【Zemax 免费网络研讨会】OpticStudio 中的高良率优化功能

发布:zemax官方 2019-11-26 15:09 阅读:2652
Zemax China 将于 2019 年 12 月 05 日(周四),上午 10:00-11:00,在线举办免费网络研讨会——OpticStudio 中的高良率优化功能,欢迎注册参加! byetbt(IF  
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注册地址:马上报名 A/w7 (  
注册后请注意查收您的邮箱,会有确认邮件发送至您的邮箱。 g6~B|?!  
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简介:在对光学系统批量加工的背景下,生产良率往往直接关系到系统的加工成本。在以往的设计方式中,自动优化过程仅能为我们提供性能最佳的系统,而无暇考虑系统因为公差灵敏度引起的性能下降,使得最佳系统并不等于最佳可加工系统,导致整体良率下降。使用OpticStudio中全新的高良率优化后,您将可以在自动优化过程中考虑公差灵敏度的影响,使得优化得到的系统具有极高的生产装配性,达到提升加工良率的目的。  pu?D^h9/  
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本次研讨会我们会主要介绍以下内容: eY#_!{*Wn  
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· 高良率优化的意义 2UJjYrm  
· 如何在OpticStudio中使用高良率优化 OX[pK_:`l  
· 常规优化 vs 高良率优化 t,vj)|:  
· 高良率优化的优势 ]'!$T72  
· 从技术层面了解高良率优化· 高良率优化的适用情景 [/IN820t  
欢迎参加! ?A`8c R=)I  
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备注:网络研讨会使用的软件为GoToWebinar 若您是第一次使用该软件,请在会议开始前20分钟下载并安装(点击注册地址,填写完您的信息后,网站自动跳转至GoToWebinar,若您的电脑没有安装过此软件,网站会自动提醒您下载并安装)。 该软件可免费使用。   \:@yfI@  
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Zemax China | 斯迈光学技术咨询(上海)有限公司
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最新评论

2009rmrich 2021-04-13 09:47
请问如何能浏览这个视频?二维码扫进去显示无法观看
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