vc(6lN9> Ot_ xeg;7 •维护材料的光学常数 @~<M_63 ySwvjP7f •对已有设计进行分析 AW:WDNQh8n S[cVoV •膜系设计的合并分析 ``mW\=fe |^E# cI Essential Macleod可扩展的功能 bI~(<-S~K ?yt" Runsheet D +vHl} fhp][)g; 这个工具可设计镀膜制程，包含机器配置编辑器以及跑单生成器。机器配置中贮存了镀膜机的详细设置，材料源以及制具因子（Tooling）以及监控系统。使用者可使用跑单生成器对既定的机器配置，进行镀膜设计的监控规划。该工具除了可同时具备光学与晶体监控功能外，还具备诸如动态加工因子和系统带宽等高级特性。 NI 136P gyW##M@{ Simulator \[w 82%U y2eeE CS] 对于公差问题， Simulator 通过蒙特卡罗（Monte Carlo）法在实际模型控制过程的扩展来进行解决。通过一个由 Runsheet 创建的控制计划， Simulator 可模拟薄膜淀积控制，引入随机和系统效应，例如信号噪声，加工因子的变动，封装密度误差等等，以及显示这些参数对于镀膜制程的最终模拟结果的效应。 ZKa.MBde
T!N,1"r Monitorlink Y8 a![ &Rx-zp&dJ Monitorlink提供将Runsheet连结到一个淀积控制器的额外软件。一个独立的程序与控制器直接连接，而且一个 Runsheet 的扩展也赋予其产出和编辑淀积程序的功能。 0SBiMTm VStack Iz\I Qa ?5 ! >k^q VStack 是一种计算与优化的工具﹐它也能计算这些系统中斜射光的效应。当光束斜入射时，初始为 p- 偏振态的光线最终会以 p - 偏振态从系统出射。同理，原本是 s - 偏振态光也会以 p - 偏振态出射，我们称此为 偏振泄漏 (polarization leakage) 现象。 VStack 能计算泄漏的大小而且提供泄漏元件的 Delta 值。 :kDHwYv$ [/ E_v gZ Function 3yu{Q z5y, BJI
R !J 一些法向反射﹑透射，或是相位的计算通常需要非常庞大的计算量才能求得结果。电子数据表并不是一种合适的解法，一方面因为它不方便进行插值操作，另一方面在处理不同数量的数据组字时会有困难。但 Function 可以完全自动计算，其简单宏指令中的操作 ( 具有内建的编辑器和语法检查器 ) 能允许一再重复相同的计算。 z`D;8x2b w|>O!]K] DWDM Assistant "p~1| ?T jnuovM!x~ DWDA Assistant 可自主设计一组多腔滤波片，以满足用户的不同规格，设计结果可以根据一些诸如总厚度、预计淀积时间等等规范排序。 cO"7wgg W=R u? sG=
tc@([XqH 原文链接：http://www.infotek.com.cn/html/7/20130114356.html 7usf^g[dh `}^_> 购买与相关软件试用请联系QQ：1824712522 t F<|Eja *
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